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Fターム[4J026HD11]の内容

Fターム[4J026HD11]に分類される特許

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【課題】 ブロックコポリマーの自己組織化を利用し、低コストで周期パターンと非周期パターンを形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 実施形態のパターン形成方法では、被加工膜上でブロックコポリマーを自己組織化させて第1のブロック相および第2のブロック相を含むパターンを形成する。また、第1の条件で露光と現像を行い第1の領域に存在するブロックコポリマー全体を除去し、第1の領域以外の領域に第1のブロック相および第2のブロック相を含むパターンを残存させる。また、第2の条件で露光と現像を行い第2の領域に存在する第1のブロック相を選択的に除去し、第1の領域以外の領域と第2の領域以外の領域との重なり領域に第1のブロック相および第2のブロック相を含むパターンを残存させる。また、重なり領域を除く第2の領域に第2のブロック相のパターンを残存させ、残存したパターンをマスクとして被加工膜をエッチングする。 (もっと読む)


【課題】ブロック共重合体自己組織化方法、パターン化基板およびパターン化テンプレートを提供する。
【解決手段】リソグラフィを行ない、基板上に第1のパターンを形成する工程と、ブロック共重合体自己組織化を行ない、基板上に第2のパターンを形成する工程とを含む方法、パターン化基板テンプレート、およびリソグラフィ技術と自己組織化技術との組合せを含む方法が提供される。パターン化基板は、第1および第2のパターンを含んでもよい。 (もっと読む)


【課題】金属ナノ構造体の形状・サイズがより自在にデザインされた金属ナノ構造体を表面に備える基板を製造し得る方法の提供。
【解決手段】複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を基板表面に形成した後、当該層を相分離させる工程と、前記層のうち、前記ブロックコポリマーを構成する複数種類のポリマーのうちの少なくとも一種類のポリマーからなる相を選択的に除去し、前記基板表面の一部を露出させる工程と、露出された基板表面に金属イオンを接触させ、基板表面と金属イオンとの間に起こる電気化学反応により、当該基板表面に金属を析出させる工程と、を有する金属ナノ構造体を表面に備える基板の製造方法、並びに当該製造方法により製造された金属ナノ構造体を表面に備える基板。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。
【解決手段】まず、基板101の上に、化学増幅型レジスト材料からレジスト膜102を形成する。次に、レジスト膜102に極紫外線からなる露光光を選択的に照射してパターン露光を行う。続いて、パターン露光されたレジスト膜102を加熱し、加熱されたレジスト膜102を現像して、レジスト膜102からレジストパターン102aを形成する。化学増幅型レジスト材料は、アニオン部及びカチオン部を持つオニウム塩を有し且つアニオン部であるスルフォン酸基と共有結合した基を含む第1のモノマーユニットと、酸脱離基を含む第2のモノマーユニットとを含むブロックポリマーを含む。 (もっと読む)


【課題】 ―方向に迅速に動作する有機高分子アクチュエータを提供すること。
【解決手段】 ブロック共重合体の交互ラメラ構造を有する有機高分子薄膜、溶液部、および該高分子薄膜および溶液部をはさんだ電極からなる有機高分子アクチュエータ。 (もっと読む)


【課題】低光沢性耐候性熱可塑性樹脂およびその製造方法を提供する。
【解決手段】(メタ)アクリル酸アルキルエステル系重合体(A)および芳香族ビニル−シアン化ビニル系共重合体(B)を含み、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステル系重合体(A)はネットワーク状の分散相を形成し、前記芳香族ビニル−シアン化ビニル系共重合体(B)は連続相を形成する低光沢性耐候性熱可塑性樹脂である。 (もっと読む)


【課題】ラジカル重合性単量体を比較的短時間で定量的に重合が可能で、高分子量でありながら末端に化学変換可能な官能基を有する重合体およびブロック共重合体を製造できる方法を提供することであり、さらには、重合反応後、ポリマーを汎用性溶剤中再沈殿することで、用いた鉄錯体を溶剤中に回収し、それを再利用した重合体製造方法を提供すること。
【解決手段】鉄錯体を触媒とする重合体の製造方法において、3価鉄錯体から鉄粉による還元反応を行うことにより得られる2価鉄錯体を重合反応混合物中で発生させ、該2価鉄錯体を重合触媒として用いることを特徴とする重合体の製造方法、及び重合体を製造した後、該重合体を酸素により処理した後鉄錯体と反応混合物とを分離する工程と該工程により得られる鉄錯体をハロゲン化剤により処理する工程を含む回収方法により3価鉄錯体を回収する方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】カチオン重合可能なビニル系モノマーとラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体を、簡便かつ高収率で得る製造方法を提供する
【解決手段】RAFT剤の存在下にカチオン重合可能なビニル系モノマーをリビングカチオン重合させ、得られたリビングポリマーにラジカル重合可能なビニル系モノマーをリビングラジカル重合させることを特徴とする、該カチオン重合可能なビニル系モノマーと該ラジカル重合可能なビニル系モノマーとのブロック共重合体の製造法。 (もっと読む)


【課題】
基板上に離散的に配置した化学パターンに対して自己組織化により化学的パターンを補間し、長距離秩序性に優れ、低欠陥の相分離構造を発現させる方法を提供する。
【解決手段】
少なくとも第1セグメントおよび第2セグメントを有する高分子ブロック共重合体を含む高分子層を基板表面に配置する第1段階と、高分子層をミクロ相分離させ、第1セグメントを成分にする連続相とこの連続相の貫通方向に配列し第2セグメントを成分にするミクロドメインとから形成される構造を発現させる第2段階とを有し、基板は、ミクロドメインが形成される位置に離散的に配置された基板表面とは化学的性質の異なるパターン部材を有し、第1段階で配置する高分子層の厚みtと、高分子ブロック共重合体が形成するミクロドメインの固有周期dの関係が、(m+0.3)×d<t<(m+0.7)×dであり、mが0以上の整数であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】紫外線露光装置を用いて選択的にミクロ相分離構造を形成することが可能なブロック共重合体およびそれを用いて基板に微細パターンを低コストで形成できる基板の加工方法を提供する。
【解決手段】疎水性モノマの繰り返し構造を備えた疎水性ブロックと、親水性官能基を有する親水性モノマの繰り返し構造を備えた親水性ブロックとを基本骨格として有するブロック共重合体であって、前記親水性官能基の少なくとも一部が疎水性の保護基により被覆され、前記疎水性の保護基により被覆された親水性ブロックと前記疎水性ブロックとは互いに相溶であり、且つ前記親水性官能基を被覆している疎水性の保護基は、光照射により前記親水性官能基より脱離するブロック共重合体およびそれを用いて基板に微細パターンを形成する基板の加工方法。 (もっと読む)


本発明は、潤滑剤中の抗疲労添加剤として、少なくとも1種の非極性セグメントP及び少なくとも1種の極性セグメントDを有するエステル基含有ポリマーの使用に関し、この際、極性セグメントDは、少なくとも8個の繰り返し単位を有し、かつ極性セグメントD中の分散性繰り返し単位の質量割合は、極性セグメントDの質量に対して少なくとも30%である。 (もっと読む)


【課題】 耐候性、耐油性、柔軟性及び耐磨耗性、成形時の溶融流動性に優れ、かつ耐熱性、耐熱分解性にも優れるアクリル系ブロック共重合体を得る。
【解決手段】 メタアクリル系重合体を主成分とするメタアクリル系重合体ブロック(a)およびアクリル系重合体を主成分とするアクリル系重合体ブロック(b)からなるアクリル系ブロック共重合体(A)の重合体ブロックのうち少なくとも一方のブロックの主鎖中に、熱分解により容易に遊離のカルボキシル基を生成する所定の構造を有する単量体単位を一分子あたり少なくとも一つ導入する。 (もっと読む)


本発明は、潤滑油及び減摩特性を有する添加剤少なくとも1種を含有する良好な摩擦特性を有する潤滑剤組成物に関し、減摩特性を有する添加剤はブロックコポリマーであることを特徴とし、この際、このブロックコポリマーは、疎水性セグメントP及び極性セグメントDを包含し、この際、疎水性セグメントは、a)疎水性セグメント製造用のモノマー組成物の質量に対して0〜40質量%の式(I)[式中、Rは水素又はメチルを表し、Rは炭素原子数1〜5を有する直鎖又は分枝鎖のアルキル基を表し、R及びRは独立して、水素又は式−COOR’の基を表し、ここで、R’は水素又は炭素原子数1〜5を有するアルキル基を表す]のエチレン系不飽和エステル化合物1種以上を含有するモノマー組成物の重合によって得られる。
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制御されたラジカル重合のための光イニファータが記載される。光イニファータが、テレケリック(コ)ポリマーを提供するためのアズラクトン部分を有する。 (もっと読む)


【課題】 医療用素材として、コスト、成型性等の面で実用的であり、かつ良好な抗血栓性を有する高分子組成物、ならびに該高分子組成物用いた医療用材料を提供する。
【解決手段】 〔A〕次の一般式(1)で表される重合体ブロックと、一般式(2)で表される重合体ブロックを含む二元以上のブロック共重合体、及び〔B〕ポリスチレン系重合体により抗血栓性高分子組成物を構成する:
【化1】
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本発明は、化粧用として許容される有機液体媒体、少なくとも1種の皮膜形成線状エチレンブロックポリマーおよび別の皮膜形成剤を含む化粧品組成物に関する。前記有機液体媒体中には、前記皮膜形成剤を溶解または分散させることができる。本発明の組成物は、水相を含んでいてもよく、その場合、皮膜形成剤をその水相中に溶解または分散させることができる。また、本発明は、ケラチン物質上での前記組成物の性能を改善するために、このようなあるブロックポリマーおよび皮膜形成剤の組合せを使用できる方法に関する。 (もっと読む)


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