【課題】ナノインプリント法によるパターン形成において、モールド充填性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】同一又は異なる分子中に芳香環及びフッ素原子を含み、フッ素原子に対する芳香環のモル比が６．０以下であるナノインプリント用感放射線性組成物である。上記ナノインプリント用感放射線性組成物は、［Ａ］下記式（１）で表される重合性化合物を含有することが好ましく、また、［Ｂ］フッ素化アルキル基を有する特定の構造のアルコールのアクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の重合性化合物をさらに含有することが好ましい。
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【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有し、且つ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ¹は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。Ｒ²は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び環状ケトン溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい；Ａ^aa1は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルカンジイル基又は式（ａ−１）で表される基を表す。］ （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射により発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン単位、（４）インデン単位の繰り返し単位を含有し、（１）の繰り返し単位は０．５〜１０モル％、かつ、他の繰り返し単位を合計した量の割合は５０〜９９．５モル％を占める。
【効果】本発明によれば、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の改善に加え、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とし、かつ高解像性を与える。 （もっと読む）

【課題】相対的に移動する投影レンズに水が十分に追従し、液浸露光工程を安定して実施できるレジスト保護膜を提供する。
【解決手段】下記式（ａ３）で表される化合物の重合により形成される繰り返し単位（Ａ３）、下記式（ａ４）で表される化合物の重合により形成される繰り返し単位（Ａ４）、および下記式（ａ５）で表される化合物の重合により形成される繰り返し単位（Ａ５）から選択される少なくとも一種の繰り返し単位を有する第１の重合体を含む液浸露光用レジスト保護膜用組成物を提供する。
ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ ………（ａ３）
ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ………（ａ４）
ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ （ａ５） （もっと読む）

【課題】露光ラチチュードが大きく優れ、良好な矩形のパターン形状を形成することができ、且つ液浸露光時には液浸液への溶出が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式（Ｉ）で表される化合物、及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】良好なＬＷＲとパターンプロファイル形状、及びパターン倒れ耐性において極めて優れた性能を示すレジスト組成物の提供。
【解決手段】少なくとも、（Ａ）１−アルキルシクロペンチル（メタ）アクリレート及び／又は１−アルキルシクロヘキシル（メタ）アクリレート構造の繰り返し単位を１つ以上有し、酸によってアルカリ溶解性が向上する高分子化合物、（Ｂ）高エネルギー線に感応し下記一般式（３）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤、及び、（Ｃ）下記一般式（４）で示されるスルホン酸オニウム塩を含むレジスト組成物。


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【課題】撥液性、耐熱性、および耐溶剤性に優れ、パターン形成部以外の部位に感光性樹脂組成物が残渣として残らず、かつパターン形成が可能なネガ型の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶解性樹脂（Ａ）、フッ素系撥液剤（Ｂ）、架橋剤（Ｃ）、および酸発生剤（Ｄ）を含む感光性樹脂組成物であり、フッ素系撥液剤が、炭素数４〜６のフルオロアルキル基及び炭素−炭素二重結合を有する構造単位を含む付加重合体であり、その添加割合が、全固形分に対して０．０１〜１．０重量％であるネガ型の感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】軟化温度が高く、高温条件で使用した場合においても機械的強度が保持されうる重合体からなる固体高分子形燃料電池用の電解質材料を提供する。
【解決手段】ラジカル重合反応性を有する含フッ素モノマーに基づく繰り返し単位を含むポリマーからなり、該繰り返し単位は、式（Ａ）で表され（Ｑ^ａ＝炭素鎖長１〜６のペルフルオロアルキレン基、Ｒ^ａ１〜Ｒ^ａ５＝ペルフルオロアルキル基又はフッ素原子、ａ＝０〜１、Ｒ^ｆ＝ペルフルオロアルキル基、Ｘ＝酸素原子等、Ｘが酸素原子の場合ｇ＝０）、ポリマーの軟化温度が１２０℃以上である固体高分子形燃料電池用電解質材料。
［化１］
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【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造でき、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、液浸露光後における疎水性の低下に要する時間の短縮を図ること。
【解決手段】下記式（１−１）〜（１−３）のいずれかで表される基を有する繰り返し単位（ａ１）を含み、さらにフッ素原子を含む重合体［Ａ］と、感放射線性酸発生剤［Ｂ］と、を含有する感放射線性樹脂組成物が提供される。
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【課題】液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、現像不良による欠陥の発生を抑制でき、しかもリソグラフィ性能に優れたレジスト被膜を形成する。
【解決手段】下記一般式（１）又は（２）で表される基を有する繰り返し単位（ａ１）とフッ素原子とを有する重合体（Ａ）を、重合体全量に対して０．１質量％以上２０質量％未満含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。
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【課題】 硬化塗膜表面に優れた防汚性及び耐擦傷性を付与することができる含フッ素界面活性剤として用いることができる含フッ素重合性樹脂を提供する。また、塗布、硬化させた後に、塗膜表面に付着した汚れを繰り返し拭き取って、硬化塗膜表面を摩耗させても、優れた防汚性を維持することができる活性エネルギー線硬化型組成物、その硬化物及びその硬化塗膜を有する物品を提供する。
【解決手段】 重合性不飽和単量体を重合させて得られた重合体であって、前記重合体の構造中にポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖、アダマンチル基及び重合性不飽和基を有する含フッ素重合性樹脂、該含フッ素重合性樹脂を添加した活性エネルギー線硬化型組成物。 （もっと読む）

【課題】現像ラチチュードが広く、且つ、耐刷性に優れた平版印刷版が得られる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版及びその製造方法、並びに、該ポジ型平版印刷版原版により得られた平版印刷版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、下層及び上層をこの順に形成して設けられた記録層を有してなり、前記下層が、水不溶性且つアルカリ水溶液に可溶性又は分散性の樹脂と、下層の全固形分の質量に対して５質量％〜５０質量％のフルオロ脂肪族基含有共重合体と、を含有する層であり、前記上層が、水不溶性且つアルカリ水溶液に可溶性又は分散性のポリウレタン樹脂を含有する層である赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版及びその製造方法、並びに、該ポジ型平版印刷版原版により得られた平版印刷版及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は炭素数４〜３６の脂肪族環；環Ｗ^２は、炭素数４〜１８のラクトン環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基；Ｙは置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】表面自由エネルギーを低く保ったまま、表面硬度を高め、長期の使用によっても表面が傷付き難く、かつ、表面にトナー等が付着しにくい帯電部材の提供。
【解決手段】導電性の支持体と導電性の弾性層とを具備し、かつ、下記化学式（１）で示される化合物の硬化物を含有している表面領域を有する帯電部材：


（化学式（１）中、ｎは０以上６以下の整数を表し、ｍは０以上６以下の整数を表し、ｎとｍとの合計は２以上６以下であり、ｘおよびｙは各々独立に０以上４以下の整数を表し、Ｒ_１およびＲ_２は各々独立に水素原子またはメチル基を表す）。 （もっと読む）

【課題】環境及び生体への蓄積性が低く、優れたレベリング剤として用いることができるフッ素系界面活性剤を提供する。また、このフッ素系界面活性剤を用いたコーティング組成物及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】炭素原子数４〜６のフッ素化アルキル基（ただし、前記アルキル基は酸素原子によるエーテル結合を有するものも含む。）を有する単量体（Ａ）及び下記一般式（２）で表されるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体（Ｂ）を必須の単量体として共重合させた共重合体であることを特徴とするフッ素系界面活性剤を用いる。


（式中、Ｒは水素原子又はメチル基であり、Ｘ及びＹはそれぞれ独立のアルキレン基であり、ｍ及びｎはそれぞれ０または１以上の整数であり、かつｍとｎの合計は３以上であり、Ｚは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】カチオンを有するカチオン性繰り返し単位（Ａ）、
前記カチオンとイオン対を形成するアニオンを有し、かつ活性光線又は放射線の照射により前記カチオンから解離して酸を発生するアニオン性繰り返し単位（Ｂ）、及び
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｃ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高屈折性、高アッベ数、高耐熱性、高光線透過率、低吸水性を有する樹脂材料を提供すること。
【解決手段】脂肪族多環構造を有する繰り返し単位を含むポリマーであって、前記繰り返し単位内において主鎖を構成する原子から酸素１原子または硫黄１原子を介して前記脂肪族多環構造が結合しており、かつ、前記繰り返し単位がスルホニル基を環骨格の構成基として含む脂肪族環を有していることを特徴とするポリマー。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い放射線感度を有し、また塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する表示素子用スペーサーを形成でき、さらに高速塗布が可能な感放射線性組成物、表示素子用スペーサー及びその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する芳香族樹脂、［Ｂ］重合性不飽和化合物、［Ｃ］感放射線性重合開始剤、並びに［Ｄ］有機溶媒を含有し、固形分濃度が１０質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ［Ｄ］有機溶媒として、少なくとも（Ｄ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含む感放射線性組成物である。 （もっと読む）