説明

Fターム[4H003EB14]の内容

Fターム[4H003EB14]に分類される特許

41 - 60 / 578


【課題】洗浄時に優れた再汚染防止能を発揮することができ、界面活性剤との相溶性にも優れたポリアルキレングリコール系重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有するポリアルキレングリコール系単量体(A)に由来する構造単位(a)と、カルボキシル基含有単量体(B)に由来する構造単位(b)とを必須とし、構造単位(a)及び構造単位(b)を所定の割合で含むポリアルキレングリコール系重合体。 (もっと読む)


【課題】砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、基板への残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるフェノール系化合物(A)またはこの塩を0.01〜10重量%と水を必須成分として含有し、1重量%水溶液の25℃における表面張力が50mN/m以下である界面活性剤(B)の含有量が0.01重量%未満である電子材料用洗浄剤。


[式中、X〜Xはそれぞれ独立に水素原子、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表す。] (もっと読む)


【課題】分散能、キレート能および耐ゲル性に優れた低分子量の水溶性重合体である(メタ)アクリル系重合体であって、不純物量が少なく低温保持時の不純物析出もなく、より一層の性能向上および保存安定化が図られてなる(メタ)アクリル酸系重合体を提供する。
【解決手段】S=(ポリマーに含まれるS量)/(全S量)×100で定義される硫黄元素導入量S値が35以上であることを特徴とする(メタ)アクリル酸系重合体。 (もっと読む)


【課題】ポリアルキレングリコールのモノアルキルエーテルを配合した、調理油汚れに優れた洗浄力を有する硬質表面用の洗浄剤組成物において、できるだけ少量の界面活性剤によって均一液体組成物を形成できる組成物を提供すること。
【解決手段】(a)ポリアルキレングリコールのモノアルキルエーテル、(b)アミンオキサイド、(c)炭素数が8〜18の脂肪酸及びその塩からなる群から選ばれる1種以上を0.001〜15質量%、並びに水を含有し、(c)成分/((b)成分+(c)成分)の質量比が0.001/1〜1/1であり、(a)成分の60〜100質量%がジプロピレングリコールのアルキル基の炭素数が4〜8のモノアルキルエーテルであり、25℃でのpHが8〜14である、硬質表面用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】ポリアルキレングリコールのモノアルキルエーテルを配合した、調理油汚れに優れた洗浄力を有する硬質表面用の洗浄剤組成物において、できるだけ少量の界面活性剤によって均一液体組成物を形成できる組成物を提供すること。
【解決手段】(a)ポリアルキレングリコールのモノアルキルエーテルを1〜15質量%、(b)アミンオキサイド、(c)セッケンを除くアニオン性界面活性剤及び両性界面活性剤からなる群より選択される1種以上の界面活性剤を0.01〜15質量%、並びに水を含有し、(c)成分/((b)成分+(c)成分)の質量比が0.01/1〜1/1であり、(a)成分の60〜100質量%がジプロピレングリコールのアルキル基の炭素数が4〜8のモノアルキルエーテルであり、25℃でのpHが6〜14である硬質表面用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】各種染毛剤による皮膚染着の汚れを効果的に除去する性能を有し、しかも皮膚に対する刺激の少ない染着除去剤組成物、およびこうした染着除去剤組成物を用いて染着による汚れを効果的に除去する方法を提供する。
【解決手段】本発明の染着除去剤組成物は、染毛剤を使用したときの皮膚染着の汚れを除去するために用いる染着除去剤組成物であって、(A)非イオン性界面活性剤、および(B)還元剤を含有し、泡状に吐出して使用されるものであり、必要によって(C)浸透剤および(D)アルカリ剤を夫々含有するものである。 (もっと読む)


【課題】泡質が良く、拭き取り性に優れた、4級アンモニウム塩を含有する硬質表面用洗浄剤組成物、及び硬質表面の洗浄方法を提供する。
【解決手段】(a)アミンオキシド型界面活性剤を0.01〜3質量%、(b)4級アンモニウム塩、(c)炭素数が2〜6のアルカノールアミン、(d)アルキル基の炭素数が1〜3、アルキレン基の炭素数が2〜4のアルキレングリコールモノアルキルエーテル、(e)炭素数が1〜3のアルカノール、(f)アルキル(炭素数8〜16)又はアルケニル(炭素数8〜16)グリコシド型界面活性剤、及び水を含有し、(f)/(a)の質量比が0.01〜0.3である硬質表面用洗浄剤組成物を、泡吐出機構を有するトリガースプレーヤーを用いて泡状で硬質表面に噴霧し、付着した泡を拭き取って、硬質表面を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】 砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、悪影響を及ぼす界面活性剤などの有機物の基板表面の残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、または悪影響を及ぼす界面活性剤を含有せずに非常に高い洗浄性を発揮する電子材料用洗浄剤および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】 還元性を有するレダクトン類(A)0.01〜10重量%と水を含有し、1重量%に希釈したときの25℃での表面張力が50mN/m以下である界面活性剤(B)の含有量が0.01重量%未満であることを特徴とする電子材料用洗浄剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い磁気ディスク基板用洗浄剤、および磁気ディスク基板の洗浄方法を提供することを目的とすることを目的とする。
【解決手段】 分子内に1個以上のアミノ基および1個以上のスルホン酸基を有する化合物(A)またはその塩、ならびに水を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】飲料等の液体製品の製造過程において、液体製品中から不溶性物質等を分離するための分離膜に蓄積された濾過物の洗浄性に優れ、分離膜を短時間で効率良く洗浄することができる分離膜用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の分離膜用洗浄剤組成物は、(A)成分として、アルカリ剤、(B)成分として、次亜塩素酸塩、(C)成分として、重合リン酸塩、(D)成分として、ホスホン酸塩を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選ばれる1種又は2種以上の樹脂から形成された内壁表面を有する容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着又は収着を有効に防止して、良好な泡質と優れた低刺激性を兼ね備えながらも、殺菌効果に優れた洗浄剤を提供すること。
【解決手段】(A)N−アシル酸性アミノ酸又はその塩、(B)イソプロピルメチルフェノール、及び(C)ジプロピレングリコールを特定量で含有し、かつ(D)エタノール及びイソプロパノールの合計含有量が2質量%以下であり、或いは(D)エタノール又はイソプロパノールを含有せず、成分(B)の含有量に対する成分(C)の含有量が特定の関係にある洗浄剤を、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂から形成された内壁表面を有する容器に充填してなる洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】洗浄力を低下させることなく、従来以上に濯ぎ性に優れた、安定性の良い濃縮タイプの衣料用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)一般式(I)で表される非イオン性界面活性剤、(B)陰イオン性界面活性剤、(C)水混和性有機溶剤5〜40質量%、及び(D)水を含有し、(A)成分と(B)成分の合計量が35〜55質量%であり、(A)成分と(B)成分の質量比〔(A)成分/(B)成分〕が70/30〜90/10であり、JISK3362:1998記載の25℃で測定する組成物のpHが6.5〜10.0である衣料用液体洗浄剤組成物。R1−Y−(EO)n−R2(I)(式中、R1は炭化水素基であり、−Y−は−O−又は−COO−であり、R1−Y−は総炭素数8〜22である。EOはエチレンオキシ基を表し、nは平均付加モル数を表し、nは14〜30の数である。R2は水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基である。) (もっと読む)


【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも第1剤と第2剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記第1剤がアミン化合物を含有し、前記第2剤が酸化剤を含有し、さらに炭酸アルキレンを組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】衣料の衿や袖口汚れ等の頑固な皮脂汚れに対して高い洗浄効果を有する塗布用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)下記一般式(a1)で示される非イオン界面活性剤、(b)陰イオン界面活性剤、(c)陽イオン界面活性剤を含有する塗布用洗浄剤組成物であって、(a)+(b)+(c)=40〜90質量%であり、(a)/〔(b)+(c)〕質量比が0.5〜5であり、(b)/(c)質量比が0.3〜2.5である塗布用洗浄剤組成物。R−O−[(EO)m/(PO)n]−H(a1)〔式中、RはC8〜20の炭化水素基、EOはエチレンオキシ基、POはプロピレンオキシ基、m及びnは平均付加モル数であり、mは14〜22、nは1〜5である。“/”はEOとPOはランダム付加体でもブロック付加体でも何れでも良く、EOとPOの付加順序は問わない。〕 (もっと読む)


【課題】高濃度の界面活性剤を含有し、洗浄力、衣料への香料成分の吸着力に優れ、原液は低泡性且つ消泡性に優れ、その一方で洗浄濃度の希釈液は高起泡性であり、更に水で組成物を希釈する際のゲル化形成等による溶解性の低下のない液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)エチレンオキシ基と炭素数3〜5のアルキレンオキシ基とを特定条件で含む特定の非イオン界面活性剤、(b)陰イオン界面活性剤、(c)陽イオン界面活性剤、(d)シリコーン、(e)LogPが3以上である香料化合物及び(f)水混和性溶剤を、それぞれ特定比率で含有する液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】イオン性分との相溶性に優れた水溶性パウチを提供する。
【解決手段】液体組成物を収容する水溶性パウチであって、前記水溶性パウチが、ビニルアルコール及びカルボン酸のコポリマーを含むフィルムから作製されており、前記パウチ中に含まれる該液体組成物が、カルボキシレート類、ホスホネート類、及びこれらの混合物から成る群から選択される少なくとも1つの溶解したイオン性成分、前記液体組成物の5重量%〜15重量%の水を含み、且つ前記パウチが、真空成形・水平型・製袋−充填−密封プロセスを使用して加工される。 (もっと読む)


【課題】金属を電気科学的腐食から保護しながら、良好な洗浄結果を生じる、多金属マイクロエレクトロニックデバイスのための良好な洗浄組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。 (もっと読む)


【課題】医療器具の洗浄に用いるための酵素含有組成物の効力を高める方法を提供する。
【解決手段】C8〜C18の線形アルキルピロリドンのようなアルキルピロリドンと、アルキルポリグルコシドのようなアルキルポリサッカリドとの組み合わせを含む水性組成物、及び、医療器具の洗浄に用いるための酵素含有組成物の効力を高める方法であって、前記組成物にアルキルピロリドンとアルキルポリサッカリドとを含ませるステップを含む方法に関する。本発明の方法及び組成物は、プロテアーゼ、リパーゼ、アミラーゼ、及びセルラーゼのような、少なくとも1種類の酵素をさらに含んでいてもよい。 (もっと読む)


【課題】酵素の活性保持性、組成物の貯蔵安定性、及び洗浄力に優れた自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)アミノ酸−N,N−二酢酸又はその塩、(b)重量平均分子量が1,000〜100,000のアクリル酸−マレイン酸コポリマー又はその塩、(c)酵素、及び水を含有し、(a)及び(b)の合計含有量が10〜50質量%であり、水溶性溶剤の含有量が10質量%以下である、自動食器洗浄機用液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】防錆性と硬水安定性の双方を満足する水性洗浄剤を提供する。
【解決手段】水性洗浄剤は、実質的にポリアルキレングリコールを含有せず、下記A、BおよびCのうち少なくともいずれか1種のカルボン酸の塩を配合してなることを特徴とする。
A:総炭素数9または10の、分岐アルキル基を有する脂肪族一塩基カルボン酸
B:セバシン酸
C:総炭素数11から13までの芳香族一塩基カルボン酸 (もっと読む)


41 - 60 / 578