【課題】 レンズ等の光学物品の研磨加工工程で使用する固定剤や保護膜を除去するために使用する洗浄剤であって、環境問題や人体への影響が懸念されるハロゲン系溶剤、フロン系溶剤、芳香族系溶剤を使用することなく、各種固定剤及び保護膜に対して高い洗浄力を有する洗浄剤用組成物を提供する。
【解決手段】
例えば、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルやジプロピレングリコールジメチルエーテル等のアルキレングリコールアルキルエーテル２４〜７５質量％及びシクロデカン、シクロウンデカン、シクロドデカン等の炭素数１０〜１５のパラフィン系溶媒２４〜７５質量％及びεカプロラクトン等の環状化合物1〜３０重量％からなる洗浄剤用組成物を使用する。 （もっと読む）

選択性透過膜に対する洗浄効果が高く、選択性透過膜を劣化させることがなく、人や環境に対しても安全で取扱性にも優れ、透過流束等の性能の低下した選択性透過膜を短時間で効率よく洗浄して、性能を回復させることができる選択性透過膜の洗浄剤および洗浄方法を提案する。分子量４００以下のポリオール、および必要によりさらに有機溶媒を含む洗浄剤を、モジュール１の濃縮液室３に供給して選択性透過膜２と接触させて洗浄を行い、必要によりさらに水槽６またはアルカリ槽８から、水またはアルカリ液をモジュール１の濃縮液室３に供給して洗浄を行い、選択性透過膜２性能を回復させる。
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【課題】本発明の課題は半導体基板等の微細構造体からレジストのような残留物を除去するための組成物を提供することにある。
【解決手段】 微細構造体から残留物を除去するための組成物であって、二酸化炭素と、化学式ＮＲ¹Ｒ²Ｒ³Ｒ⁴Ｆ（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立して水素またはアルキル基を示す。）で示されるフッ化物を含む残留物除去用添加剤と、高圧下で液体状になっている前記二酸化炭素に前記添加剤を溶解させるための相溶化剤とを含むことを特徴とする残留物除去用組成物である。 （もっと読む）

【課題】作業者の肉体的負担を軽減し、かつ短時間で金型の内壁面（キャビティ面）の固着物を確実に除去することが可能な金型洗浄方法を提供する。
【解決手段】薬液循環工程において金型の内部空間と薬液槽との間で薬液を循環させることにより、金型の内壁面の固着物をある程度溶解または膨潤させておき、その後、流体吹き付け工程において金型の内壁面に研磨剤を含む流体を吹き付けることにより、固着物を金型の内壁面から容易に剥離可能とする。 （もっと読む）

【課題】 帯電を確実に防止でき、配線等の腐食を起こすこともない、歩留まりよく電気・電子部品の製造が可能となる洗浄剤。
【解決手段】 （１）炭化水素系溶剤が９３〜１００質量％、オクタノール等の（２）炭化水素系溶剤以外の有機溶剤が０〜７質量％、及びテトラオクチルアンモニウム・２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−（トリフルオロメタンスルフォニル）アセタミド等の（３）下記一般式（Ｉ）
【化１】


｛上記式中、ＺはＮ又はＰ、Ｒ^１〜Ｒ^４は炭素数４〜２０の置換されていてもよい炭化水素基を示し、該Ｒ^１〜Ｒ^４のうち最も炭素数の多い基と、最も少ない基との炭素数の比は２以下であり、Ｘ⁻は下記式（II）
【化２】


（上記式中、Ａ^１、Ａ^２はフルオロアシル基等を示す）で示されるアニオンを示す。｝で示される有機オニウム塩が（１）と（２）の合計１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部を主成分とする洗浄剤。
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特定の有機溶媒及びフッ素ソースを含む組成物は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去できる。 （もっと読む）

本発明は有機物汚れで汚染された物品用の清浄液に関し、次のものから構成される：
−（Ａ）重量で５０％以上、好ましくは重量で６０％以上、より好ましくは重量で７０％以上および最も好ましくは重量で８０％以上の少なくとも１つのラクトン；
−（Ｂ）８から１５の範囲のＨＬＢを持つ少なくとも１つの界面活性化合物。 （もっと読む）

Ｓｉ／ＳｉＯ_２パターン付きの半導体ウェーハ表面から、ケイ素窒化物およびケイ素酸化物などのケイ素含有粒状物質を除去するための方法および組成物が記載される。該組成物は、超臨界流体（ＳＣＦ）、エッチング液種、共溶媒、表面不活性化剤、バインダー、脱イオン水、および任意に界面活性剤を含む。ＳＣＦベースの組成物は、次の加工の前に、ウェーハ表面から汚染粒状物質を実質的に除去し、これにより半導体デバイスのモルフォロジ、性能、信頼度、及び歩留まりが向上される。

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Ｃ₂Ｆ₅ＣＦ（ＯＣＨ₃）ＣＦ（ＣＦ₃）₂（１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロ−３−メトキシ−４−トリフルオロメチルペンタン）および有機溶媒を含む共沸混合物様組成物、および前記共沸混合物様組成物の使用が記載されている。
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基板、特に半導体基板の表面荒れを起こすことなく、また、基板表面に施された金属配線、特に銅配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面に存在する微細粒子（パーティクル）や各種金属由来の不純物（金属不純物）を有効に除去し得、更には、金属腐食防止剤-Cu皮膜、特にCu-BTA皮膜を除去することなく、基板表面に存在するカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る、基板用洗浄剤及び洗浄方法の提供
本発明は、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸、〔II〕錯化剤及び〔III〕(1)１価アルコール類、(2)アルコキシアルコール類、(3)グリコール類、(4)グリコールエーテル類、(5)ケトン類及び(6)ニトリル類からなる群より選ばれる有機溶媒とを含んでなる基板用洗浄剤、並びに当該洗浄剤で基板表面を処理することを特徴とする、基板表面の洗浄方法を提供する。 （もっと読む）

２種以上の揮発成分、特に、ＨＦＣ３６５ｍｆｃと、分子内におけるフッ素原子数の水素原子数に対する比が２以上の非塩素系フッ素化合物と、１種以上の高沸点の不揮発性成分からなる非共沸性多成分系組成物であって、洗浄性、乾燥性、安全性、環境保全性に優れ、かつ、長時間の使用わたって成分組成変動を容易に制御できる洗浄剤組成物として好適にもちいることができる組成物。 （もっと読む）

【課題】塗料及び油汚れ等の石鹸では落ちないような特殊な汚れには、専用の洗剤を必要としたが、塗料を溶解または剥離しやすい溶剤は、脱脂力も強いため、手に付着した塗料を落とすとき、皮膚の皮脂まで塗料と一緒に洗浄され、手荒れが発生しやすかった。従って、溶剤の選定や手荒れ防止剤の配合等で手荒れを最小限にくい止め、かつ人体に対して安全な原料を使用した塗料及び油汚れ用の洗浄剤の開発が強く望まれていた。
【解決手段】溶剤、界面活性剤及び研磨材からなる塗料及び油汚れ用洗浄剤であって、手荒れ防止剤、増粘剤、中和剤及び精製水を配合することができる。溶剤はアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、グリコール系溶剤、ケトン系溶剤、炭化水素系溶剤及び窒素系溶剤が好ましく、界面活性剤は非イオン系界面活性剤であるポリオキシエチレンアルキルエーテル及びポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルが好ましい。 （もっと読む）