【課題】スプレー塗工において良好な塗工性が得られると共に、優れた透明性および耐擦傷性を有する硬化膜を形成可能な硬化性組成物、および該硬化性組成物から形成された硬化膜を有する積層体、ならびに該硬化膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る硬化性組成物は、（Ａ）多官能（メタ）アクリルモノマー、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）無機酸化物粒子、および（Ｄ）有機溶剤、を含有する硬化性組成物であって、前記硬化性組成物中の前記（Ｃ）成分の含有量が、前記（Ｄ）成分以外の全成分の合計を１００質量部としたときに、０．０００１質量部以上５質量部以下であり、かつ、前記（Ｃ）成分に含まれる粒子径２００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲にある粒子の含有量が０．０００１質量部以上１質量部以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速でパターン転写を行っても良好なパターン形成性を有し、欠陥が少なく、基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】重合性単量体（Ａ）を少なくとも１種と、光重合開始剤（Ｂ）とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記重合性単量体（Ａ）が、水素結合性官能基と含フッ素基を有する重合性単量体（Ａｘ）を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、カラー液晶表示装置における液晶層に位置する、つまり液晶に近接した着色スペーサの形成に適した、液晶の電圧保持率に優れた着色感光性組成物を提供することにある。
【解決手段】（ａ）顔料分散液、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）エチレン性不飽和化合物、及び（ｅ）溶剤を混合してなる着色感光性組成物であって、（ａ）顔料分散液中の粒径５０ｎｍ以下の顔料粒子が、（ａ）顔料分散液中の全顔料中の３０重量％以下であり、かつ（ｄ）エチレン性不飽和化合物に対する（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の重量比が１０未満であることを特徴とする着色感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】滑り性に優れた塗膜を形成する帯電防止樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ａ）、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）、及び４級アンモニウム塩基含有ポリマー（Ｃ）を含有する帯電防止樹脂組成物。ポリテトラメチレングリコール骨格を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）の含有量が（Ａ）〜（Ｃ）の合計中０．５〜４０重量％である。 （もっと読む）

【課題】硬化物の導電性、耐溶剤性及び柔軟性が高い光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】３官能以上の多官能ビニル系化合物と単官能及び／又は２官能ビニル系化合物と導電剤とを組み合わせて、昇温速度５℃／分及び周波数１０Ｈｚの条件で−５０℃から２５０℃まで測定した動的粘弾性試験において、硬化物のゴム状領域における貯蔵弾性率Ｅ′が２００〜２０００ＭＰａである光硬化性組成物を調製する。前記単官能及び／又は２官能ビニル系化合物は、鎖状脂肪族骨格を有する鎖状脂肪族２官能（メタ）アクリレートを含んでいてもよい。前記鎖状脂肪族骨格は、ラクトン由来の単位及び／又は脂肪族ポリエステル単位を含んでいてもよい。前記単官能及び／又は２官能ビニル系化合物は、さらに脂環族及び／又は芳香族骨格を有する環含有２官能（メタ）アクリレートを含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（４）を含有する感光性組成物。
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、
（２）酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）、
（３）重合性物質（Ｄ）、
（４）重合性基を有する着色剤（Ｅ）、重合性基を有する金属酸化物粉末（Ｆ）、重合性基を有する金属粉末（Ｇ）及び重合性基を有するケイ素酸化物粉末（Ｊ）からなる群から選ばれる少なくとも１種。 （もっと読む）

【課題】パターン剥がれを効果的に抑制し、塗布性に優れ、かつ、経時安定性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体、（Ｂ）重合開始剤および（Ｃ）溶剤を含有する硬化性組成物の製造方法であって、重合性単量体（Ａ）および重合開始剤（Ｂ）からなる群のうち少なくとも１種の化合物を含む液（Ｄ）を１種類調整し、該液（Ｄ）をフィルターに通過させ、その後に、溶剤（Ｃ）を加えるか、重合性単量体（Ａ）および重合開始剤（Ｂ）からなる群のうち少なくとも１種の化合物を含む液（Ｄ）を２種類以上調整し、それぞれの液（Ｄ）をフィルターに通過させた後互いに混合したものに、溶剤（Ｃ）を加えることを特徴とするインプリント用硬化性組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（３）を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であり、前記重合反応と並行して酸発生剤（Ｂ）に活性光線を照射することにより発生した酸により重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行する感光性組成物。
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、又はラジカル開始剤（Ａ）及び塩基発生剤（Ｃ）
（２）酸発生剤（Ｂ）
（３）重合性物質（Ｄ） （もっと読む）

【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（３）を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であり、前記重合反応と並行して塩基発生剤（Ｃ）に活性光線を照射することにより発生した塩基により重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行する感光性組成物。
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、又はラジカル開始剤（Ａ）及び酸発生剤（Ｂ）
（２）塩基発生剤（Ｃ）
（３）重合性物質（Ｄ） （もっと読む）

【課題】撥水性、滑り性等の性能を長期に渡って向上させることが可能な光硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）（ａ）イソシアネートと反応可能な官能基を有するポリジメチルシロキサン化合物と（ｂ）分子構造中に環状骨格を有するポリイソシアネート化合物と（ｃ）イソシアネートと反応可能な官能基及び光重合性反応基をそれぞれ１つ以上有する化合物とを反応させて得られる光重合性シリコーンオリゴマー、（Ｂ）該（Ａ）光重合性シリコーンオリゴマーと共重合可能な光重合性反応基含有オリゴマー及び／又はモノマー、並びに、（Ｃ）光重合開始剤を含有することを特徴とする光硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】安定した耐汚染性、セロハンテープ剥離性を持った活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】電子線または紫外線硬化性樹脂６０〜９５重量％、シリカ粒子１〜２０重量％、アミノ基を有するシリコーン樹脂０．１〜１０重量％およびアミノ基を有していないシリコーン樹脂０．１〜１０重量％を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の製造方法であって、アミノ基を有するシリコーン樹脂を用いてシリカ粒子を処理する工程（１）と、前記処理物をさらに、アミノ基を有していないシリコーン樹脂と混合する工程（２）とを経由して製造される活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 可視光域での回折効率が高く、格子高さを低くすることができ、フレア発生量が少ない光学素子を作製するために用いられる有機無機ハイブリッド樹脂組成物および光学素子を提供する。
【解決手段】 重合性官能基を有する有機化合物と、金属酸化物微粒子と、重合開始剤とを少なくとも含有する有機無機ハイブリッド樹脂組成物からなり、前記有機無機ハイブリッド樹脂組成物を活性エネルギーの付与により硬化させた硬化物の屈折率ｎｄが１．６１以上１．６５以下、アッベ数νｄが１３以上２０以下、異常分散性θｇ，Ｆが０．４２以上０．５４以下である有機無機ハイブリッド樹脂組成物およびその硬化物からなる有機無機ハイブリッド樹脂材料。透明基板と、前記透明基板上に形成された前記有機無機ハイブリッド樹脂材料とからなる光学素子。 （もっと読む）

【課題】リチウム塩を添加したとしてもイオン伝導性が低下しにくく、かつ優れた難燃性を有する電解質組成物を提供する。
【解決手段】下記成分Ａ及びＢを含有する電解質組成物。（Ａ）単官能（メタ）アクリル酸エステル、飽和カルボン酸ビニルエステル又はヒドロキシ基が置換していてもよいアルキルビニルエーテルに由来する繰り返し単位と、多官能（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位とを有する高分子化合物。（Ｂ）下記式（１）で表される化合物


〔式（１）中、Ｒ¹及びＲ²は、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】硬化物の導電性及び耐溶剤性が高い電子線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】３官能以上の多官能ビニル系化合物と、脂環族及び／又は芳香族骨格を有する単官能及び／又は２官能ビニル系化合物と、導電性フィラーとを組み合わせて電子線硬化性組成物を調製する。前記単官能及び／又は２官能ビニル系化合物は、橋架け環式及び／又はビスフェノール骨格を有する（メタ）アクリレートであってもよい。前記多官能ビニル系化合物は、３〜６官能（メタ）アクリレートであってもよい。前記導電性フィラーは、導電性カーボンブラックであってもよい。本発明の電子線硬化性組成物は、電子線を照射して硬化物を製造するために用いられ、溶媒と接触して使用される用途に適している。 （もっと読む）

【課題】十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、カールが抑制された光学フィルムを提供すること。
【解決手段】下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物によりハードコート層を透明基材上に形成し、光学フィルムを得る。
（ａ）炭酸ジメチル
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物
（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物
（ｄ）光重合開始剤 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性及び耐擦り傷性に優れた合成樹脂製床材用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】分子量５．０×１０^３以下の二官能ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（ａ１）および分子量５．０×１０^３以下の三官能ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（ａ２）からなるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ）と、二官能（メタ）アクリレートモノマー（ｂ１）および一分子中に三つ以上の不飽和二重結合を有する多官能（メタ）アクリレートモノマー（ｂ２）からなる（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）を含有してなり、重量比が（Ａ）：（Ｂ）＝２０：８０〜８０：２０である合成樹脂製床材用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】ガラス・金属との密着性が高い硬化膜が求められている。また、たとえば、半導体集積回路に形成された硬化膜であって、加熱されても、基板界面での膨れや剥離を防ぐことができる硬化膜が求められている。たとえば、半導体集積回路の製造における保護膜の形成にかかる手間や時間を短縮し、消耗品も削減することが求められている。
【解決手段】リン酸エステルを有する化合物（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）以外のラジカル重合性モノマー（Ｅ）と、界面活性剤(Ｆ)を含む光ナノインプリント用硬化性組成物により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】半硬化物の変形性をコントロールすることにより、成形時のバリの発生が抑制され、成形後の良品率が高く、リフロー工程に用いられる程度に耐熱性が高い硬化物の製造方法の提供。
【解決手段】（メタ）アクリレートモノマー、非共役ビニリデン基含有化合物、および熱ラジカル重合開始剤を含有する硬化樹脂組成物に対して光照射および加熱のうち少なくとも一方を行って、２５℃、周波数１０Ｈｚにおける複素粘度が１０⁵〜１０⁸ｍＰａ・ｓの半硬化物を得る工程と、前記半硬化物を成形型に入れ加圧変形し、加熱して熱重合させて硬化物を得る熱重合工程と、を含む硬化物の製造方法（但し、非共役ビニリデン基含有化合物は、（メタ）アクリレートモノマーを含まない。前記半硬化物を得る工程が前記硬化樹脂組成物に対して光照射する工程を含む場合は、前記ラジカル重合開始剤がさらに光ラジカル重合開始剤を含む。）。 （もっと読む）

【課題】半硬化物の変形性をコントロールすることにより、成形時のバリの発生が抑制され、成形後の良品率が高く、リフロー工程に用いられる程度に耐熱性が高い硬化物の製造方法の提供。
【解決手段】２つ以上のラジカル重合性基を有し、非共役ビニル基、非共役（メタ）アリル基もしくは非共役イソプロペニル基を含むモノマー、（メタ）アクリレートモノマー、光ラジカル重合開始剤および熱ラジカル重合開始剤を含有する硬化樹脂組成物に対して光照射して、２５℃、周波数１０Ｈｚにおける複素粘度が１０⁵〜１０⁸ｍＰａ・ｓの半硬化物を得る工程と、前記半硬化物を金型に入れ加圧変形し、加熱して熱重合させて硬化物を得る熱重合工程と、を含む硬化物の製造方法（ただし、前記（メタ）アクリレートモノマーには、２つ以上のラジカル重合性基を有し、非共役ビニル基、非共役（メタ）アリル基もしくは非共役イソプロペニル基を含むモノマーに該当するものは含まれない）。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいてフォトレジストの下層で使用され、フォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、フォトレジストとのインターミキシングを起こさず、アスペクト比が大きいホールを有する半導体基板の表面を平坦化できる下層膜、及び該下層膜を形成するための下層膜形成組成物を提供すること。
【解決手段】フォトレジストの下層に使用される下層膜を光照射によって形成するための組成物であって、重合性物質及び光重合開始剤を含み、該重合性物質がラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも一つ有する重合性化合物であり、そして該光重合開始剤が光ラジカル重合開始剤である、下層膜形成組成物。 （もっと読む）