【課題】良好な洗浄力とすすぎ時の泡切れ性とすすぎ時の洗浄剤組成物の残留性を低減化できる濃縮タイプの液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）（式中、Ｒ^１は炭素数１１〜１３の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基またはアルケニル基であり、Ｒ^２は炭素数１〜３のアルキル基であり、ｎ１はエチレンオキサイドの平均付加モル数を示し、１０〜２０である。）で表されるエチレンオキサイド付加体であって、ナロー率が３０質量％以上のエチレンオキサイド付加体（Ａ）成分５０〜８０質量％と、特定の脂肪酸又はその塩（Ｂ）成分０．１〜５質量％と一般式（３）（式中、Ｒ^４はＨまたは炭素数１〜３のアルキル基であり、ｎ２はエチレンオキサイドの平均付加モル数を示し、０〜５０００である。ただし、ｎ２＝０の時にＲ^４はＨでない。）で表される（Ｃ）成分０．１〜１０質量％からなる濃縮タイプの液体洗浄剤組成物。
【化１】


【化３】
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【課題】ヌメリに対する充分な洗浄力を得ることができるパイプ用洗浄剤を目的とする。さらに、洗浄実感を付与することができる、パイプ用洗浄剤を目的とする。
【解決手段】本発明のパイプ用洗浄剤組成物は、（ａ）成分：マンガンおよび／または銅化合物と、（ｂ）成分：キレート剤および／またはポリカルボン酸高分子化合物と、（ｃ）成分：過酸化水素を発生する無機化合物と、（ｄ）成分：界面活性剤と、を含有することを特徴とし、前記（ｂ）成分には、（ｂ’）酸型キレート剤が含まれることが好ましく、前記（ｂ）成分には、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸ナトリウムを含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤を１種単独で多量に含有し、洗浄力および柔軟性付与効果に優れ、かつ、低温時にも液表面でゲル化せずに皮膜が形成されにくい液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は炭素数９〜１３の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基であり、Ｒ^２は炭素数２〜４のアルキレン基であり、Ｒ^３は炭素数１〜３のアルキル基であり；ｎはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を示し、５〜３０である。］で表されるアルキレンオキサイド付加体（Ａ）５０〜７０質量％と、アミドアミン化合物（Ｂ）と、アニオン界面活性剤（Ｃ）とを含有することを特徴とする液体洗浄剤組成物。
［化１］
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【課題】 靴下汚れの洗浄性が良い液体洗剤組成物の提供。
【解決手段】 下記（ａ）〜（ｅ）成分を含有する液体洗剤組成物。
（ａ）下記一般式（Ｉ）で示される化合物を（ａ）成分中６〜１５質量％含有する非イオン界面活性剤 １０〜５０質量％
Ｒ−Ｏ（ＡＯ）_ｎＨ （Ｉ）
［式中、Ｒは炭素数８〜２２の炭化水素基であり、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基であり、ｎは０，１及び２から選ばれる数である］、
（ｂ）平均炭素数８〜２０の脂肪酸０．５〜１０質量％、（ｃ）キレート剤０．５〜５質量％、（ｄ）酵素、（ｅ）酵素安定化剤 （もっと読む）

【課題】 保管時における安定性に優れ、且つ水に希釈または溶解して使用する場合に、得られた水溶液の着色を安定的に行い得る着色酸化剤組成物を提供する
【解決手段】 ハロゲン系酸化剤または酸素系酸化剤と、化１〜化５の化学式(I)、化学式(II)、化学式(III)、化学式(IV)または化学式(V)で示される顔料と、界面活性剤とを含有することを特徴とする着色酸化剤組成物とする。
【化１】
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【課題】溶解性に優れた漂白活性化剤造粒物を提供する。
【解決手段】（ａ）漂白活性化剤、及び（ｂ）下記一般式（１）で表される化合物を含む漂白活性化剤造粒物。
Ｒ^1aＯ−［（ＰＯ）_m／（ＥＯ）_n］ＳＯ₃Ｍ （１）
（式中、Ｒ^1aは炭素数８〜１８のアルキル基であり、ＰＯとＥＯは夫々プロピレンオキシ基とエチレンオキシ基であり、ｍ及びｎは平均付加モル数であり、それぞれ独立して０＜ｍ＜２０、０≦ｎ＜２０の数である。ＰＯとＥＯはランダムでもブロックでもよい。Ｍは陽イオンである。） （もっと読む）

【課題】洗濯を繰り返しても繊維製品が黄ばむのを防止する液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】(A) ノニオン界面活性剤、
(B) 長鎖脂肪族アルキルアミン、及び
(C) γ−オリザノール、タンニン酸、オウゴンエキス、スギナエキス、ホップエキス、マツエキス、レモンエキス、ローズマリーエキス、アスパラサスリネアリスエキス、ウーロン茶エキス、オトギリソウエキス、ボタンエキス、ユーカリエキス及びセージエキスからなる群から選ばれる１種以上の植物抽出物
を含む液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】酸化染毛剤施術後のカップやブラシなどの酸化染毛剤用染毛用具を効率的に洗浄する効果を有する酸化染毛剤用染毛用具の洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】カタラーゼと界面活性剤を含有することを特徴とする、カップ、ブラシおよびくしから選択される酸化染毛剤用染毛用具の洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】この発明は、水に注入する薬剤を取り間違えることなく、確実に洗浄効果のある洗浄水を生成できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の洗浄システム１は、洗浄水１０３を生成する洗浄水生成装置１０の本体１０ａに、低臭素酸次亜塩素酸ナトリウム水溶液１０１を貯蔵する第１タンク１１と、粉末状の酢酸ナトリウムを水に溶かして構成する酢酸水溶液１０２を貯蔵する第２タンク１２と、低臭素酸次亜塩素酸ナトリウム水溶液１０１及び酢酸水溶液１０２を注入する注入ポンプＰ１，Ｐ２と、注入ポンプＰ１，Ｐ２の注入を制御する洗浄制御部ＣＰＵとを備え、第１タンク１１を本体１０ａの下方位置に配置し、第２タンク１２を本体１０ａの上方位置に配置した。 （もっと読む）

【課題】半導体の基板から有機及び無機のポストエッチ残渣ならびにポリマー残渣及び汚染物質を除去するために使用される水性組成物を提供すること。
【解決手段】組成物が、水溶性有機溶媒、スルホン酸及び水から構成される。 （もっと読む）

２０〜５０ポリエチレンオキシド単位を含む内側ポリエチレンオキシドブロックと、１０〜５０ポリエチレンオキシド単位を含む外側ポリプロピレンオキシドブロックとを有する両親媒性水溶性アルコキシル化ポリアルキレンイミンポリマーを含む、洗濯洗剤及び洗浄組成物であって、特にこのようなアルコキシル化ポリアルキレンイミンに関して、ポリエチレンオキシド単位とポリプロピレンオキシド単位との比が、主鎖内に存在するポリアルキレンイミン単位の数の平方根に比例的に関係する、洗濯洗剤及び洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する不純物を、銅配線の腐蝕や酸化を引き起こすことなく、有効に除去するできる半導体デバイス用洗浄剤を提供する。
【解決手段】半導体デバイス製造工程において、表面に銅配線を有する半導体デバイスの化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする。さらに、ポリカルボン酸を含有することが好ましい。下記一般式（Ｉ）中、Ｘ^１およびＸ^２は、それぞれ独立に、少なくとも一つの窒素原子を含有するヘテロ環から水素原子１つを除いて形成される一価の置換基を表し、Ｌは二価の連結基を表す。
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硫酸ウンデシル及び／又はエトキシル化硫酸ウンデシル（硫酸ウンデセス）を利用したパーソナルケア組成物。
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【課題】洗浄効果が高く、且つ環境や人体に優しい洗剤を提供する。
【解決手段】２００〜１０００μＳ／ｃｍに調整した電解質溶液を毎分１Ｌに対して直流印加にて５〜８Ａで１次電解した後、毎分１Ｌに対して直流印加にて４〜６Ａで２次電解した電解生成溶液とトール油を１：１〜１：０．００５の比率で混合する。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５〜１３であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】シリコーンエマルジョン又はパール剤を液体洗浄料中に長期間安定に分散させること。
【解決手段】界面活性剤と、水と、シリコーンエマルジョン又パール剤と、特定の共重合体Ａ及び／又は共重合体Ｂとを含有することを特徴とする洗浄剤組成物。
共重合体Ａ
（メタ）アクリル酸１００重量部と、アルキル基の炭素数が１８〜２４である（メタ）アクリル酸アルキルエステル０．５〜５重量部と、０〜０．１重量部のエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物とを重合させて得られるアルキル変性カルボキシル基含有水溶性共重合体であって、１重量％中和粘稠液の粘度が１５００ｍＰａ・ｓ以下であり透過率が９０％以上、かつ、当該中和粘稠液１００重量部に対して０．２５〜５重量部の塩化ナトリウムを添加したときの最高粘度が１５０００〜４００００ｍＰａ・ｓであり透過率が９０％以上であるアルキル変性カルボキシル基含有水溶性共重合体。
共重合体Ｂ
（メタ）アクリル酸１００重量部と、（メタ）アクリル酸ラウリル５〜１０重量部と、０〜０．１重量部のエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物とを重合させて得られるアルキル変性カルボキシル基含有水溶性共重合体であって、１重量％中和粘稠液の粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以下であり透過率が９５％以上、かつ、当該中和粘稠液１００重量部に対して１〜７重量部の塩化ナトリウムを添加したときの最高粘度が１００００〜３００００ｍＰａ・ｓであり透過率が９５％以上であるアルキル変性カルボキシル基含有水溶性共重合体。 （もっと読む）

【課題】鉄系金属および非鉄系金属を同じ洗浄ラインで洗浄処理することができ、水のすすぎが不必要で、防錆・防食を目的とした薬剤を別途配合することなく使用することができ、且つ、安全性・環境適合性の良い金属洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分（ａ）〜（ｇ）を含有するものとする；（ａ）炭素数１０〜１２のジカルボン酸 １〜２０重量％、（ｂ）アミノアルコール系アミン １〜１５重量％、（ｃ）脂環式アミンのエチレンオキサイド付加物 １〜２０重量％、（ｄ）金属イオン封鎖剤（キレート剤） ０．１〜５重量％、（ｅ）エーテル型非イオン界面活性剤 ０．１〜１０重量％、（ｆ）グリコールエーテル ５〜５０％、（ｇ）水 ５重量％以上。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく、適度にコントロールされたエッチング性を付与することで、強固に付着した微小なパーティクルを基板表面から脱離させ、更に界面活性剤を用いて脱離したパーティクルを洗浄剤中に安定に分散させることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤を提供することにある。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５未満であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】重炭酸ソーダを主成分をして 野菜、果物 及び 食器調理具用の洗浄剤に界面活性剤や漂白剤、添加物などの石油化学物質や 有害物を含まぬ安全な食品系素材だけで 組成されたもので しかも 水質水温をとわず迅速に 水に溶ける 自溶性タイプを目的とする。
【解決手段】重炭酸ソーダを主成分として 第二成分として 炭酸塩（Ｎａ、Ｋ、ＮＨ_４）を含む アルカリ組成物と ノンヒドロキシカルボン酸（コハク酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、グルタル酸）を主成分として この副成分として第二酸性物質である ヒドロキシカルボン酸（クエン酸、リンゴ酸、酒石酸）、スルファミン酸、酸性硫酸ソーダ ピロリドンカルボン酸からなり 目安として１％水溶液が ６〜１０．５％に調整されており、且つ１．５〜１５重量％のＬ−アスコルビン酸塩（Ｎａ、Ｋ、ＮＨ_４）を含む洗浄剤洗浄物である。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属ケイ酸塩の保存安定性を向上させた複合粉体、及びそれを含有してなる洗剤組成物を提供する。
【解決手段】平均粒径が１〜５００μｍのアルカリ金属ケイ酸塩粒子（Ａ）、及びリチウム塩又はリチウム水酸化物とそれ以外の水溶性塩とを含有する複合粒子（Ｂ）を含む複合粉体であって、粒子（Ａ）が、下記式（１）で表される組成を有し、それ以外の水溶性塩が、リチウム塩と反応して、２０℃の水１００ｇに対する溶解量が５ｇ以下の難溶解性塩を形成しないものであり、かつ〔粒子（Ａ）／複合粒子（Ｂ）〕の質量比が１／９〜９９／１である複合粉体、及びそれを含有してなる洗剤組成物である。
ｘＭ₂Ｏ・ｙＳｉＯ₂・ｚＭｅＯ （１）
（式中、ＭはＮａ及び／又はＫ、ＭｅはＣａ及び／又はＭｇである。） （もっと読む）