【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】カチオンを有するカチオン性繰り返し単位（Ａ）、
前記カチオンとイオン対を形成するアニオンを有し、かつ活性光線又は放射線の照射により前記カチオンから解離して酸を発生するアニオン性繰り返し単位（Ｂ）、及び
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｃ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ドライ露光、液浸露光やダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用重合性単量体およびそれら重合体の提供それらを使ったレジスト材料およびパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（６）、一般式（７）または一般式（８）のいずれかで表される繰り返し単位を含む重合性単量体。


（Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ^２はメチル基、エチル基またはイソプロピル基を表し、Ａは、それが結合している炭素原子と一緒になってカルボニル基（Ｃ＝Ｏ）または、当該カルボニル基が保護基によって保護されたアセタール構造をとる。） （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）及び増感剤（Ｇ）を有するポジ型レジスト組成物であって、増感剤（Ｇ）が２価以上の炭化水素基又は複素環からなるコア部と、コア部に結合し且つ式（１）で表される少なくとも１つのアーム部とを有する高分子化合物（Ｇ１）、及び分子量５００以上２００００以下のポリマーからなるコア部と、該コア部に結合し且つ式（１）で表される少なくとも１つのアーム部とを有する高分子化合物（Ｇ２）からなる群から選ばれる１種以上であり、基材成分（Ａ）が、露光により酸を発生し且つ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分を含有するか、又はポジ型レジスト組成物が、さらに露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有する［Ｘ：酸解離性基を有する２価の連結基、Ｙ：ポリマー鎖］。
［化１］
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【課題】 溶解性および解像性能に優れ、かつ、マスク依存性が小さくＬＷＲの小さい化学増幅型レジストを形成可能な感放射線性樹脂組成物およびそれに用いる重合体を提供すること。
【解決手段】 特定のイオン性構造を有する繰り返し単位を７モル％以上含有しラクトン骨格を有しない重合体、および、（Ａ）特定のイオン性構造を有する繰り返し単位を７モル％以上含有しラクトン骨格を有しない重合体と、（Ｂ）溶剤とを含むことを特徴とする、感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターンニングに用いられ、水等の液浸露光プロセスにも好適に用いられる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】所定の工程としてダブルパターニングを行うことを含むレジストパターン形成方法で用いられ、（ａ）ラクトン構造もしくは環状カーボネート構造を有する繰り返し単位を含み、さらに酸不安定基を有する繰り返し単位を含む重合体と、（ｂ）感放射線性酸発生剤と、（ｃ）溶剤と、を含有する感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】 ポリマー電解質又は結着剤としてリチウム電池に用いた場合、溶媒の保持性に優れ、高イオン伝導性であり、かつ安定性に優れる含フッ素共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、含フッ素エチレン性モノマーに基づく重合単位と−ＳＯ_３Ｌｉ基を側鎖に有する重合単位とからなる含フッ素共重合体の製造方法であって、含フッ素エチレン性モノマーと−ＳＯ_３Ｌｉ基を有する共単量体とを水性媒体中でラジカル重合して含フッ素共重合体を得る工程を含むことを特徴とする含フッ素共重合体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位と酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた繰り返し単位とを含んだ感活性光線性又は感放射線性樹脂を高純度で製造可能とする技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた第１単量体と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた第２単量体とを含んだ反応系を、塩基性化合物の存在下で重合させることを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】導波路構造、並びにコア領域およびその横に隣接するクラッド領域からなる当該構造を形成するための方法を提供する。本発明の実施例の導波路構造は、コア領域がその横に隣接するクラッド領域およびクラッド層によって共同的に取り囲まれている。そのような構造を形成するための方法も提供する。
【解決手段】光誘発熱現像性フィルムであって：第一の屈折率を有するポリマーマトリックスと；前記ポリマーマトリックスと相溶性があり、前記第一の屈折率と異なる第二の屈折率を有する少なくとも１種のモノマーと；プロカタリストと；コカタリストとを含み、前記コカタリストは、化学線の照射に伴い、前記プロカタリストを潜在活性形態に変換し、前記潜在活性形態は、第一の温度での加熱に伴い、活性形態に変換する光誘発熱現像性フィルム。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基のＨが下記一般式（１）の酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、ヒドロキシ基、ラクトン環、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シアノ基、環状の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｓ−、環状の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、カーボネート基から選ばれる密着性基を有する繰り返し単位とを共重合してなる樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】ポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高解像性で、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好な上、酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】特にＡｒＦエキシマレーザー、電子線、Ｘ線、ＥＵＶ等を露光光源とする場合に、ラフネス特性及びドライエッチング耐性に優れたパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生する部位を含む繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含み、繰り返し単位（Ａ）が炭素数７以上の芳香環を、少なくとも、該酸アニオン発生部位を有する側鎖上であって該酸アニオン発生部位以外に有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】初期の伝送損失および曲げ時の損失増加が抑制されかつ耐熱性や耐湿熱性が向上した、Ｃ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体を材料とする屈折率分布型光ファイバを提供する。
【解決手段】同心円状の内外少なくとも２層構造を有する屈折率分布型光ファイバにおいて、内層が実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体（ａ）を材料とする屈折率分布構造を有し、外層が実質的にＣ−Ｈ結合を有しない非結晶性の含フッ素重合体であってかつ内層の最外部の屈折率より低屈折率であり、かつ、式（１）で表される化合物を含むモノマーを重合して得られる含フッ素重合体（ｄ）のみ、または含フッ素重合体（ｄ）と他の材料との混合物である含フッ素重合体材料（ｃ）からなることを特徴とするプラスチック光ファイバ。
ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−ＣＦ＝ＣＦ_２・・・（１） （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、寸法安定性、機械的強度、耐光性に優れた光学材料を提供する。
【解決手段】含フッ素アクリル樹脂を含有する波長３６０〜４３０ｎｍの光線用光学材料であって、含フッ素アクリル樹脂は、特定の繰り返し単位を有し、フッ素含有率が２０％以上であり、ガラス転移温度が５０℃以上であることを特徴とする光学材料。 （もっと読む）

【課題】防汚性、硬度及び塗面の状態に優れた防汚性表面層を形成可能な防汚性表面層用硬化性樹脂組成物及びその硬化物からなる防汚性表面層を備えた光学フィルムを提供すること。
【解決手段】（Ａ）特定のバインダー成分を含むバインダー系及び（Ｂ）特定の構造を有する反応性フッ素化合物を含み、当該（Ａ）成分を当該バインダー系の合計質量に対して６０質量％以上含み、且つ、当該（Ｂ）成分を防汚性表面層用硬化性樹脂組成物の全固形分の合計質量に対して０．００５〜３質量％含むことを特徴とする、防汚性表面層用硬化性樹脂組成物及び光透過性基材の一面側の最表面にその組成物の硬化物からなる硬化膜を有する光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される構造を備えた樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。
【化１】
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【課題】植物資源より誘導可能な構成単位を主として有する樹脂の柔軟性及び脆さを改善する。
【解決手段】全構成単位の５０モル％超が下記一般式（１）で表される構成単位である重合体（Ａ成分）と、


（式中、ｎは０、１、２のいずれかであり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。）含窒素化合物（Ｂ成分）からなり、前記Ａ成分とＢ成分の割合が質量比で３０／７０〜９５／５であることを特徴とする樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
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【課題】９０ｎｍ以下の微細パターン形成において、解像性能に優れるだけでなく、ＤＯＦとＭＥＥＦのバランスに優れ、液浸露光プロセスにも好適に利用されうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位（１）（Ｒ^１は水素原子等を示し、Ｚは放射線照射により酸を発生する機能を有する一価の基を示す。）を必須の構成要素として含有する重合体（Ａ）と、溶剤（Ｂ）と、を含む感放射線性樹脂組成物。
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【課題】透明性の高い高屈折率の硬化物を形成できる光硬化性材料、該材料を簡便に製造できる方法および透明性の高い高屈折率の物品を提供する。
【解決手段】（ｉ）（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物（ａ）の１種以上からなる重合性成分（Ａ）と、アクリル酸またはメタクリル酸（Ｂ）とを反応させ、前記化合物（Ｂ）に由来するカルボキシ基を末端に有する表面修飾剤（Ｃ）を得る工程と、（ii）無機微粒子（Ｄ）の表面を前記表面修飾剤（Ｃ）で修飾して、表面修飾無機微粒子（Ｅ）を得る工程と、（iii）前記表面修飾無機微粒子（Ｅ）と、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物（ｆ）の１種以上からなる重合性成分（Ｆ）と、光重合開始剤（Ｇ）とを含む光硬化性材料を得る工程を有する製造方法で得られた光硬化性材料を用いる。 （もっと読む）

【解決手段】分子中に極性を持ちポリマーに密着性を与える単位と、酸不安定基で保護され、酸の作用によりアルカリ可溶性となる単位を含有する化学増幅型レジスト用ポリマーとして、フッ素置換されたアルキル鎖を持つスルホン酸スルホニウム塩を側鎖に有する繰り返し単位の含有量が５モル％未満で、繰り返し単位中に芳香環骨格を含有する単位が６０モル％以上のポリマーを用いる化学増幅型レジスト材料。
【効果】クロム化合物による膜表面のようなパターン形成が難しい基板上でも、パターン剥がれやパターンの崩壊を発生しにくいレジスト材料を提供できる。 （もっと読む）

【課題】瞬間接着性を維持しつつ、耐熱プラスチックや金属等に対して１５０℃以上の耐熱性を発現し、かつ、貯蔵安定性に優れる２−シアノアクリレート系組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）２−シアノアクリレート及び（Ｂ）ヒドロキシル基を有する多官能（メタ）アクリレートを含む多官能（メタ）アクリレートを含有する２−シアノアクリレート系組成物であって、前記多官能（メタ）アクリレートのヒドロキシル価が１〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、かつ、前記多官能（メタ）アクリレートの含有量が、（Ａ）と（Ｂ）の合計量に対して４０〜６０質量％であることを特徴とする２−シアノアクリレート系組成物。 （もっと読む）