【課題】優れたマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；ｎは１〜３の整数；Ａ¹は式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子を含む基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた形状でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す；環Ｗ^１は、置換基を有していてもよい炭素数３〜３４のスルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性（ＣＤＵ）に優れたレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、式（Ｂ１）で表される塩と、溶剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；ｎは１〜３の整数；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は単結合又は２価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；Ｙは置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基；環ＷＲ^２は、置換基を有していてもよいラクトン環基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高強度ソイルセメント硬化体を得るために水セメント比をできるだけ低くしたソイルセメントスラリーとする場合であっても、優れた流動性及び流動保持性を備えて良好な施工性を確保することができ、同時に調製したソイルセメントスラリーから材齢２８日における一軸圧縮強度が３０Ｎ／ｍｍ^２以上となる、更には５０Ｎ／ｍｍ^２以上となる高強度ソイルセメント硬化体を得ることができるソイルセメントスラリー及びそのような高強度ソイルセメント硬化体を提供する。
【解決手段】少なくとも、セメント、水、土及び特定の分散剤組成物を含有しており、セメントの単位量及び水／セメント比を特定の範囲として、更に特定の分散剤組成物を特定割合で含有するソイルセメントスラリーとした。 （もっと読む）

【構成】
両性ポリアクリルアミドを含有するポリアクリルアミド系内添紙力剤であって、両性ポリアクリルアミドが、（ａ）（メタ）アクリルアミド ７０〜９９．８ｍｏｌ％、（ｂ）カチオン性ビニルモノマー ０．１〜１５ｍｏｌ％および（ｃ）アニオン性ビニルモノマー ０．１〜１５ｍｏｌ％を重合成分とし、ポリアクリルアミド系内添紙力剤の重量平均分子量（Ａ）が２００万〜１０００万であり、ポリアクリルアミド系内添紙力剤の重量平均分子量（Ａ）とポリアクリルアミド系内添紙力剤の２０％水溶液の粘度（Ｂ）の比（Ａ）／（Ｂ）が５００以上であり、ポリアクリルアミド系内添紙力剤の２０％水溶液の曳糸性が５〜６０ｍｍであることを特徴とするポリアクリルアミド系内添紙力剤である。
【効果】
本発明は、紙の地合いが良く、また、紙力増強効果、濾水性に優れるポリアクリルアミド系内添紙力剤およびその内添紙力剤を用いた紙の製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】重合後の未反応モノマーの含有量が低減し、バインダー性能が向上し、遊離ホルムアルデヒドが低減し、更に、低臭気である水性樹脂分散体及びその水性樹脂分散体を含む不織布及び／又は繊維加工用バインダー組成物を提供する。
【解決手段】水性樹脂分散体の製造方法であって、
（１）エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む単量体、並びにＮ−メチロール（メタ）アクリルアミド及び／又はＮ−アルコキシメチル（メタ）アクリルアミドを含む単量体混合物を、反応系のｐＨを４〜７の範囲に制御しながら、過酸化物、又は過酸化物及び有機酸若しくはそれらの塩の存在下で重合する第１重合工程、並びに
（２）未反応の前記単量体を更に過酸化物及び有機酸若しくはそれらの塩の存在下で重合する第２重合工程を
順次、含むことを特徴とする水性樹脂分散体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】分子量及び分子量分布が制御されたポリマーを、高い収率で、かつ短時間で製造する。
【解決手段】マクロリビング開始剤を調製する工程と、マクロリビング開始剤に、共役オレフィン化合物を添加する工程と、前記化合物を添加した後、光照射することにより、前記化合物を重合成長末端とするラジカルを選択的にカップリング反応させて二量化する工程とを備えることを特徴とするポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】フィルムと過酷化学物質とを含む製品を提供する。
【解決手段】フィルムは、８週間後の過酷化学物質溶解試験法で測定された８０秒未満の過酷化学物質溶解時間を示すことを特徴とし、当該フィルムは、ビニルアルコール（ＶＯＨ）と、１〜８モル％の遊離酸形の２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸または塩としての当該遊離酸（ＡＭＰＳ）とのコポリマーを含み、さらに、当該コポリマーが、当該コポリマー中のＡＭＰＳの含量に関する低い組成ドリフトを特徴とする、製品。 （もっと読む）

【課題】燃料電池等に使用するのに実用上必要な膜強度を与え、含水状態において高い導電性を与えると共に、低湿度状態においても高い導電性を与えるイオン伝導性膜を形成でき、かつ環境上安全な溶媒を用いて安価に製造できるイオン伝導性高分子物質の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（１）


で示される不飽和モノマーと、
（Ｂ）分子内に１個以上のスルホン酸基と１個以上のエチレン性不飽和結合とを有するスルホン酸基含有不飽和モノマーと、
（Ｃ）分子内に１個以上のホスホン酸基と１個以上のエチレン性不飽和結合とを有するホスホン酸基含有不飽和モノマーと
を含む不飽和モノマーを親水性重合触媒及び親油性重合触媒存在下に共重合させるイオン伝導性高分子物質の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、レジストパターンを形成した際に生じるＢｌｏｂ欠陥を抑制することができ、かつ保存安定性に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供することである。
【手段】 重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物であって、 重合体成分（Ａ）が有する全繰り返し単位のうちの少なくとも一部として、カルボキシル基を有する繰り返し単位（ｃ）と、スルホ基を有する繰り返し単位（ｓ）とを有し、 溶剤（Ｂ）として、炭素数が２以上８以下のエーテル系溶剤（Ｂ１）を含む、液浸上層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性（ハガレ耐性）に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位（ａ）を有する重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物である。具体的には、複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位が下記式（ａ１）である液浸上層膜形成用組成物である。
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【課題】調製するＡＥコンクリートの流動性や空気連行量、また得られる硬化体の圧縮強度や中性化抑制に悪影響を及ぼすことなく、得られる硬化体の収縮率を５０マイクロ以下に抑えて該硬化体を実質的に無収縮のものにすることができる無収縮ＡＥコンクリートの調製方法を提供する
【解決手段】セメント、細骨材、粗骨材、乾燥収縮低減剤、膨張材、セメント分散剤、空気量調節剤及び水を用いてＡＥコンクリートを調製するに際し、セメントとして早強ポルトランドセメントを特定割合で用い、また細骨材の少なくとも一部として特定の高炉スラグ細骨材を特定割合で用い、同時に乾燥収縮低減剤及び膨張材を特定割合で用い、且つ単位量率が特定範囲となるようにした。 （もっと読む）

【課題】サイズ効果が良好であり、表面サイズ剤の製造から使用するまでの間、貯蔵安定性、特に、高濃度における貯蔵安定性に優れた製紙用表面サイズ剤および機械的シェアに安定で凝集物が発生しにくい表面塗工液を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリルアミド（ａ１）３０〜９０重量％、スルホン酸基含有不飽和単量体（ａ２−１）を含むアニオン性不飽和単量体（ａ２）５〜５０重量％、および置換基の炭素数が６〜１２である（メタ）アクリル酸アルキルエステル単量体（ａ３）５〜５０重量％を含む単量体成分（ａ）を共重合させて得られる水溶性ポリマー（Ａ）、アルキルケテンダイマー（Ｂ）、トリメリット酸トリアルキルエステル（Ｃ）および水溶性アルミニウム化合物（Ｄ）を含有する製紙用エマルジョン型表面サイズ剤とする。 （もっと読む）

【課題】従来の重合体と比較して十分な再汚染防止能を有する重合体を提供することを目的とする
【解決手段】
１質量％以上、８９質量％以下のヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート由来の構造単位（ａ）、１０質量％以上、９８質量％以下のカルボキシル基含有単量体（Ｂ）由来の構造単位（ｂ）、及び、１質量％以上、８９質量％以下のスルホン酸基含有単量体（Ｃ）由来の構成単位（ｃ）、を必須構造単位として有する共重合体である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、ＬＷＲが改善され高解像度のフォトレジストパターンを形成するフォトレジスト組成物用の高分子化合物の原料として有用なアクリル酸エステル誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ^４およびＲ^６はそれぞれ独立した基を表すか、またはＲ^４およびＲ^６は両者が結合して炭素数１〜３のアルキレン基、−Ｏ−、若しくは−Ｓ−を表す。Ｒ^１１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表す。）で示されるアクリル酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】糖鎖および／または糖の誘導体を含む生体試料の分析に用いられる糖鎖捕捉物質の製造方法およびこの製造方法に用いることができるモノマー、このモノマーを重合して得られるポリマーを提供する。また、その試料調製方法の用途を提供する。
【解決手段】下記の（式１３）で表される構造を有するモノマー。


（Ｒ2はＨ，ＣＨ3，または炭素数２〜５の炭化水素鎖，Ｒ6は−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，−ＣＯ−，−ＣＯＮＨ−で中断されてもよい炭素数１〜２０の炭化水素鎖，[P]は保護基を示す。） （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換された（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、マグネシウム、銅、亜鉛又はセシウムの（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の塩の繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なレジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【課題】Ｎ−ビニルカルボン酸アミド水溶液の逆相懸濁重合において、乳化状態を発生させず安定な懸濁状態を保ちながら細粒化されたＮ−ビニルカルボン酸アミド重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式ＣＨ_２＝ＣＨＮＨＣＯＲ（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表す。）で示されるＮ−ビニルカルボン酸アミド単量体単独、または共重合可能な他の単量体との混合物を逆相懸濁重合する方法において、炭化水素分散媒に対する界面活性剤の割合が１〜３重量％であり、予め炭化水素分散媒に懸濁させる水の比率が炭化水素分散媒に対する界面活性剤の重量％で表される特定の式を満たす条件とする。 （もっと読む）