【課題】ディフェクトの発生が抑制されたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】基材成分と、酸発生剤成分と、一般式（Ｆ−１で表される構成単位（Ｆ−１）からなる含フッ素重合体（Ｆ１）、又は前記構成単位（Ｆ−１）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（Ｆ−２）及び一般式（Ｆ−３）で表される構成単位（Ｆ−３）からなる群から選択される少なくとも一種の構成単位とを有する特定量の含フッ素共重合体（Ｆ２）とを含有するポジ型レジスト組成物。
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【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のＣＯＯ⁻構造を側鎖に有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス及びアウトガス低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】繰り返し単位（Ａ）〜（Ｃ）を含有する樹脂（Ｐ）及び沸点１５０℃以下の溶媒を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法。
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位
（Ｂ）酸の作用により分解してカルボン酸を生成する基を含有する繰り返し単位
（Ｃ）炭素−炭素不飽和結合を含有する繰り返し単位 （もっと読む）

【課題】低吸水率、高屈折率及び高柔軟性の硬化物を与えるとともに、硬化性に優れた放射線硬化型樹脂組成物、及び、光ファイバ用被覆組成物、並びに、これを用いた光ファイバ素線、及び、光ファイバ心線を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で示される化合物と
（Ｂ）ラジカル重合開始剤と
を含有することを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物。


［一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｚ^１は２つの炭素原子及び硫黄原子と共に環構造を表す。］ （もっと読む）

【課題】光散乱機能と表面平滑性に優れた光散乱膜、およびその形成に用いられる光散乱膜用組成物の製造方法の提供。
【解決手段】フッ素含有エチレン性不飽和単量体１０〜６０重量％および他のエチレン性不飽和単量体９０〜４０重量％を共重合させて、平均粒子径が０．８〜５．０μｍのフッ素含有樹脂微粒子を得る工程（ｉ）と、該フッ素含有樹脂微粒子と屈折率が１．５０以上１．７０以下の透明樹脂とを混合する工程（ｉｉ）とを含むことを特徴とする光散乱膜用組成物の製造方法により解決される。 （もっと読む）

【課題】硬化性と強靱性の両立を実現し、さらに速硬化性と優れた貯蔵安定性を示し、錫触媒を必要としない硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示される化合物及び下記一般式（２）で示される化合物を反応させて得られるビニル系樹脂、及び（Ｂ）硬化触媒を含むようにした。


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【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、および当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と下記一般式（ｆ２−１）［式中、Ｗは多環式の脂肪族環式基を含む基である。］で表される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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【課題】良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】所定の繰り返し単位を含む第一の重合体（Ａ）と、酸の作用により解離する酸解離性官能基を有し、前記酸解離性官能基が解離してアルカリ可溶性となる第二の重合体（Ｂ）と、感放射線性酸発生剤（Ｃ）と、を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ハードコート層に防汚機能を付与し、基材との高い密着性を有するとともに、優れた耐カール性、耐擦傷性、表面硬度を付与でき、汚れの除去が簡便にでき、その特性が劣化することなく常に視認性の高いハードコート層を形成できるハードコート層形成用組成物およびハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】多官能（メタ）アクリルモノマー（Ａ）と、水酸基を有する（メタ）アクリルモノマー（Ｂ）と、光ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、重合性基を有する含フッ素化合物（Ｄ）と、溶剤（Ｅ）とを含み、溶剤（Ｅ）の沸点が５０〜１２０℃であるハードコート層形成用組成物。透明基材上に、該組成物を硬化したハードコート層を有し、ハードコート層表面の表面自由エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以下であり、膜厚が５〜２５μｍであるハードコートフィルム。 （もっと読む）

本発明は、光反応性ノルボルネン系単量体を含む光反応性ノルボルネン系重合体、その製造方法及びこれを利用した配向膜に関する。前記光反応性ノルボルネン系重合体は、ハロゲン系、特にフッ素系置換基を有する光反応性作用基を含んでおり、配向膜内の組成斜面を与え、配向速度、配向性、及び接着性を向上させることができる。
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【課題】塗布ムラを軽減できる組成物、および面状均一性が高く十分な反射防止性能と耐擦傷性能を両立した反射防止膜を提供する。さらには該反射防止フイルムの高速塗布製造方法、該反射膜を用いた偏光板、ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】透明支持体上に積層された屈折率の異なる複数の機能層から成り、該機能層の少なくとも一層に下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー重合単位を含み、その含有量が全重合単位の５０質量％を超える塗布組成物、この組成物から形成された反射防止膜、この反射防止膜を備えた偏光板、並びにこれら反射防止膜または偏光板を備えたディスプレイ装置。


（一般式［１］においてＲ⁰は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Lは２価の置換基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】高い酸素透過性および機械的強度を有し、残留する未重合モノマー量がきわめて少なく、かつ低吸水率で、レンズの形状安定性に優れたＣＬ材料を提供する。
【解決手段】特定のシリコーン含有モノマーを含む共重合成分を重合して得られる共重合体からなるコンタクトレンズ材料であって、該共重合体中に残留する未重合モノマー成分の、該共重合体に対する残留量の合計が、３．５重量％以下であり、該共重合体の酸素透過係数が、１３０×１０^-11（ｃｍ²／ｓｅｃ）・（ｍＬＯ₂／（ｍＬ・ｍｍＨｇ））以上であり、かつ該共重合体の吸水率が、０．３重量％以下であるコンタクトレンズ材料。 （もっと読む）

【課題】撥インキ剤の相溶性に優れ、製膜後の表面外観ならびにパターン形状が良好であり、表面撥インキ性に優れる一方で、通常の洗浄や時間が経過しても表面撥インキ性を維持することができるアルカリ現像感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】酸性基、及び下記式（1）で示される構造の置換基を有した共重合体からなる含フッ素樹脂（A）と、紫外光に反応するアルカリ現像感光性成分とを含有したアルカリ現像感光性樹脂組成物であり、含フッ素樹脂（A）は式（1）の置換基の占める重量割合が15〜50重量％であり、酸価が10〜100mgKOH/ｇであり、平均分子量が2000〜20000の範囲であり、また、組成物中、溶剤を除く成分の合計100重量部に対する含フッ素樹脂（Ａ）の割合が0.05〜10重量部であるアルカリ現像感光性樹脂組成物である。
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【課題】フォトリソグラフィーにおいて、高解像性かつ露光余裕度に優れたレジスト材料のベース樹脂用の単量体として有用な重合性アニオンを有するスルホニウム塩、そのスルホニウム塩から得られる高分子化合物、その高分子化合物を含有するレジスト材料及びそのレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩。


（ＡはＣ１〜２０の二価の有機基。ｎは０又は１） （もっと読む）

【課題】低屈折率で高い硬度を有し、且つ、汚染や剪断といった外的刺激に対して安定なポリマーを与える重合性含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される重合性含フッ素化合物。


一般式（Ｉ）中、Ｒｆは炭素原子およびフッ素原子を含むａ価の有機基を表す。Ｒｆ_１は炭素原子およびフッ素原子を含む１価の有機基を表す。Ｒｆ_２は炭素原子およびフッ素原子を含む１価の有機基またはフッ素原子を表す。Ａは単結合または上記一般式（ＩＩ）で表される２価の連結基を表す。Ｑは重合性基または水素原子を表す。ａは２〜２０の整数を表し、ｂ、ｃはそれぞれ独立に０〜１００の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】良好なパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型フォトレジスト組成物を与える酸発生剤を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［Ｒ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数５〜１０のアリール基等を表す。Ｗ^１は、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−等を表す。Ｑ^１及びＱ^２は、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基等を表す。Ａは、式（Ｉ−１）で表される基を表す。Ａ^１は、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２−を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】 多孔質不活性支持体からなる親水性多孔質膜。その上にイオノマーが堆積し、該膜はそれらが１Ｌ／（ｈ・ｍ²・ａｔｍ）より高い透水性を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物。Ｐ^１−Ｆ^１−（Ｂ^１−Ａ^１）_ｋ−Ｅ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｅ^２−（Ａ^２−Ｂ^２）_ｌ−Ｆ^２−Ｐ^２ （１）［式（１）中、Ａｒは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基を表し、Ａｒ基中の芳香環に含まれるπ電子の数Ｎ_πは、１２以上である。Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基（ただし、Ｐ^１及びＰ^２のうち少なくとも１つは、重合性基を表す）を表す。］ （もっと読む）

【課題】含フッ素重合体を含有していてもアルカリ現像できる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を構成モノマーとする重合体（Ａ）、感光剤（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有する感光性組成物（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子、フッ素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁴は単結合又はアルキレン基を示す。Ｒ⁵は単結合又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁶は直鎖状アルキレン基を示す。Ｒ⁷は水素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。但しＲ¹〜Ｒ⁷のいずれか一つは、フッ素原子又はフッ素原子で置換されている基である。）。
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【課題】含フッ素重合体を含有していてもアルカリ現像できる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を構成モノマーとする重合体（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有する感光性組成物（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子、フッ素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁴は単結合又はアルキレン基を示す。Ｒ⁵は単結合又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁶は直鎖状アルキレン基を示す。Ｒ⁷は水素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。但しＲ¹〜Ｒ⁷のいずれか一つは、フッ素原子又はフッ素原子で置換されている基である。）。
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