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Fターム[4J036DC39]の内容

エポキシ樹脂 (63,436) | 活性水素化合物(N含有化合物) (7,273) | N含有複素環 (2,374) | 飽和環状アミン (74)

Fターム[4J036DC39]に分類される特許

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【課題】銅箔引きはがし強さ及び耐薬品性に優れたハロゲン不使用の絶縁樹脂シートを提供することである
【解決手段】エポキシ樹脂、フェノール系硬化剤、ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物、ポリビニルブチラール樹脂及び無機充填材を含む樹脂組成物であって、ポリフェノール系酸化防止剤を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 低粘度で、着色が少なく、硬化性に優れたエポキシ樹脂、並びに耐熱性、光線透過率、耐光性、耐クラック性および耐水性のいずれにも優れたエポキシ樹脂硬化物を提供することである。
【解決手段】 一般式(1)で表されるエポキシ樹脂(A);前記エポキシ樹脂、並びに硬化剤(H1)および/または硬化触媒(H2)を含有するエポキシ樹脂組成物;前記エポキシ樹脂組成物より得られる硬化物である。
【化5】


[式中、R1は炭素数1〜20の直鎖または分岐アルキレン基を表す。] (もっと読む)


(a)少なくとも1つの環状ジアミン、(b)非複素環式アミン分子中の、最も塩基性のアミン基に対して、25℃で、約9.5〜約12のpKa値を有する、少なくとも1つの非複素環式アミン、(c)少なくとも1つのエポキシ樹脂及び(d)少なくとも1つのアルキル化フェノールを含む硬化性組成物であって;(i)前記環状ジアミンからのアミン水素の当量が、組成物中の環状ジアミン及び非複素環式アミンの両方からの総アミン水素と比較して、約5%超であり;(ii)前記組成物中の総エポキシの当量に対する組成物中の総アミン水素の当量比が、約1と等しいか又はそれ以上であり;そして(iii)アルキル化フェノールは硬化性組成物の約10重量%超の量である。 (もっと読む)


【課題】脂環式エポキシ樹脂の有する優れたシール性、耐光性、透明性を有すると共に、その脆性が改善され、柔軟性と剛性とのバランスに優れたフレキシブル太陽電池封止材用エポキシ樹脂組成物と、この組成物で太陽電池素子を封止してなるフレキシブル太陽電池を提供する。
【解決手段】下記(a)成分、(b)成分及び(c)成分を含有する太陽電池封止材用エポキシ樹脂組成物。この組成物で太陽電池素子を封止してなる太陽電池。
(a)成分;脂環式エポキシ樹脂
(b)成分;数平均分子量が200〜3000のジオール及び/又はトリオールから得られる脂肪族エポキシ樹脂
(c)成分;エポキシ樹脂用硬化剤 (もっと読む)


【課題】 ハロゲンやアンチモン化合物を実質的に含まないで難燃規格UL94V−0を達成する材料および、外形打ち抜き加工時に層間剥離がおきにくい積層板を提供すること。
【解決手段】 (a)エポキシ樹脂と、(b)ジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物からなる熱硬化性樹脂と、(c)フェノール類とトリアジン環を有する化合物とアルデヒド類の重縮合物とを必須成分として含有する変性エポキシ樹脂100重量部に対し無機充填剤を5〜250重量部添加してなる熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】フィルター材料として適する材料を提供する。
【解決手段】1つまたはそれ以上のエポキシ樹脂と両親媒性エポキシ樹脂硬化剤とを水中での相反転重合において反応させることによって得られるナノ多孔性ポリマー発泡体により上記課題が解決される。 (もっと読む)


【課題】接着性、耐熱性、可撓性、屈曲性、密着性、電気絶縁性、耐湿熱性等、とりわけ接着性と電気絶縁性の両立、屈曲性と耐熱性の両立という点で非常に優れており、プリント配線板をはじめとする電子材料周辺に用いられる接着剤およびコーティング剤として、好適に使用される硬化性ウレタン樹脂および該樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】ポリマーポリオール(A)およびジイソシアネート化合物(B)を反応させて末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマー(C)を生成し、
前記末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマー(C)および四塩基酸無水物(D)を反応させて末端酸無水物基含有樹脂(E)を生成し、
さらに、前記末端酸無水物基含有樹脂(E)および鎖延長剤(F)を反応させてなる硬化性ウレタン樹脂。 (もっと読む)


【課題】電気特性に優れており、かつ温度変化に対する安定性に優れている硬化物を与える熱硬化性樹脂、該熱硬化性樹脂を用いた熱硬化性組成物及び積層フィルムを提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される構造を少なくとも1つ有する熱硬化性樹脂、該熱硬化性樹脂と硬化剤とを含む熱硬化性組成物、並びに該樹脂組成物により形成された樹脂フィルム3と、該樹脂フィルム3が一方の面に積層されている基材フィルム2とを備える積層フィルム1。
【化1】


上記式(1)中、Rはエポキシ基を含む置換基を表す。 (もっと読む)


【課題】優れたアミン組成物、アミンエポキシ組成物、およびそれらの製造方法、およびそれらを用いた製造品の開発。
【解決手段】本発明は、N、N’ジメチル−メタ−キシリレンジアミンを含有するアミン組成物およびアミンエポキシ組成物の両者を開示する。N、N’ジメチル−メタ−キシリレンジアミン等のアミン、および構造が類似するアミンを生成させるための新規な方法がまた、開示される。 (もっと読む)


【課題】200℃以下程度の比較的低温で硬化可能な低温硬化性組成物の提供。
【解決手段】下記式(1)に示すトリアザ環化合物、例えばビスフェノールA、レゾルシノール等のフェノール化合物、及びグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、多官能エポキシ樹脂、高分子型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂を含有する低温硬化性組成物。


・・・(1)前記式(1)中、Rは炭素数10以下の有機基である。 (もっと読む)


【課題】流動性、接着性、寸法安定性及び低応力性に優れたエポキシ樹脂組成物及び電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤及び(C)シリコーン化合物を含有する組成物からなり、(C)が(c1)両末端にS−OHを有するシリコーン化合物と(c2)下記一般式(I−2)及び(I−3)を含む樹脂組成物並びに電子部品装置。


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本発明の対象は成形体の製造法に関し、その際、金型の硬化のためにブレンドを使用し、前記ブレンドは1つ以上のエポキシ樹脂及び混合物を含有し、且つ前記混合物中では、硬化剤成分a)が、使用されるエポキシ樹脂のエポキシ当量当たり0.3〜0.9アミン当量の範囲で使用され、且つ硬化剤成分b)が式Iの化合物である。
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【課題】耐半田リフロー性に優れた光半導体素子封止用固形エポキシ樹脂組成物およびそれを用いて光半導体素子を封止して得られる光半導体装置を提供する。
【解決手段】下記の(A)および(B)成分とともに、下記の(C)および(D)成分を含有する光半導体素子封止用固形エポキシ樹脂組成物である。そして、上記光半導体素子封止用固形エポキシ樹脂組成物を用いて光半導体素子を樹脂封止することにより光半導体装置が得られる。
(A)エポキシ樹脂。
(B)硬化剤。
(C)ポリエステル樹脂。
(D)硬化促進剤。 (もっと読む)


【課題】耐半田リフロー性に優れ、難燃性を確保した、封止用エポキシ樹脂成形材料及び、これにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)シラン化合物、(D)硬化促進剤、(E)無機充填剤を含有し、(C)シラン化合物が特定の化学式で表されるシラン化合物(C1)及び特定の化学式で表されるシラン化合物(C2)を含有し、(C1)及び(C2)が(C2)/(C1)=0.4〜4.7の重量比で配合される封止用エポキシ樹脂成形材料。 (もっと読む)


【課題】高膜厚塗布及びアルカリ現像が可能であるとともに、解像度の高く、引張破断伸びに優れかつ耐熱性に優れた硬化物を得ることが可能な、表面保護膜、層間絶縁膜、及び高密度実装基板用絶縁膜用途に適した感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)2つの特定構造の繰り返し単位を含む、水酸基を有するポリイミド重合体、(B)オキシラン基含有化合物またはオキセタニル基含有化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物、(C)アルコキシアルキル化されたアミノ基を有する化合物、(D)光酸発生剤および(E)溶媒を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】アクティブマトリクス駆動用半導体プロセス適合性に優れ、高度な光学性能を有するフィルム状透明複合化基板材料を提供する。
【解決手段】特殊な環状へテロ基構造を樹脂骨格内に有する硬化性透明樹脂(A)と、その他エポキシ化合物(B)、エポキシ硬化剤(C)とを熱処理することで得られる硬化樹脂(D)と、ガラスフィラー(E)からなるフィルム状複合材料。 (もっと読む)


【課題】高反射率のアルカリ現像型光硬化性熱可塑性ソルダーレジスト組成物およびそれを用いた高光反射機能を併せ持つ金属ベース回路基板を提供する。
【解決手段】屈折率1.4〜2.5かつ平均粒子長径1.0〜20μmの無機物質及び屈折率2.5〜3.0かつ平均粒子長径0.1〜0.5μmの無機物質を含有するアルカリ現像型光硬化性・熱硬化性ソルダーレジスト組成物、並びに金属箔上に絶縁層を形成し、絶縁層上に回路を形成した金属ベース回路基板において、絶縁層及び回路上に上述のソルダーレジスト組成物を用いて白色膜を設けた金属ベース回路基板であり、好ましくは、白色膜の可視光の460nm、525nm、及び620nmの反射率がいずれも80%以上である金属ベース回路基板。 (もっと読む)


【課題】耐溶剤性及び耐薬品性に優れた硬化物を、室温でも従来の物より短時間で与えることができる含フッ素硬化性組成物を提供する
【解決手段】(A)下記式(1)で示される、両末端に1級もしくは2級のアミノ基を有する含フッ素アミノ化合物、
Y−Q−Rf−(X−Rf)−Q−Y (1)
(B)1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物を、(A)成分中のアミノ基1モルに対して、該エポキシ基の量が0.1〜10モルとなる量で、
及び
(C)下記式(2)で表される含フッ素アルコールの少なくとも1種を、(A)成分中のアミノ基1モルに対して、アルコール性水酸基の量が0.001〜0.5モルとなる量で、
Rf’(CHOH) (2)
含む組成物。 (もっと読む)


【課題】 再溶融する際の粘度が低く、ボンディングワイヤの変形等を防止できる液状封止樹脂組成物およびその硬化物で封止した半導体装置を提供する。また、ボンディングワイヤを有する半導体パッケージ等同士を液状封止樹脂組成物で封止する工程を有する半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の液状封止樹脂組成物は、常温で固形かつ軟化点が80℃以下であるエポキシ樹脂と、硬化剤と、充填剤と、溶剤とを含む液状封止樹脂組成物であって、第1基板の一方の面側に配置された第1半導体素子と、前記第1半導体素子と前記第1基板とを電気的に接続するボンディングワイヤと、前記第1半導体素子の前記第1基板と反対側に配置された第2半導体素子とで構成される半導体装置の前記第1半導体素子と前記第2半導体素子との間を、前記エポキシ樹脂の軟化点以上の温度に加熱した状態で封止するように用いられる。 (もっと読む)


【課題】耐溶剤性が良好な硬化物を形成することが可能な硬化性樹脂組成物を提供すること。また、上記硬化性樹脂組成物の硬化物を含む電子部品を提供すること。
【解決手段】ポリアミドイミド樹脂と、エポキシ樹脂と、硬化促進剤と、を含む硬化性樹脂組成物であって、25℃においてN−メチル−2−ピロリドンに溶解する量が、表面積1mあたり3.0g以下である硬化物を形成する、硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


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