【課題】本発明は、光学フィルム、位相差フィルムおよびその製造方法と、前記光学フィルムまたは位相差フィルムを含む偏光板および液晶表示装置に関するものである。
【解決手段】本発明は、ガラス転移温度が異なる２種以上の(メタ)アクリル系樹脂を含むグラフト共重合体を含む光学フィルム、位相差フィルムおよびその製造方法と、前記光学フィルムまたは位相差フィルムを含む偏光板および液晶表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】押出し加工性がよく、また柔軟性、光沢性が良好で、特に耐久安定性に優れた押出し成型向けポリエチレン系樹脂組成物およびその組成物からなる給水用パイプ、ガス輸送用パイプを提供すること。
【解決手段】特定の物性を有する、エチレンと炭素数３〜２０のα−オレフィンとからなる共重合体である線状系ポリエチレン（Ａ）９５〜６５重量％と特定の物性を有する分岐状高圧法低密度系ポリエチレン（Ｂ）５〜３５重量％とを配合してなり、１９０℃、２．１６ｋｇ荷重における（Ａ）のメルトフローレートに対する（Ｂ）のメルトフローレートの比が１〜２０であるポリエチレン系樹脂組成物１００重量部と、有機過酸化物０．００５〜５重量部と、有機不飽和シラン化合物０．１〜１０重量部とを含むシラン変性用ポリエチレン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】スチレンモノマーとの反応性、耐衝撃性（アイゾット・デュポン）、光沢性などの諸物性を同時に改良した耐衝撃性ポリスチレン系樹脂を提供する。
【解決手段】ゴム状ポリマーを含有するゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物において、該ゴム状ポリマーが、（ａ）トルエン中３０℃で測定した固有粘度が１．０〜７．０である高シス-高ビニルポリブタジエン２０〜８０重量％と （ｂ）トルエン中３０℃で測定した固有粘度が１．０〜７．０であるシス−１，４構造が９０％以上のポリブタジエン８０〜２０重量％とからなるポリブタジエン組成物であることを特徴とするゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物、並びに該（ａ）高シス-高ビニルポリブタジエンのシス−１，４構造が６５〜９５％であり、ビニル構造が３０〜４％であることを特徴とする上記のゴム変性耐衝撃性スチレン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】架橋処理後に優れた粘着特性を発揮し、耐熱性および再剥離性が良好な粘着剤組成物を提供する。
【解決手段】モノマー単位として、一般式ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）ＣＯＯＣ_ｎＨ_２ｎＯＨ（ただし、Ｒ^１は水素またはメチル基、ｎは４〜１０の整数である）で表される（メタ）アクリル系モノマー０．２〜１０重量％含有する（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）１００重量部に対し、ホモポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が（Ａ）ポリマーのＴｇより高い単量体（ａ）１０〜２００重量部、および、過酸化物０．０２〜５重量部を配合して重合することにより得られる変性（メタ）アクリル系ポリマー（Ｂ）をベースポリマーとする粘着剤組成物であって、前記ベースポリマー１００重量部に対し、架橋剤０．０１〜２重量部含有することを特徴とする粘着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ＢＰＡ由来の構成成分を全く用いず、かつ、焼付け後の硬化塗膜の耐蒸気殺菌性を悪化させる原因物質である界面活性剤を実質的に用いずに、ポリマーエマルジョンを形成し、耐蒸気殺菌性、加工性、密着性、耐腐食性に優れる塗膜を形成し得る、缶内面被覆用として好適に用いられる水性塗料を提供すること。
【解決手段】カルボキシル基を有するアクリル系共重合体（Ｂ１）を含有するカルボキシル基含有成分（Ｂ）、塩基性化合物（Ｃ）、及び水（Ｄ）を含有してなるポリマーの水溶液ないしエマルジョン（１）の存在下に、エチレン性不飽和モノマー（Ａ１）を含有する被乳化成分（Ａ）を、ノニオン性の水溶性ラジカル開始剤（Ｅ）でラジカル重合してなるポリマーエマルジョン（Ｆ）を含有することを特徴とする水性塗料。 （もっと読む）

【課題】感度の良好なフラットパネルディスプレイ用ブラックマトリクス、絶縁膜、隔壁および回路材料等を形成することのできる無機粉体含有樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、（Ａ）顔料およびガラス粉体を含む無機粉体、（Ｂ）下記式（１）で表される化合物に由来の構成単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含む結着樹脂、（Ｃ）光重合性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有する。


〔Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜５の１価の炭化水素基、Ｒ²は２価の有機基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】耐熱性と透明性に優れ、かつアルカリ性水溶液に可溶な光学材料用樹脂組成物、それからなる光学材料用樹脂フィルム及びこれらを用いた光導波路を提供する。
【解決手段】（Ａ）主鎖にマレイミド骨格を含むアルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマ、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）重合開始剤を含有してなる光学材料用樹脂組成物、この光学材料用樹脂組成物からなる光学材料用樹脂フィルム、並びに、前記光学材料用樹脂組成物又は前記光学材料用樹脂フィルムを用いて形成されたコア部及び／又はクラッド層を有する光導波路である。 （もっと読む）

【課題】厚膜にも利用可能であり、彫刻感度が高く、低レーザーエネルギーで効率的に彫刻が可能であるとともに、解像度が良好なレーザー分解性用組成物および該組成物を用いたパターン形成材料を提供すること。
【解決手段】窒素原子を含む複素環を有する高分子化合物及び／又は窒素原子を含む複素環を有する重合性化合物、並びに、金属イオンを少なくとも含んでなることを特徴とするレーザー分解用組成物、及び、該組成物からなる層を有することを特徴とするパターン形成材料。 （もっと読む）

【課題】重金属イオンを選択的に分離するための表面刻印入りコア−シェル（Ｃｏｒｅ−ｓｈｅｌｌ）形のポリマー微少球体を提供する。
【解決手段】コア−シェル重合方法により製造された分子刻印入り高分子は、２つの段階によって製造される。一つの例として、スチレン（ｓｔｙｒｅｎｅ）とジビニルベンゼン（ｄｉｖｉｎｙｌｂｅｎｚｅｎｅ：ＤＶＢ）とを用いて種（ｓｅｅｄ）粒子を製造する段階と、該種粒子の表面に金属イオン刻印入り高分子を形成させる段階とを用いて製造されることができる。この方法により製造された刻印入り高分子は、刻印入りサイトが支持体（例えば、ＰＳビード）の表面に存在することによって、重金属イオン分離時間を短縮すると共に、界面活性剤や安定剤の使用も不要なので、経済的に且つ環境的に非常に有利である。 （もっと読む）

【課題】工業的な製造に適したブロックポリマーと、このブロックポリマーを含有する頭髪セット剤組成物等の化粧料組成物を提供する。
【解決手段】ビニル系官能基を有するモノマーからなる２以上のブロックが、ラジカル重合性ビニル系官能基と非ラジカル重合性官能基とを有する連結モノマーを介して結合されてなるブロックポリマー。２以上のブロックは、少なくとも、互いに異なるモノマー組成を有する第一ブロック及び第二ブロックを含み、連結モノマーのラジカル重合性ビニル系官能基が第一ブロックのモノマーと結合し、非ラジカル重合性官能基が第二ブロックのモノマーと結合する。 （もっと読む）

組成物は、アニオン開始剤の存在下での少なくとも一種の共役ジエンの重合に由来するベール化可能な重合体を含む。ベール化可能な重合体は、重合反応を停止させるための二酸化炭素の付加に由来するカルボキシラート停止部分を有する。該重合体は、35より大きなムーニーＭＬ₁₊₄粘度と、Ｘ（ここで、Ｘは75cPより大きい）の溶液粘度とを有する。該重合体を含む組成物にイオノライザーを加えることで、該重合体の溶液粘度をＸからＹ（ここで、Ｙは約0.3Ｘ〜約0.58Ｘである）に低下させる。ベール化可能な重合体は、耐衝撃性改質プラスチックとブレンドされ、向上したアイゾッド値及び光学的特性をもたらす。また、重合体、組成物及びイオノライザーの製造方法及び利用方法を記載する。 （もっと読む）

【課題】安定的かつ大量に、コアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成すること。
【解決手段】金属触媒の存在下においてモノマーをリビングラジカル重合させることによってコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって生成されたコアシェル型ハイパーブランチポリマーをコア部とし、当該コア部に酸分解性基を導入することによりシェル部が形成されたコアシェル型ハイパーブランチポリマーおよび酸触媒が存在する反応系を加熱環流することによって、シェル部を形成する酸分解性基の一部を酸触媒を用いて分解して酸基を形成する。酸基の形成に際しては、酸触媒として、シェル部が形成されたコアシェル型ハイパーブランチポリマーを溶解するとともに加熱還流時の温度では揮発しない物質を用いるようにした。 （もっと読む）

【課題】合成に際して排出される廃液量の低減を図りつつ、安定的かつ大量にコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成すること。
【解決手段】金属触媒の存在下におけるモノマーのリビングラジカル重合を経てコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって合成されたハイパーブランチポリマーをコア部とし、コア部に酸分解性基を導入することにより形成されたシェル部における酸分解性基の一部を酸触媒を用いて分解して酸基を形成したコアシェル型ハイパーブランチポリマーを形成する。その後、コアシェル型ハイパーブランチポリマーを有機溶媒に溶解させた溶液と当該溶液における有機溶媒の量に対して所定割合となる量の超純水とを混合することにより、溶液と超純水との混合溶液中にコアシェル型ハイパーブランチポリマーを析出させ、析出されたコアシェル型ハイパーブランチポリマーを混合溶液から抽出するようにした。 （もっと読む）

コントロールフリーラジカル反応を開始する官能性能力を有する新規なモノマー（ここでは“開始モノマー”）と、コントロールされたフリーラジカル重合反応からグラフト成分が由来する十分にコントロールされたポリエチレングラフトポリマーの形成のための、これらの開始モノマーを用いる新規なプロセスとが記載されている。前記開始モノマーは、所定時間、所定量の5-ノルボルネン-2-オールと水素化物若しくはアミンとを混合して混合物を調製し、前記混合物に所定量のアルキル若しくはアシルハロゲン化物を加えることで作製される。開始モノマーを用いたオレフィンの重合は、金属化合物の存在下で導かれ、ここで、該金属化合物は、VIII族に属する遷移金属錯体から構成される。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィーを中心としたナノファブリケションのためのポリマー素材として利用可能な、表面平滑性及びアルカリ可溶性を向上させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】モノマーのラジカル重合を経てコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成する際に、モノマーとラジカル重合を開始させる開始剤とラジカル重合の進行を抑制するラジカル捕捉剤とが存在する反応系において、ラジカル重合をおこなうようにした。 （もっと読む）

【課題】高度に制御された構造を有するハイパーブランチポリマーを、安定した収量を確保しつつ、簡易に大量合成すること。
【解決手段】金属触媒の存在下におけるモノマーのリビングラジカル重合を経てハイパーブランチコアポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって合成された重合物が存在する反応系から金属触媒を除去し、金属触媒が除去された反応系から微量金属成分を除去してから、微量金属成分が除去された反応系における重合物と前記モノマーとを分離するようにした。 （もっと読む）

【課題】反応性を低下させることなく金属触媒の量を低減し、高い分岐度を有するハイパーブランチポリマーを簡便に合成すること。
【解決手段】ハイパーブランチポリマーの合成に際して、第１の金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりコア部を製造する第１の工程と、第２の金属触媒存在下、第１の工程で得られたコア部に酸分解性基を導入することによりシェル部を形成する第２の工程と、第２の工程において形成されたハイパーブランチポリマーにおけるシェルを構成する酸分解性基の一部を、酸触媒を用いて分解して酸基を形成する第３の工程と、を含み、第１および第２の工程においては、第１または第２の金属触媒とともに還元剤を添加するようにした。 （もっと読む）

【課題】合成に際してのコアシェル型ハイパーブランチポリマー分子間における架橋に起因するゲル化を防止して、工業スケールでの合成に際してのプロセスの安定化を図ることができるコアシェル型ハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】モノマーのリビングラジカル重合を経てコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成するコアシェル型ハイパーブランチポリマーの合成方法であって、モノマーおよびラジカル捕捉剤が存在する反応系において前記リビングラジカル重合をおこない、リビングラジカル重合によって合成された重合物をコア部とし、当該コア部の末端に酸分解性基および酸基を含むシェル部を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィーを中心としたナノファブリケションのためのポリマー素材として利用可能な、表面平滑性及びアルカリ可溶性を向上させたハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】モノマーのリビングラジカル重合を経てコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成する際に、テルル基を有するビニルモノマーと下記式（１）であらわされるテルル化合物とアゾ系重合開始剤とを用いてリビングラジカル重合をおこなうようにした。
Ｒ（Ｔｅ）₂ ・・・（１）
ただし、上記式（１）の中のＲは、Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基またはフェニル基をあらわす。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、従来のビニル・シスポリブタジエンの優れた特性である引張応力をさらに向上させたビニル・シスポリブタジエンの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 粒子径が２０〜１００ｎｍであるシンジオタクチック−１，２−ポリブタジエンを分散させ、シス−１，４−ポリブタジエンを溶解させた炭化水素系有機溶剤を主成分としてなる混合物に、可溶性コバルト化合物と一般式ＡｌＲ_３(但し、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基又はシクロアルキル基である)で表される有機アルミニウム化合物と二硫化炭素とから得られる触媒を存在させて、１，３−ブタジエンを１，２重合する工程からなることを特徴とするビニル・シスポリブタジエンの製造方法。 （もっと読む）