【解決手段】 式（１）及び（２）で示される繰り返し単位をそれぞれ１種以上含む重量平均分子量１，０００〜５０，０００の高分子化合物。
【化１】


［Ｒ¹、Ｒ³はＨ又はＣＨ₃、Ｒ⁴はアルキレン基、Ｒ²は式（Ｒ²−１）〜（Ｒ²−４）から選ばれるラクトン構造を有する置換基。
【化２】


（ＹはＣＨ₂又はＯ、ＹがＣＨ₂の場合、Ｒ⁵はＣＯ₂Ｒ⁷、ＹがＯの場合、Ｒ⁵はＨ又はＣＯ₂Ｒ⁷、Ｒ⁶はＨ又はアルキル基、Ｒ⁷はアルキル基又は該アルキル基の炭素−炭素結合間に酸素原子が挿入された基。）］
【効果】 本発明の高分子化合物は、レジスト材料、特に化学増幅型ポジ型レジスト材料のベース樹脂として使用されて、高い感度、解像性、ドライエッチング耐性を与えると共に、基板密着性が良好で、パターン側壁の荒れが防止されたレジストパターンを与える。 （もっと読む）

本発明は、硬化した際に少なくとも５０℃のガラス転移温度を有するフォトクロミック物品を形成する重合可能な組成物に関し、この組成物は：
（ａ）モノマー成分を含有する重合可能な組成物と、
（ｃ）フォトクロミック部分と、硬化時にモノマー成分と反応する少なくとも１つの基を有する少なくとも１つのオリゴマー基とを含むフォトクロミック染料モノマーとを含有し、ここで、オリゴマー基はアルキレンオキシおよびハロアルキレンオキシから選択される少なくとも７個のポリエーテルモノマーユニットを含む。 （もっと読む）

本発明は、ａ）式（Ｉ）及び（ＩＩ）［式中、Ｒ^１は相互に無関係にそれぞれ、水素又はメチル基を表し、Ｒ^２は相互に無関係にそれぞれ、直鎖又は分枝鎖の脂肪族又は環式脂肪族基又は置換又は非置換の芳香族又はヘテロ芳香族基を表し、ｍ及びｎは相互に無関係にそれぞれ０以上の整数であり、ｍ＋ｎは＞０である］の化合物、ｂ）ポリメタクリレート及びアルキルジチオール又はポリチオール、有利にはＨＳ−Ｒ^３−ＳＨ（ＩＩＩ）［式中、Ｒ^３はＲ^２と同じ又は異なり、Ｒ^２に記載のものを表すことができる］の化合物から製造されるプレポリマー及びｃ）芳香族ビニル化合物を包含している、透明プラスチック製造用の混合物に関する。
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本発明は、アミド基及びエステル基を有するポリマー（Ｐ）の調製方法であって、第一工程において、（メタ）アクリル酸のホモポリマーまたはコポリマー（Ｐ１）とモノヒドロキシル化合物（Ｅ）とを上限２００℃の温度で反応させて、エステル基に加えて無水物基を形成させ、第二工程において、第一工程で形成した無水物基とモノアミン化合物（Ａ）とを１００℃よりも著しく低い温度で反応させて、アミドを得ることを特徴とする方法に関する。本発明はさらに、上記方法により調製されるポリマー、その水硬性組成物中における使用、並びに水の添加による硬化前もしくは後の前記水硬性組成物にも関する。 （もっと読む）

a) 処理されていないか又は前処理されている基板、及びb) (i)水性アルカリ性現像剤中に可溶性又は膨潤性の1種以上の高分子バインダー；(ii)1つ以上の非芳香族C-C二重結合と1つ以上のSH基とを分子中に含む1種以上のラジカル重合可能モノマー及び/又はオリゴマー；及び(iii)ラジカル重合のための輻射線感受性開始剤又は開始剤系を含む輻射線感受性塗膜を含んで成る平版印刷版前駆体であって、成分(ii)が式(I)、［ここで当該式中、各R^1a、R^1b、及びR^1cは独立して、H、C₁-C₆アルキル、C₂-C₈アルケニル、アリール、ハロゲン、CN及びCOOR^1dから選択され、ここでR^1dは、H、C₁-C₁₈アルキル、C₂-C₈アルケニル、C₂-C₈アルキニル、又はアリールであり；そして、Zは脂肪族、複素環式又は複素芳香族スペーサー、又はこれらのうち2つ又は3つ以上の組み合わせであり、Zは随意選択的に、1つもしくは2つ以上の追加のSH基、及び/又は1つもしくは2つ以上の追加の非芳香族C-C二重結合を含むことができ；そして、各Z¹は独立して、単結合、式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)、(Ie)、(If)、(Ig)、(Ih)、(Ij)、(Ik)、(Im)、(In)、(Io)、(Ip)、(Iq)、(Ir)、(Is)、(It)、(Iu)、(Iv)、から選択される、（ここで式中、R^2a、R^2b、及びR^2cは独立して、H、C₁-C₆アルキル、及びアリールから選択され、Z²は、単結合、O、S及びNR^2cから選択され、Z³は、Zに結合された単結合であり、bは、整数1〜10であり、そしてcは、整数1〜3である）］を有する平版印刷版前駆体。
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【課題】常温で液状であり、取り扱いが容易である（メタ）アクリレートの提供、さらには溶剤に対する溶解性が向上した（メタ）アクリレート（共）重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるノルボルナンラクトン系（メタ）アクリレート。
【化１】


（上式において、Ｒ₁は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜３の整数、Ｒ₂は水素原子またはメチル基を表す。）
また、一般式（１）で表されるノルボルナンラクトン系（メタ）アクリレートを含む単量体混合物を重合することによって得られる（共）重合体。
本発明の好ましい態様として、一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種と、共重合可能な化合物の少なくとも１種を含む単量体混合物を重合することによって得られる共重合体であって重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜２０００００である共重合体。 （もっと読む）

本発明は、分岐末端の修飾が容易で、分岐度が高く、しかも狭分散の多分岐高分子を提供することを目的とする。
２以上の重合開始点と重合性不飽和結合とを有する化合物を、金属触媒を用いたリビングラジカル重合法を用いることにより、式（Ｉ）


（式中、Ｒ_１〜Ｒ_３は、それぞれ独立して水素原子または炭化水素基を表し、Ｒ_１とＲ_３は結合して環を形成してもよい。Ｘは３価以上の連結基を表す。Ｙは末端にハロゲン原子を有していてもよい官能基を表し、ａは２以上の整数を表し、Ｙ同士は同一であっても相異なっていてもよい。）で表される繰り返し単位を有する峡分散、高分岐度の多分岐高分子を製造することができる。 （もっと読む）

カルボキシル官能基を担持する、水溶性非ペプチド重合体、特にカルボン酸官能化ポリ（エチレングリコール) (PEG)重合体を調製するための方法、並びにこれらの方法の生成物が開示されている。一般に、エステル試薬Ｒ（Ｃ＝Ｏ）ＯＲ’（なお式中、Ｒ’は第三級基であり、Ｒは官能基Ｘを含む）を、水溶性非ペプチド重合体ＰＯＬＹ−Ｙ（なお式中、ＹはＸと反応して共有結合を形成する官能基である）と反応させて、該重合体の第三級エステルを形成し、次にそれを水溶液中で強塩基を用いて処理し、該重合体のカルボキシラートを形成させる。標準的には、次にこのカルボキシラートを水溶液中で無機酸を用いて処理して、該カルボキシラートをカルボン酸に転換させ、かくしてカルボン酸官能化重合体を形成させる。 （もっと読む）

新規なポジティブ・ワーキング・フォトレジスト組成物が開示されている。該レジストの原樹脂のモノマーは、ポリマンタン系においてアダマンタンよりも高級なダイヤモンド状核含有側基、例えば、ジアマンタン、トリアマンタン、テトラマンタン、ペンタマンタン、ヘキサマンタン等を含有している。該ダイヤモンド状核含有側基は、水酸基のような親水性増進置換基を有することが出来、ラクトン基を含有することが出来る。本組成物の利点には、改良された解像度、感度、及び基体への接着性が含まれる。
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本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性コポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性コポリマーは、ＲＡＦＴ（可逆付加開裂連鎖移動）重合のような、制御ラジカル重合（ＣＲＰ）技術を用いて製造される。 （もっと読む）

２つの工程におけるポリメタクリルイミドの製造方法：１）水含有希釈剤の存在での（メタ）アクリルアミド（Ａ、（Ｍｅ，Ｈ）ＨＣ＝ＣＨＣＯＮＨＲ^２）及びアルキル（メタ）アクリルエステル（Ｂ）並びに場合により別のエチレン系不飽和モノマーのラジカル共重合。モノマー（Ａ）は、アクリルアミド及びメタクリルアミドに加えて窒素上で置換されている（メタ）アクリルアミド（Ｒ^２＜＞Ｈ）も含む。モノマー（Ｂ）は、第二アルコール又は第三アルコールの（メタ）アクリルエステル、好ましくはｔ−ブチルメタクリレートである。２）アルケンの脱離下での１）からのコポリマーのポリメタクリルイミドもしくはＲ^２＜＞ＨについてはＮ−置換ポリメタクリルイミドへの熱的な又は触媒による反応。 （もっと読む）

本発明は、末端カルボキシル基又はカルボキシレート基を有する重合性共役ポリアセチレンのリチウム塩からなる光互変性フィラメントに関する。ここで、前記フィラメントの長さ対幅の比は約５０００:１と約５:１の間であり、該フィラメントの平均長さは約５ｃｍまでである。本発明はまた、画像化、放射線線量測定又は放射線の場の地図及び検出に、最大にした放射線感受性の前記塩を用いることに関係がある。 （もっと読む）

多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有する触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 線路導体層の線路幅の変化部または線路の屈曲部において、直線部との特性インピーダンスの不一致により高周波信号の反射波が発生する。
【解決手段】 下面に接地導体層22を有する誘電体基板21と、誘電体基板21の上面に形成され、その一部に線路幅の変化部または線路の屈曲部を有する線路導体層23とから成る高周波伝送線路であって、誘電体基板21は少なくとも線路幅の変化部または線路の屈曲部の直下が側鎖型の液晶ポリマーで形成されている。液晶ポリマーのメソゲン基Ｍの配向方向を変化させることにより誘電率を変化させることができるので、線路導体層23の特性インピーダンスの不一致を低減でき、高周波信号の反射波の発生を低減できる。 （もっと読む）