【課題】汚れた洗濯物を効果的にクリニング出来る技術により、環境浄化に寄与するクリニング洗浄組成物及び洗濯方法を提供する。
【解決手段】石鹸１、微生物２および、酵素３さらに過酸化水素水４とカホウ酸５、酸素系漂白剤９を加えて、そして洗濯水６に混入して、これらを加温して保ち、洗濯機のドラム８内で、よく混合撹拌させて、洗浄組成物７を形成し、この中に洗濯物１０を投入して、洗濯を実施する。 （もっと読む）

【課題】各種飲食料品の製造設備に付着したフレーバー、特にパッキン等に付着したフレーバーを効率よく除去し、且つすすぎ性が良好なＣＩＰ用脱臭剤組成物およびＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物ならびにこれらを用いた脱臭洗浄方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）シクロデキストリン、（Ｂ）エーテルカルボン酸またはそのアルカリ塩、（Ｃ）非イオン界面活性剤、（Ｄ）可溶化剤および（Ｅ）水を含有することを特徴とするＣＩＰ用脱臭剤組成物、さらに（Ｆ）無機酸および／または有機酸（ただし、高級脂肪酸を除く。）を含有するＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物を用いる。また、上記脱臭剤組成物と、市販の酸性ＣＩＰ洗浄剤とを混合調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液、あるいは、上記脱臭洗浄剤組成物を用いて、各種飲食料品の製造設備における酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うことを特徴とする洗浄方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】家庭で行われる手洗い洗濯時の被洗浄物に、適度なスベリ性を与え、洗濯液中で衣類に滑らかな感触を付与することで、「ざらつき」、「きしみ」といった不快因子や肉体的な疲労感が低減し、ハンドケアや洗浄物のケア性能を有する洗剤組成物を提供すること。
【解決手段】粘度平均分子量が１５０万以上４５０万以下であり、単量体単位の９０質量％以上がエチレンオキサイドであるポリマーを、０．０３質量％を越えて５質量％以下含有する手洗い洗剤組成物。 （もっと読む）

マイクロエレクトロニクスデバイス基板上の小さい寸法からの粒子汚染物を洗浄するための洗浄組成物。洗浄組成物は、高密度ＣＯ_２（好ましくは超臨界ＣＯ_２（ＳＣＣＯ_２））、アルコール、フッ化物源、アニオン界面活性剤源、非イオン界面活性剤源および任意にヒドロキシル添加剤を含有する。洗浄組成物は、Ｓｉ基板／ＳｉＯ_２基板上に粒子状汚染物を有する基板の損傷のない且つ残留物のない洗浄を可能にする。
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【課題】
製品表面の清浄化を行うとともに、被膜を形成して製品表面を保護する清浄コート剤において、被膜自体を汚れにくくするとともに、何時でも何処でも手軽に使用できるようにすること。
【解決手段】
変性シリコーンオイルと溶剤とを含有し、当該清浄コート剤１１が塗布される塗布面１２を清浄化するとともに、該塗布面１２上に被膜１４を形成する清浄コート剤１１であって、上記被膜の電荷平均を０にする、又は０に近づける荷電化剤を含有した清浄コート剤１１。 （もっと読む）

【課題】
微生物付着抑制効果を奏するコンタクトレンズのケア方法及びケア用組成物を提供すること。
【解決手段】
ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、および緩衝剤を含有するコンタクトレンズケア用組成物中に、コンタクトレンズを一定時間以上浸漬することを特徴とするコンタクトレンズ又はコンタクトレンズケースへの微生物付着抑制方法。 （もっと読む）

【課題】 塗布使用に適切な高粘度でありながら、希釈時に速やかに分散・溶解し、被洗浄物にダメージを与えず、希釈時にｐＨが上昇し洗浄力を高める液体洗浄剤組成物及び洗浄方法の提供。
【解決手段】 （ａ）過酸化水素、（ｂ）オキシアルキレン基を有する非イオン界面活性剤、（ｃ）ホウ素化合物、（ｄ）（ｅ）成分以外のポリオール化合物、（ｅ）アルキルグリコシド及び（ｆ）水を含有し、組成物中の（ａ）成分の含有量が０．１〜１０質量％、（ｂ）成分の含有量が３〜４０質量％、（ｃ）成分の含有量が０．０１〜２０質量％、（ｄ）成分の含有量が０．１〜３０質量％、（ｅ）成分の含有量が０．１〜１０質量％、（ｆ）成分の含有量が３０〜９５質量％である液体洗浄剤組成物、並びにこの液体洗浄剤組成物を被洗浄物に塗布した後、該液体洗浄剤組成物を水で希釈する洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】本願発明は、火災や爆発等の災害を生じるおそれがなく、洗浄液を繰り返して使用でき、かつ、ポンプ等の動力を使用せず、被洗浄物から除去した汚れ成分の廃棄に際しても洗浄液の混入を極力押えた電気部品、機械部品等の洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本願発明に係る洗浄方法は、アセトンが９２質量％ないし８８質量％を占めるアセトンと水との混合液を第１の槽で加熱して沸騰させ、部品を納置した第２の槽にこの沸騰液を噴射させてフラッシュ洗浄し、フラッシュ洗浄後の混合液を冷却後にアセトンが４０質量％ないし２０質量％を占めるアセトンと水との混合液と混合して蒸留し、この蒸留液を再度洗浄液として使用する一方、汚れ成分を含んだ残留液を廃棄することとした。 （もっと読む）

汚れた皿を洗浄するための発泡性製品の使用及び手洗いによる汚れた皿の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】Low-k膜残渣ポリマー及びレジストの除去液及び除去方法を提供する。
【解決手段】二酸化炭素と、フッ素系カルボン酸およびスルホン酸化合物からなる群から選択される少なくとも１種の洗浄成分を含む、比誘電率ｋが2．４以下の層間絶縁膜のエッチング後に残るポリマー及び／又はレジスト残渣を洗浄するための、液体、亜臨界または超臨界二酸化炭素系での洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】洗剤による食器類洗浄後のすすぎ水によるすすぎで、リンス剤の添加なしに、清潔で汚点やすじ状汚れのない食器洗浄方法を提供する。
【解決手段】（ａ）食器類を重量にして水性希釈液１００万部あたり２５０〜３０００部のアルカリ性食器洗浄洗剤を含む水性洗浄組成物と接触させ、
前記洗剤は、（ｉ）１０〜６０重量％の炭酸ナトリウム、及び（ii）Ｃ_10-14アルキル−Ｏ−(ＥＯ)₁₂−ベンジル、Ｃ_10-14アルキル−Ｏ−(ＥＯ)_12.4−ベンジル、及びＨＯ−(ＰＯ)₁₈−(ＥＯ)₁₄−(ＰＯ)₁₈−Ｈ（ここで、ＥＯがオキシエチレン、ＰＯがオキシプロピレン）の非イオン性界面活性剤を含むリンス剤２０〜４０重量％を含み、
（ｂ）水性残留物を除去する目的で、意図的に添加されるリンス剤を実質的に含まない前記洗浄済みの食器類を意図的に追加添加されるリンス剤を実質的に含まない飲用水水性リンスと接触させる食器類洗浄方法。 （もっと読む）

少なくとも４級アンモニウム水酸化物と、水溶性有機溶剤と、水と、防食剤と、全量に対し１質量％以下の水酸化カリウムとを含むように剥離洗浄液。半導体基板から、単独でレジスト膜、埋め込み材、金属の残渣物等を有効に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】 より高い洗浄効果が得られる洗浄方法を提供する。
【解決手段】 （ｉ）泡形成機構を有し、（ii）吐出口の吐出面積が０．３〜１．０ｍｍ²であり、（iii）１回のストロークで０．３〜０．７ｇの内容物を吐出するトリガー式スプレーヤーにより、液体洗浄剤を、特定の線速度条件で対象物に噴霧する。 （もっと読む）

【解決手段】基板をH₂SiF₆またはHBF₄；有機溶媒；アミン；腐食防止剤；および水を含有する組成物と接触させる工程を含む低誘電率（Low-k）の誘電体を含有する基板からエッチング残留物をクリーニングする方法であって、ここで前記組成物はエッチング後の残留物を剥離し、酸化物の損失を最小にでき、該組成物のpHが7未満である方法。 （もっと読む）

本発明は、ボレート塩及び胞子（細菌又は真菌）、植物性細菌、真菌又は酵素を含む安定な固体クリーニング組成物と、当該組成物を用いる方法とに関する。 （もっと読む）

【課題】洗剤を、化粧用スポンジ類を洗う時、何で洗えば汚れが落ち、きれいになるか考えて、今出回っている洗剤類で済まさなければならないという不都合を、解決すること。
【解決手段】種類の一部を、又は全面的に改良又は開発することにより、この課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 清掃用具、特に含油清掃用具が合成繊維を含む場合でも、再汚染がなく、優れた洗浄性が得られる洗浄方法を提供する。
【解決手段】 複数の洗浄工程を有する清掃用繊維製品の洗浄方法であって、非イオン界面活性剤と水溶性キレート剤と再汚染防止剤と水とを含有し、ｐH８〜１１である第１の洗浄媒体を、７０℃未満の温度で清掃用繊維製品と接触させて洗浄する第１の工程を有する、清掃用繊維製品の洗浄方法。 （もっと読む）

内視鏡のような医療用器具を洗浄する洗浄装置であって、酵素を乾燥状態で使用することから発生する危険性を低減し、一方貯蔵の間酵素の活動を維持するために十分な水分が吸収されるのを確実にする量で存在するプロテアーゼ、アルカレーゼ、セルラーゼ、リポラーゼのような酵素、界面活性剤および湿潤剤を含有する成分が浸透された織布、拭き取り片、あるいはスポンジを含む洗浄装置である。洗浄装置は外科用器具の外側に附着した汚れの少なくとも一部を機械的に拭き取ることにより除去し、拭き取りしていない器具におけるよりもより薄くて、かつ均一な厚さの膜として分配されるように残留している何らかの外側の汚れを再分配するようにされている。本発明はまた、洗浄装置をパッケージ化すること、およびその使用方法にも関する。
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個々の洗濯物品を洗浄する前に個々の洗濯物品上の汚れを処理する方法であって、汚れと、取り囲み壁を有しかつ好ましくは粉末の形態にある洗浄組成物を含んだ洗濯洗浄剤を接触させる工程を含み、前記組成物は界面活性剤、漂白剤又はこれらの混合物を含み、壁が水及び水に溶解した成分に対して浸透性である方法。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスの表面を損傷させることなく微細なパーティクルを十分に除去すること。
【解決手段】有機溶剤を含む洗浄液を供給する洗浄液供給部５０と、高圧の窒素を供給する高圧窒素供給部４０と、供給された洗浄液を高圧窒素と混合させることで霧状にし、半導体ウエハＷに吹き付ける二流体ノズル３０とを備えている。 （もっと読む）