【課題】塗膜としたときに低屈折率性、透明性、防汚性、撥水撥油性、表面滑り性及び耐擦傷性等の特性を有し、かつ汎用有機溶剤への可溶性や貯蔵安定性に優れる含フッ素ランダム共重合体あるいは二重結合含有含フッ素ランダム共重合体、あるいはこれらを含む組成物を提供すること。
【解決手段】特定のフルオロオレフィン（A）１０〜７５モル％、特定のフルオロアルキルパーフルオロビニルエーテル（B）４〜７０モル％、特定の水酸基含有不飽和単量体（C）１０〜７０モル％、特定のポリシロキサン化合物（D）０．００１〜１０モル％を含んでなり、かつ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が5,000〜300,000であり、重量平均分子量／数平均分子量で表される分子量分布が1.0〜5.0の範囲であることを特徴とする含フッ素ランダム共重合体。 （もっと読む）

【課題】十分なプロセスマージンと良好な保存安定性を有し、かつ、層間絶縁膜、マイクロレンズとして必要な耐熱性、耐溶剤性、透明性、下地との密着性を備えた硬化物を与えうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物と（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキセタンと他のオレフィン系不飽和化合物との共重合体、１，２−キノンジアジド化合物、ならびにエポキシ基含有化合物および／または他のオキセタニル基含有化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】多孔性線状ポリマー組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】複数の線状混合極性ポリマー粒子を含む多孔性ポリマー組成物であって、前記粒子が、線状ポリ［（非極性オレフィン）−（極性オレフィン）］および少なくとも１つの孔を含むものが開示され、またさらに触媒成分も含む粒子も開示される。複数の線状混合極性ポリマー粒子を形成する方法も開示される。重合を触媒するための触媒成分を含む複数の線状混合極性ポリマー粒子を使用する方法がさらに開示される。複数の線状非極性ポリマー粒子および触媒成分を含む多孔性ポリマー組成物が、触媒成分を含む線状非極性ポリマー粒子の製造方法および重合を触媒するためにこれらを使用する方法とともに開示される。 （もっと読む）

【課題】電気抵抗が低く、耐熱性が高く、膨潤と収縮とを繰り返しに強い固体分子形燃料電池用固体高分子電解質膜；発電性能が高く、耐久性に優れる膜電極接合体を提供する。
【解決手段】固体高分子電解質膜１５に単位（Ｕ１）と単位（Ｕ２）とを有するポリマーを用いる。
［化１］


Ｑ^１、Ｑ^２＝パーフルオロアルキレン基等；Ｒ^ｆ１、Ｒ^ｆ２＝パーフルオロアルキル基；Ｘ＝酸素原子等；ａ＝０等；Ｙ、Ｚ＝フッ素原子、−ＣＦ_３等；ｓ＝０〜１；ｔ＝０〜３。 （もっと読む）

次の重量パーセンテージで共重合したモノマー：（ａ）式（Ｉ）：
Ｒ_f−（ＣＨ₂ＣＦ₂）_q（ＣＨ₂ＣＨ₂）_r−Ｚ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ₂
（Ｉ）
（式中、
ｑおよびｒは、それぞれ独立して１〜３の整数であり、
Ｒ_fは、炭素数２〜６の直鎖又は分岐鎖パーフルオロアルキル基であり、
Ｚは、−Ｏ−、−ＮＲ¹−、又は−Ｓ−であり、
Ｒは、水素、Ｃｌ、Ｆ又はＣＨ₃であり、
Ｒ¹は、水素、又はＣ₁〜Ｃ₄アルキルである）
のモノマー又はモノマーの混合物約２０％〜約９５％、および（ｂ）（ｉ）炭素数６〜１８の直鎖、分岐鎖、又は環状アルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートモノマー、又は（ｉｉ）式（ＩＩ）：
（Ｒ²）₂Ｎ−Ｒ³−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ₂
（ＩＩ）
（式中、
Ｒは、上記の定義通りであり、
各Ｒ²は、独立してＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり、
Ｒ³は、２価の直鎖又は分岐鎖Ｃ₁〜Ｃ₄アルキレンであり、
窒素は、約４０％〜１００％塩様になっている）
のモノマー、又は（ｉｉｉ）これらの混合物の少なくとも１つ約５％〜約８０％、
を含む組成物であって、接触する基材に撥油性、撥水性および耐汚染性を付与する組成物；および、このようなコポリマー組成物で基材を処理する方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】高いフッ素含有量と、高度な溶剤溶解性、アルカリ現像液溶解性、密着性、高硬度、高極性（相溶性）の各性能をバランスよく満たす新規の高分子化合物を提供する。
【解決手段】含フッ素ビニル系単量体および含フッ素アクリレート単量体から成る含有する含フッ素高分子化合物によって課題が解決する。該高分子は溶媒に溶かしてコーティング組成物とした上で、薄膜として用いたときに、特に優れた性能を発揮する。また、上記高分子化合物がＯＨ基を含有しているとき、該ＯＨ基をアクリロイル化することができ、それによって、より硬度の大きい薄膜を得ることもできる。 （もっと読む）

【課題】重合体の製造ロット間差を極めて小さくできる半導体リソグラフィー用重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】重合性単量体と重合開始剤を溶媒中で加熱して重合する工程（Ｐ）を含む半導体リソグラフィー用重合体の製造方法であって、工程（Ｐ）において、重合槽から大気に通じる間に設けた液封が可能な構造を有する容器（Ｗ０）内の液面レベルを調節することによって、工程（Ｐ）における重合圧力を調節することを特徴とする、半導体リソグラフィー用重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】透過度および乾式エッチングに対する耐性など、レジスト組成物の特性を向上させる感光性ポリマーを提供し、さらに微細なパターン形成を可能にする。
【解決手段】次の構造式：


（式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基であり、Ｒ_２はフルオロ化されたエチレングリコール基を有するＣ_３〜Ｃ_１０の炭化水素基であり、Ｒ_５は水素原子、ヒドロキシ基、Ｃ_１〜Ｃ_１０の炭化水素基、またはＣ_１〜Ｃ_１０のフルオロ化された炭化水素基であり、ｍ／（ｍ＋ｏ）＝０．１〜０．６、ｏ／（ｍ＋ｏ）＝０．４〜０．９である。）を有する感光性ポリマーによって上記課題は解決される。 （もっと読む）

【課題】感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための高分子化合物および単量体、ならびに高解像性かつ粗密依存性及び露光マージンに優れたレジスト材料の提供。
【解決手段】高エネルギー線又は熱に感応し、一般式（１ａ）で示される繰り返し単位のスルホン酸を発生する高分子化合物。


（Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基。） （もっと読む）

ポリマーは、化学式Iで表される第一型の反復単位を含み、式中、Xは-CH₂-、-CH₂-CH₂-、または-O-より選択され；mは0〜約5の整数であり；ここで第一型の反復単位については、R¹、R²、R³、およびR⁴の１つは、マレイミド含有基であり、第二型の反復単位については、R¹、R²、R³、およびR⁴の１つは、ヒンダード芳香族基、C₈以上のアルキル基、C₄以上のハロヒドロカルビル基もしくはペルハロカルビル基、C₇以上のアラルキル基、またはヘテロ原子ヒドロカルビル基もしくはハロヒドロカルビル基である。

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【課題】トナーと接触する電子写真機能部品をトナー極性と反するような帯電性にすることができ、メインバインダーとの分散性・相溶性が優れた正荷電制御樹脂を提供する。
【解決手段】本発明は、式（１）で示されるフルオロアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマー、式（２）及び／又は（３）で示されるアミノ基含有モノマー、及び式（４）で示される水酸基含有モノマーを共重合成分として重合した共重合体からなる正荷電制御樹脂に関する。
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【課題】防汚性、撥水撥油性に優れ、フッ素樹脂の特徴である耐薬品性、耐候性等の優れた特徴を有し、且つ１液で光及び／または熱の手段で硬化を可能とさせる二重結合を含有する含フッ素共重合体を含む硬化塗膜を提供すること。
【解決手段】重合単位として、フルオロオレフィンを１５〜８５モル％、特定の反応性シリコーンオイルを０．００１〜３０モル％、特定の水酸基含有不飽和エーテルを１〜５０モル％含み構成される水酸基含有含フッ素共重合体［Ａ］と、不飽和イソシアネート［Ｂ］との反応により生成され、二重結合を含有することを特徴とする含フッ素共重合体を含む硬化塗膜。 （もっと読む）

【課題】良好な液浸リソグラフィーに適したレジスト材料、パターン形成方法の提供。
【解決手段】下記の一般式を含み、Ｍｗが１，０００〜５００，０００の高分子。


（Ｒ^1a、Ｒ^1b、Ｒ^1cはＨ、Ｆ、アルキル基又はフッ素化アルキル基。Ｒ^2aはＨ、−Ｒ³−ＣＯ₂Ｒ⁷又は−Ｒ³−ＯＲ⁷。Ｒ^2cはフッ素化アルキル基。Ｒ³はフッ素を含んでもよい２価の有機基。Ｒ⁴はメチレン基又は酸素原子。Ｒ⁵はＨ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ⁶はフッ素化アルキル基。Ｒ⁷はＨ、アルキル基、フッ素化アルキル基、酸不安定基又は密着性基。０≦ａ＜１、０＜ｂ＜１、０≦ｃ＜１、０＜ａ＋ｂ＋ｃ≦１。） （もっと読む）

【課題】フォトレジストの上に保護膜を用いて保護膜と投影レンズの間に水を挿入する液浸リソグラフィー工程において、（１）保護膜層とフォトレジスト膜層とのインターミキシングを防止し、及び、（２）現像後のレジスト表面をより親水性化させることによって欠陥の発生を防止する。
【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてスルホン酸アミン塩を有する繰り返し単位と少なくとも１個のフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むことを特徴とするレジスト材料。 （もっと読む）

【課題】長期にわたる撥水撥油性、繰り返しの汚染除去性に優れ、一液型で光及び／または熱の作用下に硬化可能な新規な不飽和二重結合含有含フッ素共重合体を主成分とするフッ素系ワニスを提供する。
【解決手段】フルオロオレフィンが１５〜８５モル％、特定の有機珪素化合物が０．００１〜３０モル％、及び特定のヒドロキシル基含有不飽和エーテルが１〜５０モル％を重合単位として含み構成されるヒドロキシル基含有含フッ素共重合体〔Ａ〕と、不飽和イソシアネート〔Ｂ〕との反応により生成されることを特徴とする二重結合含有含フッ素共重合体を主成分とするフッ素系ワニス。 （もっと読む）

【課題】現像後の表面接触角を低く抑えることができると共に、液浸露光時の水の浸透が抑えられるレジスト材料の提供。
【解決手段】下記一般式（１ａ）、（１ｂ）、及び（１ｃ）又は（２ａ）、（２ｂ）、及び（２ｃ）で表される繰り返し単位の組み合わせの高分子化合物を含むレジスト材料。


（Ｒ^1a、Ｒ^1b、及びＲ^1cはＨ、Ｆ、アルキル基又はフッ素化アルキル基。Ｒ^2aはＨ、−Ｒ³−ＣＯ₂Ｈ又は−Ｒ³−ＯＨ。Ｒ^2cはフッ素化アルキル基。Ｒ³はフッ素を含んでもよい２価の有機基。Ｒ⁴はメチレン基又は酸素原子。Ｒ⁵はＨ又は−ＣＯ₂Ｒ⁷。Ｒ⁶はＨ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ⁷はＨ又はアルキル基。Ｒ^8a、Ｒ^8bは単結合又はアルキレン基。Ｒ⁹はフッ素化アルキル基。） （もっと読む）

【課題】光学用途への利用可能な、粒子径制御可能かつ粒径の揃った、実質的に分散安定剤を含まない熱硬化性樹脂微粒子を提供する。
【解決手段】単官能および多官能エチレン性不飽和単量体を分散安定剤非存在下、水および／またはアルコール溶媒中で、ラジカル重合性開始剤によって重合してなる樹脂微粒子であって、単官能および／または多官能エチレン性不飽和単量体が、下記構造式の官能基を有するエチレン性不飽和単量体を含む熱硬化性樹脂微粒子。
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【課題】液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】ＣＦ_２＝ＣＦ−ＣＨ_２ＣＨＲＣＨ_２−ＣＨ＝ＣＨ_２（ただし、Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のフルオロアルキル基を示す。）等の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含む重合体であって、繰り返し単位（Ａ）を全繰り返し単位に対して１０モル％以上含む重合体（Ａ）と、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する重合体（Ｂ）とを含み、かつ重合体（Ｂ）に対して重合体（Ａ）を０．１〜３０質量％含む液浸露光用レジスト組成物、および、該液浸露光用レジスト組成物を用いた液浸リソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト組成物の水への溶出を抑制でき、水に対して高い後退接触角を有し、保護膜を必要とせずに優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効で、微細なパターンを高精度で形成することができるレジスト材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含むものであることを特徴とするレジスト材料。
【化６６】
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【課題】水素原子を有さない環構造を有する含フッ素ポリマーの製造方法の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物を重合させて一般式（ＩＩ−Ａ）〜（ＩＩ−Ｄ）で表される構造単位を有するポリマーを製造しフッ素化処理をする。


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