【課題】レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び（ｂ２−１〜３）で表されるカチオン部を有する式（ｂ１−１）で表され、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】 光学材料として利用可能な高屈折率の組成物、及び高屈折率の硬化物を提供する。
【解決手段】 フェニルベンジルアクリレートと二官能（メタ）アクリレートまたはジフェニル誘導体を混合することによって、光学材料として好適な高屈折率かつ低粘度で、その硬化物が高屈折率かつ耐熱性や金型離型性にすぐれた組成物を提供することにより、上記課題を解決する。なおかつ、更にフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートを配合することにより、低粘度かつより高屈折率であって、さらに、その硬化物が高屈折率であって透明に優れ、耐光性、金型との離型性がよい組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】位相差層を形成した場合に生じる基材からの位相差層の剥離等の問題がなくて信頼性が高く、少ない数量であっても容易に任意のリタデーション値を得ることができ、又偏光層等の親水性フィルムとの接着性も良好にできる位相差フィルムを提供することを主目的とする。
【解決手段】高分子フィルム内に屈折率異方性を有する材料が含有されてなる位相差フィルムであって、上記屈折率異方性を有する材料が、上記高分子フィルムの厚み方向に濃度勾配を有していることを特徴とする位相差フィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】得られるパターンのラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）が良好なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位及び酸に不安定な基を有するモノマー（ａ１）に由来する構造単位を有する重合体（ＩＩ）と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^３は、置換基を有してもよい炭素数１〜１２の炭化水素基又はシアノ基を表し、該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。Ａ¹は、単結合又は−（ＣＨ_２）_ｍ１−ＣＯ−Ｏ−＊、−（ＣＨ_２）_ｍ２−ＯＣＯ−（ＣＨ_２）_ｍ３−ＣＯ−Ｏ−＊を表す。ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ１〜６の整数を表す。＊は、Ｎとの結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】 光学材料として利用可能な高屈折率の組成物、及び高屈折率の硬化物を提供する。
【解決手段】 フェニルベンジルアクリレートの異性体であるｏ−フェニルベンジルアクリレート（ＯＰＢＡ）とｐ−フェニルベンジルアクリレート（ＰＰＢＡ）を特定の比率で混合することによって、光学材料として好適な高屈折率かつ低粘度の組成物を提供する。なおかつ、更にフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートを配合することにより、低粘度かつより高屈折率であって、さらに、その硬化物が高屈折率であって透明に優れ、耐光性、金型との離型性がよい組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、１級又は２級の水酸基を備えた繰り返し単位（Ｃ）とを含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】側鎖の配向状態を熱や光照射等の外部刺激により可逆的に制御可能で、製造コストが低く、固有の色が薄く、かつ材料選択の自由度の高い液晶高分子およびそれを用いた表示記録装置を提供する。
【解決手段】フォトクロミズムを示すアゾベンゼンを側鎖に含むアゾベンゼンモノマーと、可視光領域を有しないと共にフォトクロミズムを示さないメソゲン基を有するモノマーの共重合体である液晶高分子からなる光学素子をアゾベンゼンの光異性化をドリガーとして、アゾベンゼンおよびメソゲン基全体の配向状態および液晶高分子の屈折率を制御する。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は炭素数４〜３６の脂肪族環；環Ｗ^２は、炭素数４〜１８のラクトン環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基；Ｙは置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】 感度、解像性といった基本特性だけでなく、ＤＯＦ性能も満足する感放射線性樹脂組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】 （Ａ）炭素数６〜２５の脂環式炭化水素骨格を有し、該脂環式炭化水素骨格にカルボニル基を２つ以上有する化合物、および（Ｂ）酸解離性基で保護されたアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶性となる樹脂を含有することを特徴とする、感放射線樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】帯電極性の異なる複数種類の粒子の存在下でも凝集が抑制された着色樹脂粒子の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】顔料１〜３０重量％と、（メタ）アクリル系重合性単量体５０〜９８．９重量％と、窒素含有基を有する化合物０．１〜２０重量％とを含む重合性組成物を、酸可溶性の難水溶性無機系分散剤の存在する水性媒体中で、重合させることで着色樹脂粒子を得る工程と、懸濁重合後の水性媒体を、酸を添加することで、３以下のｐＨにする工程と、前記ｐＨ３以下の水性媒体から、前記着色樹脂粒子を分離し、洗浄する工程と、前記洗浄後の着色樹脂粒子を、０〜８０℃の条件下で水溶性有機溶剤を含むアルカリ水溶液中で保持する工程と、前記アルカリ水溶液から、前記着色樹脂粒子を分離し、洗浄する工程とを含むことを特徴とする電気泳動用着色樹脂粒子の製造方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】液晶配向膜など多様な光反応に応用可能であり、多様な有機化合物または重合体の前駆体として好適に使用可能である、光反応基を有する新規な環状オレフィン化合物および光反応性重合体を提供する。
【解決手段】下記の化学式１で表される光反応基を有する環状オレフィン化合物：
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【課題】塗膜表面に優れた防汚性及び滑り性を付与することができ、フッ素系界面活性剤又はフッ素系表面改質剤として用いることができる含フッ素重合性樹脂、それを用いた活性エネルギー線硬化型組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】平均分子量が２，５００〜１０，０００であるポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を有し、その両末端にラジカル重合性不飽和基を有する化合物（Ａ）と、反応性基（ｂ）を有するラジカル重合性不飽和単量体（Ｂ）とを必須の単量体成分として共重合させて得られる重合体に、前記官能基（ｂ）と反応性を有する官能基（ｃ）とラジカル重合性不飽和基とを有する化合物（Ｃ）を反応させて得られる含フッ素重合性樹脂を用いる。 （もっと読む）

【課題】
粒度分布がシャープで且つ空隙率：３８容積％以上の中空ＰＶＣ粒子を提供すること。
【解決手段】
本発明は、６０メッシュ篩の通過率が９５ｗｔ％以上で且つ２００メッシュ篩の通過率が５％以下であり、且つ空隙率：３８容積％以上である中空塩化ビニル樹脂粒子及びその製造方法に関するものである。
製造方法は、主成分としての塩化ビニルと多官能性モノマーとを含むモノマー成分と、重合開始剤、分散剤及び乳化剤とを含む系で、懸濁重合により塩化ビニル樹脂粒子を製造する際に、前記乳化剤成分として高級脂肪酸エステルを全モノマーに対し、１０，０００〜２０，０００ｐｐｍ添加することを特徴とするものであり、同粒子を、スケールを発生させること無く、高収率（重合収率：８０％以上）で、製造することが可能である。 （もっと読む）

【課題】現像後のディフェクト発生を抑制でき、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）及び式（ａ１−１）で表される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含み、（Ａ１）を構成する全構成単位の合計に対し、構成単位（ａ０）の割合が１０〜６０モル％、構成単位（ａ１）の割合が１０〜６０モル％、これらの合計が７０モル％以下であるポジ型レジスト組成物。
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【課題】 平均一次粒子径が８０〜５００ｎｍの有機微粒子を用いることにより塗工面に微細な凹凸を形成し巻き取り可能にする。
【解決手段】 多官能（メタ）アクリレート化合物１００重量部に対して、リン酸エステル基を有する（メタ）アクリレート化合物を１〜３０重量部、２官能以上の（メタ）アクリレートを主成分とし平均粒子径が８０〜５００ｎｍの有機微粒子を固形分で０．５〜５０重量部配合する。更に、アミド基含有（メタ）アクリレート化合物を５〜２０重量部を配合する。 （もっと読む）

【課題】 特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、芳香環およびラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｃ）を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた耐光性と、樹脂との高い相溶性を有し、樹脂に添加した場合に長期の光曝露による樹脂の劣化と、それ自体のブリードアウトを効果的に抑制することができる紫外線吸収剤として有用な重合体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される単量体に由来する構造単位を有することを特徴とする重合体。


［Ｒ^１ａ〜Ｒ^１ｐの少なくとも１つは、重合性基を有する。］ （もっと読む）

【課題】反射率、鉛筆硬度および耐クラック性に優れた微細構造体を提供する。
【解決手段】表面に略円形または略多角形の開口部を有する錘状凹部が形成された微細構造体であって、前記開口部の平均幅が４００ｎｍ以下であり、分子内に２つ以上の（メタ）アクリレート基を有する化合物（Ａｘ）を重合性化合物の合計量に対して８０質量％以上含有する光硬化性組成物（Ａ）の硬化物である微細構造体。 （もっと読む）

【課題】塗膜表面に優れた防汚性を付与することができる重合性フッ素系化合物を提供する。また、塗膜表面を摩耗させても、優れた防汚性を維持できる活性エネルギー線硬化型組成物、その硬化物及びその硬化塗膜を有する物品を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される重合性フッ素系化合物を用いる。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは（メタ）アクロイルオキシ骨格を有する基であり、残りは水酸基を表し、Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立に２価の有機基、ＰＦＰＥはポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を表す。また、ｎは平均で０〜１０の範囲を表す。） （もっと読む）

【課題】現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（式中の各記号は、特許請求の範囲に記載の意味を表す。）
【化１】
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