【課題】 不飽和カルボン酸と、エポキシ化合物との反応において、反応中にゲル及び副反応生成物が生成しにくい製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、不飽和カルボン酸（アクリル酸等）とエポキシ化合物とを反応させてエステル化物を製造する方法において、上記不飽和カルボン酸を含む酸成分の存在下に、上記エポキシ化合物を添加する工程を備える。このエポキシ化合物の添加速度は、酸成分１００ｇに対して、好ましくは０．１〜１００ｇ／分である。 （もっと読む）

【課題】光学材料、耐熱材料、微細加工用レジスト材料等の各種高機能性材料向け原料モノマー等として有用な、新規アダマンチルエステル化合物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるアダマンチルエステル化合物。


（式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜３のアルキル基を示し、Ｒ^２は水素原子またはメチル基を示す。Ｘは同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン基、シアノ基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシル基、炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基、ハロゲン元素を含む炭素数１〜４のアルキル基、またはエーテル構造を有する炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｎは１〜１４の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】 ハイドロキノン類化合物の（メタ）アクリル酸モノエステルの、コスト効率に優れた製造方法の提供。
【解決手段】


式１の化合物を、疎水性溶媒中強酸存在下（メタ）アクリル酸と加熱還流させ、留出水を除去し、除去水の量がハイドロキノン類化合物のモル数の40〜100％に達したとき終了する、式２の化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
光ラジカル重合性組成物用の光ラジカル重合増感剤として有用な新規な化合物および当該光増感剤を含有する光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】
第一発明は新規な９，１０−ジ（メタ）アクリルオキシアントラセン化合物を要旨とし、第二発明は、９，１０−ジ（メタ）アクリルオキシアントラセン化合物をアクリル化することからなる製造方法を要旨とし、第三発明は、９，１０−ジ（メタ）アクリルオキシアントラセン化合物を含有する光ラジカル重合増感剤を要旨とし、第四発明は、上記光ラジカル重合増感剤、ラジカル重合開止剤及びラジカル重合性モノマーを含有する光硬化性組成物を要旨とする。 （もっと読む）

【課題】電子工業用、耐熱性樹脂等の高機能性樹脂原料として用いられる高純度のアダマンチル（メタ）アクリレート類の製造方法を提供する。
【解決手段】アダマンタノール類と（メタ）アクリル酸類を反応させてアダマンチル（メタ）アクリレート類を製造する方法において、晶析時にＮ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム等のニトロソ系重合禁止剤を添加することを特徴とする高純度アダマンチル（メタ）アクリレート類の製造方法。 （もっと読む）

【課題】微細加工用レジスト材料、光学材料、耐熱材料等の各種高機能性材料向け原料モノマー、および医薬・農薬中間体等として有用な、新規アダマンチルエステル化合物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるアダマンチルエステル化合物。


（式中、Ｒ_１は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ_２は水素原子またはメチル基を示す。Ｘは同一でも異なっても良く、水素原子、ハロゲン基、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシル基、炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基、ハロゲン元素を含む炭素数１〜４のアルキル基、またはエーテル構造を有する炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｎは１〜１３の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】 フルオロアルキル基を持ち、開環メタセシス重合の反応性に優れたノルボルネン化合物、およびその重合体を提供する。
【解決手段】 下式（１）で示される含フッ素ノルボルネニルエステル化合物。
【化１】


ただし、式中のＸは酸素原子、メチレン基、メチルメチレン基、またはジメチルメチレン基、Ｒ^１はフッ素原子またはトリフルオロメチル基、Ｒ^ｆはエーテル性酸素原子を含まず、かつ末端に水素原子を持たない炭素原子数１〜２０のポリフルオロアルキル基、または任意の場所に１つ以上のエーテル性酸素原子を含む炭素原子数３〜２０のポリフルオロアルキル基である。 （もっと読む）

【課題】従来のものに比べ高い耐熱性を示し、回路作成用のレジスト材料や絶縁材料、および光ディスク用材料やディスプレイ用材料に適したアクリル系ポリマーおよびこのアクリル系ポリマーを製造するのに有効に用いることができる（メタ）アクリル酸誘導体を提供する。
【解決手段】下記式（２）


（式（２）中、Ｈ（ａ）はアキシアル水素、Ｈ（ｅ）はエクアトリアル水素、Ｒは水素またはCH₃である。）で示される立体構造を備えている（メタ）アクリル酸誘導体、及び（メタ）アクリル系ポリマー。 （もっと読む）

エステル化の水のための共沸添加剤ならびに重合禁止剤の存在における、シクロヘキサノールと純粋な（メタ）アクリル酸との酸触媒によるエステル化によるシクロヘキシル（メタ）アクリレートの連続的な製造法であって、以下の処理工程：−酸触媒（３）、重合禁止剤（４）ならびにエステル化の水のための共沸添加剤（５）の存在において反応帯域（Ａ）で、（メタ）アクリル酸（１）とシクロヘキサノール（２）とをエステル化し、その際、エステル化の水は、反応帯域（Ａ）に取り付けられた蒸留塔内で共沸物として共沸添加剤により取り出しかつその際、反応搬出物を取得する工程（方法段階Ａ）、該反応搬出物を−中和に供給し、その際、エステル化からの反応搬出物から、アルカリ溶液を用いて酸触媒（３）ならびに反応しなかった（メタ）アクリル酸（１）を中和し、粗製シクロヘキシル（メタ）アクリレートを取得する工程（方法段階Ｂ）；−方法段階（Ｂ）からの粗製シクロヘキシル（メタ）アクリレートを洗浄し、その際、粗製シクロヘキシル（メタ）アクリレートから塩の残量を分離する工程（方法段階Ｃ）；および粗製シクロヘキシル（メタ）アクリレートを引き続き蒸留により処理する工程（方法段階Ｄ〜Ｇ）を有する製造法が提案される。
（もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、フォトレジスト用樹脂組成物の樹脂成分として用いた場合、半導体等の電気特性に悪影響を及ぼさないようなフォトレジスト用高分子化合物の操作性簡易な製造法を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、酸により脱離してアルカリ可溶となる基を有し、しかも金属含有量５０ｐｐｂ以下のモノマーＡと、極性基含有脂環式骨格を有し、しかも金属含有量５０ｐｐｂ以下のモノマーとを少なくとも含むモノマーＢおよび重合開始剤を溶媒に溶解して、重合温度に昇温された溶媒中に滴下しながら重合させることを特徴とするフォトレジスト用高分子化合物の製造方法を提供する。更に、前記により製造された高分子化合物と光酸発生剤を少なくとも含むフォトレジスト用樹脂組成物を提供し、そのフォトレジスト用樹脂組成物を用いた半導体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】工業的に実施の容易な条件の下に、脂環式第３級（メタ）アクリレート類の高純度品を収率よく得ることができる方法を提供する。
【解決手段】アミンの存在下に脂環式ケトンと有機マグネシウムハライドと一般式（Ｉ）


（式中、Ｒ₁ は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ₂ はアリール基又はビニル基を示す。）で表される（メタ）アクリル酸エステルとを反応させる。 （もっと読む）

蒸留塔を備えた反応装置を使用し、還流条件下で副生するメタノールをメタクリル酸メチルとの共沸混合物として系外に除去しながら、メタクリル酸メチルとアルコールまたはフェノール類とのエステル交換反応を行い、メタクリル酸エステルを製造する方法において、蒸留塔内の温度が、常圧における温度に換算した場合、最上段の温度が６３〜６８℃、中間段の温度が６８〜９０℃、最下段の温度が９０〜１００℃に到達した後に、メタノールとメタクリル酸メチルとの共沸混合物の系外への除去を開始し、アルコールまたはフェノール類の転化率が０〜９５％の範囲において、前記蒸留塔内の温度を維持するように還流比を制御することにより、生産性よくメタクリル酸エステルを製造する。 （もっと読む）

【課題】 陰イオン系界面活性剤を用いることがなくとも未反応のアルキルフェノールの残存量が少なく、分液性に優れ、しかも共沸脱水を必要としないアルキリデンビスアルキルフェノールの製造方法を提供する。
【解決手段】 アルキルフェノール、カルボニル化合物、及び酸触媒の存在下に脱水縮合反応させて、アルキリデンビスアルキルフェノールを製造する方法において、酸触媒として、ｐ−トルエンスルホン酸、ｏ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、１−ナフタレンスルホン酸及び２−ナフタレンスルホン酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の芳香族スルホン酸と、５０〜８５重量％の硫酸水溶液とを併用することを特徴とするアルキリデンビスアルキルフェノールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 従来の芳香族エステル類の製造方法が有する欠点を克服し、フェノール類と脂肪族カルボン酸から対応する芳香族エステル化合物を、高収率で効率良く得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】 ４価のジルコニウム化合物及び／又はハウニウム化合物と、スルホン酸、ヘテロポリ酸及び超強酸のうちのいずれか１種以上の酸性化合物とを触媒として併用することで、フェノール類と脂肪族カルボン酸から芳香族エステル化合物を製造する。 （もっと読む）

【解決手段】 一般式（１）又は（２）で表される含フッ素重合性エステル化合物。
【化１】


（Ｒ¹は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、Ｒ²は二価の炭化水素基、Ｒ³は水素原子又は一価の炭化水素基、Ｒ²とＲ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。Ｒ⁴は水素原子、水酸基、又は一価の炭化水素基、Ｒ⁵は酸不安定基。）
【効果】 本発明は、新規な含フッ素重合性エステル化合物を提供し、該含フッ素重合性エステル化合物は、機能性材料、医薬・農薬などの原料として有用であり、なかでも感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するためのポリマー単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

包摂化合物としての利用が期待でき、官能基の導入により硬化性組成物やフォトレジストへの利用及び包摂化合物としての利用が可能な新規なカリックスアレーン系化合物、その製造方法及びその中間体並びにその組成物を提供する。式（１）で表されるカリックスアレーン系化合物を提供する。
【化１】


（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は相互に独立に炭素数１〜８の置換又は非置換アルキレン基；Ｘ¹〜Ｘ¹²は相互に独立に炭素数１〜１０の置換又は非置換のアルキル基、炭素数２〜１０の置換又は非置換のアルケニル基、炭素数２〜１０の置換又は非置換のアルキニル基、炭素数７〜１０の置換又は非置換のアラルキル基、炭素数１〜１０の置換又は非置換のアルコキシ基、或いは置換又は非置換のフェノキシ基；Ｚ¹〜Ｚ²⁴は相互に独立に、水素原子、重合性官能基を有する基、アルカリ可溶性基を有する基、又はアルキル鎖の炭素数が１〜８の置換アルキル基、或いは隣り合う２つのＺが結合して形成する炭素数１〜８の置換又は非置換アルキレン基を表し；ｑ¹〜ｑ¹²は相互に独立に０又は１の整数を表す。） （もっと読む）

青色レーザー光に対する耐久性に優れ、屈折率および光の吸収が小さい重合性液晶化合物、該化合物を含む液晶組成物、該液晶組成物を用いた光学異方性材料を提供する。
下式（１）で表される重合性液晶化合物。式（１）中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基、Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｘ^１は１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｒ^２は炭素数１〜８のアルキル基。上記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基に置換されていてもよい。
（もっと読む）

【解決手段】 下記一般式［１］（式中、Ｒ¹及びＲ²は各々独立して軽水素原子又は重水素原子を表し、Ｒ³は軽水素原子、重水素原子又はメチル基｛但し、該メチル基の３つの水素原子は各々独立して軽水素原子又は重水素原子である｝を表し、Ｒ⁴はノルボルナン環と炭素数５〜７の炭化水素環との縮合環からなる基であり、当該基が有する水素原子の少なくとも１つが重水素原子である）で表される新規な化合物、及び該化合物を含有する重合性組成物を重合してなる新規な重合体である。
一般式［１］
【化１】
（もっと読む）

【解決手段】 下記一般式［１］（式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立して軽水素原子又は重水素原子を表し、Ｒ³は軽水素原子、重水素原子又はメチル基｛但し、該メチル基の３つの水素原子はそれぞれ独立して軽水素原子又は重水素原子である｝を表し、Ｒ⁴はノルボルニル基であり、当該基が有する水素原子の４つ以上が重水素原子である）で表される新規な化合物、及び前記化合物を含有する重合性組成物を重合してなる新規な重合体である。
【化１】
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