【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 フラボノイド化合物（Ａ）および水を必須成分として含有する電子材料用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】スポンジなどの洗浄道具の除菌性、手洗いによる洗浄性、及び、低温保存安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）非イオン界面活性剤〔但し（ｂ）を除く〕を１０〜５０質量％、（ｂ）炭素数６〜１０のアルキル基を有するモノアルキルグリセリルエーテル化合物を１〜１０質量％、（ｃ）ポリヘキサメチレンビグアニド及び／又はその塩を０．０１〜２質量％、並びに（ｄ）両性界面活性剤を１〜１０質量％含有する液体洗浄剤組成物であって、（ｅ）炭化水素基を有する陰イオン性化合物の含有量が、（ｃ）の含有量に対して２５質量％以下である液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】皮脂汚れの良好な洗浄効果が得られるとともに、紅茶や赤ワインなどフェノール系色素を含む染み汚れがあっても濃く発色することがなく、染み汚れに対しても良好な洗浄効果を得ることができる、粒状洗剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ金属炭酸塩を含有する界面活性剤含有粒子、（Ｂ）炭酸水素ナトリウム粒子、（Ｃ）過炭酸ナトリウム粒子を含有し、粒状洗剤組成物全体に対し、（Ａ）が５０〜９０質量％、（Ｂ）と（Ｃ）の合計が１０〜５０質量％、質量比（Ｃ）／（Ｂ）が０．１５〜１．００である粒状洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】繊維製品をより白く仕上げられる漂白性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：周期表の第４周期にある遷移元素の水溶性塩、亜鉛の水溶性塩又は銀の水溶性塩からなる群から選択される１種以上の水溶性金属塩と、（Ｂ）成分：長鎖アルキルアミン化合物と、（Ｃ）成分：過酸化水素又は水中で過酸化水素を生ずる過酸化物と、（Ｄ）成分：非石鹸系アニオン界面活性剤と、（Ｅ）成分：ビフェニル型蛍光剤と、を含有し、（Ｂ）成分／（Ｅ）成分で表される質量比が１．２以上であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】
基板に付着したパーティクルは時間が経過するとともに除去しづらくなるが、基板の保管や運搬などで時間が経過した基板からこれらのパーティクルを除去するメディアイ工程でも、パーティクルを十分に除去することを目的とする。
【解決手段】
下記一般式（１）で表される脂肪族アルコールもしくはそのオキシアルキレン付加物の硫酸エステル塩、アルカリ、キレート剤および水を必須成分として含有することを特徴とする電子材料用洗浄剤を用いる。
ＲＯ−（ＡＯ）ｎ−ＳＯ_３⁻・1/f Ｍ^f+ （１）
［式（１）中のＲが脂肪族炭化水素基；Ｍ^f+はアルカリ金属、アンモニウムまたはアミンのカチオン；ＡＯはオキシアルキレン基。ｎはアルキレンオキサイドの平均付加モル数を表し０〜２０の数である。］ （もっと読む）

【課題】繊維製品に対し、優れた残香性で賦香できる漂白性組成物及びこれを用いた洗濯方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：過酸化水素又は水中で過酸化水素を発生する過酸化物と、（Ｂ）成分：Ｃａ^２＋に対するキレート安定度定数の対数値が５．５以上、Ｆｅ^３＋に対するキレート安定度定数の対数値が１０以上、かつＣｕ^２＋に対するキレート安定度定数の対数値が１０以上のキレート剤と、（Ｃ）成分：１−オクタノール／水分配係数Ｐの常用対数ｌｏｇＰが３．８未満の香料成分とを含有し、脂肪酸トリグリセライド２〜２００μｇ／ｃｍ^３を含有する水に分散して用いることよりなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、より洗浄性の高いハードディスク用ガラス基板用のアルカリ洗浄剤組成物、及びそれを用いて行うハードディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（成分Ａ）と、キレート剤（成分Ｂ）と、アンモニウム基及びアミノ基のうちの少なくとも１つを含む構成単位（ｃ１）と、陰イオン性基を含む構成単位（ｃ２）とを含む両性高分子化合物（成分Ｃ）と、水（成分Ｄ）と、を含有し、成分Ｄ以外の成分の含有量の合計を１００重量％としたとき、成分Ａの含有量が１０〜５５重量％であり、成分Ｂの含有量が５〜６０重量％であり、成分Ｃの含有量が５〜６０重量％であり、且つ、成分Ａと成分Ｂと成分Ｃの合計含有量が３０〜１００重量％であるハードディスク用ガラス基板用のアルカリ洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリオキシアルキレンアミンが配合された液体洗浄剤において、液安定性が良好であり、経時に伴って外観（色調）が変化しにくい液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される非イオン界面活性剤（Ａ１）を５０質量％以下と、プロテアーゼ（Ｂ）を０．０１〜４質量％と、水混和性有機溶剤（Ｃ）を２〜２０質量％とを含有し、（Ｂ）／（Ａ１）で表される質量比が０．００１以上であり、かつ、（Ｃ）／（Ａ１）で表される質量比が０．０５以上である液体洗浄剤。式（Ｉ）中、Ｒ^１は炭素数８〜２２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基又はアルケニル基を表す。ＡＯは各々独立にオキシアルキレン基を表す。ｐ、ｑはそれぞれオキシアルキレン基の平均繰返し数を表し、各々独立に０以上の数であり、ｐ＋ｑは１０以上５０未満である。
［化１］
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【課題】デリケート繊維に対する浸透力、風合い感に優れる液体洗浄剤組成物を提供。
【解決手段】式（１）で表される非イオン界面活性剤Ａ、及び、アルキル鎖長の異なる二種のアミドアミンＢ、Ｃを含有し（Ｂのアルキル鎖長７〜21、Ｃのアルキル鎖長１５〜１７）、Ｃ／Ａの質量比が０．０１〜０．２０であり、Ｃ／Ｂの質量比が０．７〜５．０である衣料用液体洗剤組成物。


（Ｒ^１は炭素数７〜２１の炭化水素基であり、Ｒ^２は−Ｘ−が−Ｏ−の場合は水素であり、−Ｘ−が−ＣＯＯ−の場合は炭素数１〜６のアルキル基又はアルケニル基。） （もっと読む）

【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い磁気ディスク基板用洗浄剤、および磁気ディスク基板の洗浄方法を提供することを目的とすることを目的とする。
【解決手段】 分子内に１個以上のアミノ基および１個以上のスルホン酸基を有する化合物（A）またはその塩、ならびに水を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】油汚れに対する洗浄力に優れると共に、低温での安定性が良好で、油共存下でも洗い始めから泡量が多く、その持続性も良好な液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】式（ａ１）及び、式（ｂ１）で表される化合物と、両性及び／又は半極性界面活性剤（ｃ）とを含有する液体洗浄剤組成物。
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【課題】洗浄力を低下させることなく、従来以上に濯ぎ性に優れた、安定性の良い濃縮タイプの衣料用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）で表される非イオン性界面活性剤、（Ｂ）陰イオン性界面活性剤、（Ｃ）水混和性有機溶剤５〜４０質量％、及び（Ｄ）水を含有し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量が３５〜５５質量％であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比〔（Ａ）成分／（Ｂ）成分〕が７０／３０〜９０／１０であり、ＪＩＳＫ3362：1998記載の２５℃で測定する組成物のｐＨが６.５〜１０．０である衣料用液体洗浄剤組成物。Ｒ¹−Ｙ−（ＥＯ）_n−Ｒ²（Ｉ）（式中、Ｒ¹は炭化水素基であり、−Ｙ−は−Ｏ−又は−ＣＯＯ−であり、Ｒ¹−Ｙ−は総炭素数８〜２２である。ＥＯはエチレンオキシ基を表し、ｎは平均付加モル数を表し、ｎは１４〜３０の数である。Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜３の炭化水素基である。） （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】高濃度の界面活性剤を含有し、洗浄力、衣料への香料成分の吸着力に優れ、原液は低泡性且つ消泡性に優れ、その一方で洗浄濃度の希釈液は高起泡性であり、更に水で組成物を希釈する際のゲル化形成等による溶解性の低下のない液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）エチレンオキシ基と炭素数３〜５のアルキレンオキシ基とを特定条件で含む特定の非イオン界面活性剤、（ｂ）陰イオン界面活性剤、（ｃ）陽イオン界面活性剤、（ｄ）シリコーン、（ｅ）ＬｏｇＰが３以上である香料化合物及び（ｆ）水混和性溶剤を、それぞれ特定比率で含有する液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】水道水中のケイ素成分が少ない場合でも、優れた洗浄力と泡立ちを有し、かつすすぎ性の良好な浴室用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：水溶性ケイ酸塩をケイ素換算で０．０００００５〜０．０５質量％と、（Ｂ）成分：炭素数８〜１８の脂肪酸又はそのアルカリ金属塩と、（Ｃ）成分：（Ｂ）成分以外の界面活性剤と、（Ｄ）成分：金属イオン封鎖剤と、（Ｅ）成分：特定の溶剤と、（Ｆ）成分：水とを特定比で含有し、２５℃でｐＨ７〜９であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面を清浄するために使用される、洗浄剤組成物に関し、より具体的には、フラットパネル・ディスプレイの分野に適用される、高濃度の洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）０．１〜２０重量部の量のアルカリ金属ヒドロキシル化合物；（Ｂ）０．１〜３０重量部の量の、以下の式（Ｉ）で表される非イオン性界面活性剤：


式中、Ｒ₁は水素またはメチルであり；Ｒ₂は水素またはメチルであり；ｎは０〜１０の整数であり；および、ｍは４〜２０の整数である；（Ｃ）０．１〜１０重量部の量のアニオン性界面活性剤；（Ｄ）０．１〜２０重量部の量のキレート剤；（Ｅ）０．１〜２０重量部の量の添加剤；および（Ｆ）洗浄剤組成物１００重量部に対する、残部の量の水を含む、洗浄剤組成物が開示される。 （もっと読む）

【課題】バイオフィルムを効果的に除去することができるバイオフィルム除去剤、および、バイオフィルム除去用組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
［化１］


（式中、ｎは２以上の整数である。）で表されるポリリジンからなるバイオフィルム除去剤、および、このバイオフィルム除去剤を含有するバイオフィルム除去用組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】バイオフィルムを効果的に除去することができるバイオフィルム除去剤、および、バイオフィルム除去用組成物を提供する。
【解決手段】α−オレフィンスルホン酸塩からなるバイオフィルム除去剤、および、このバイオフィルム除去剤を含有するバイオフィルム除去用組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】低浴比の濯ぎ条件下でも、衣料に優れた柔軟性をもたらす衣料の処理方法の提供。
【解決手段】下記工程１〜工程３からなる衣料の処理方法。
工程１：下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、アミン又はその酸塩、及び陰イオン性界面活性剤を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比＝１．６〜２０の洗浄剤組成物を用いて、浴比３〜１５の条件下で衣料を洗浄する工程
工程２：工程１で使用した洗浄水を衣料から脱水する工程
工程３：工程２で得られた衣料を、柔軟剤組成物と浴比３〜２０の条件下で接触させる工程
（Ａ）：式Ｒ^１−Ｘ−〔（ＥＯ）_ｎ／（ＰＯ）_ｍ〕−Ｒ^２の非イオン性界面活性剤
（Ｒ^１は炭化水素基、Ｘは−Ｏ−又は−ＣＯＯ−、Ｒ^１−Ｘ−の炭素数は８〜２２、ｎは５〜２５、ｍは０〜５、Ｒ^２はＨ又は炭素数１〜３の炭化水素基）
（Ｂ）：式Ｒ^３−Ｏ−〔（ＥＯ）_ｎ１／（ＰＯ）_ｍ１〕−Ｈの非イオン性化合物
（Ｒ^３は炭素数１〜３の炭化水素基、ｎ１は５〜２５、ｍ１は０〜５） （もっと読む）

【課題】繊維製品に付着したグラム陰性菌を効果的に除菌できる組成物および除菌方法の提供。
【解決手段】亜鉛化合物、下記式の化合物、過酸化物、過酸前駆体を含有する組成物。
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