フッ素化エーテルカルボン酸または酸誘導体、フッ素化界面活性剤を含む水性組成物、フルオロポリマー分散体の調製法、及び層状物品の製造法。 （もっと読む）

【課題】疎水基または親水基がナノレベルで規則正しく配列された単分子膜およびそれらが複数積層した高分子薄膜を提供する。
【解決手段】１つの付加重合性官能基を含むフルオロシルセスキオキサンと付加重合性単量体との共重合体の単分子膜を、ラングミュア・ブロジェット法によって基板に被覆することを特徴とする単分子膜の製造方法により、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 フルオロ電解質ポリマーの耐久性の指標となる新規かつ簡易なカルボキシラト基〔−ＣＯＯ⁻〕数測定方法、該測定方法に有用な赤外吸収分光測定対象の調製方法、及び、フルオロ電解質ポリマーの耐久性の評価方法を提供する。
【解決手段】 フルオロ電解質ポリマーが有する−ＣＯＯＭ（Ｍは、アルカリ金属元素を表す。）を構成するカルボキシラト基数を求めるための赤外吸収分光測定対象の調製方法であって、上記赤外吸収分光測定対象の調製方法は、上記フルオロ電解質ポリマーを１００℃以下の温度において乾燥する工程（Ｑ）を含むことを特徴とする赤外吸収分光測定対象の調製方法。 （もっと読む）

【課題】ＰＭＭＡ又はＰＭＡなどのホモポリマーよりも、耐熱性が向上し、吸湿性が低減し、複屈折が低く透明性が高いポリマー、並びに該ポリマーを用いた組成物、光学部材、及び電気部材を提供すること。
【解決手段】下記繰り返し単位Ａと繰り返し単位Ｂとを含む一般式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステルの共重合体である。一般式（１）において、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^３は炭素数が１〜４のアルキル基を表し、Ｙは、芳香族環を形成する原子団を表し、ｘは、１以上ｎ以下の数を表し、ｎは前記芳香族環が有し得るフッ素原子の数を表す。
【化１】


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【課題】 水溶性に優れ、コーティング用組成物、特に薄膜コーティングであるレジスト組成物として用いた際に、優れた塗布性を発現するフッ素系界面活性剤、特には、パーフルオロアルキル基中の炭素数が短いものからなる、前述の性能を有するフッ素系界面活性剤、及びこれを用いた感光性組成物を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）
−［ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）］_ｎ−ＯＣＦ_３・・・・・（１）
（式中、ｎは１〜１０の整数を示す。）
で表されるフッ素化ポリオキシプロピレン鎖を有する化合物（Ａ）からなることを特徴とするフッ素系界面活性剤、及びこれを用いた感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】水素原子を有さない環構造を有する含フッ素ポリマーの製造方法の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物を重合させて一般式（ＩＩ−Ａ）〜（ＩＩ−Ｄ）で表される構造単位を有するポリマーを製造しフッ素化処理をする。


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【課題】従来、ホトレジスト層の上層に形成される保護膜にアルコール系溶剤を単独で用いた場合、アルコール易溶型のホトレジスト（例えば、ネガ型ホトレジスト等）を用いることができなかったという問題点があったが、これを解消し、市販のホトレジストに対して広く使用可能で汎用性に優れるとともに、液浸露光プロセスに用いられる保護膜に要求される基本特性を備えた保護膜形成用材料、およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上のホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための材料であって、（ａ）アルカリ可溶性ポリマーと、（ｂ）エポキシ環を含まず、かつ水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子により置換されたフルオロアルキルエーテルおよびフルオロアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも１種を含む保護膜形成用材料、および該保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】含フッ素３，５−オキソ−１，６−ヘプタジエン誘導体の安全かつ効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物をフッ素化し、得られる化合物を熱分解又は／及び加水分解し、さらに、得られる化合物を熱分解する、下記一般式（IV）で表される化合物の製造方法。


（一般式（Ｉ）中、Ｒ¹及びＲ²は各々独立に水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表し、Ｘ¹は水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｙはアルコキシカルボニル基又は−ＣＨ₂ＯＣＯＲ³（Ｒ³は置換基を表す）を表す。一般式（IV）中、Ｒ^1F及びＲ^2Fは各々独立にハロゲン原子、含フッ素置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】
半導体製造装置に使用する配管材や継ぎ手等の耐オゾン性に優れた物品、射出成形品及び射出成形用材料を提供する。
【解決手段】
パーフルオロ樹脂からなる射出成形品であって、
前記パーフルオロ樹脂は、パーフルオロ重合体からなり、ＭＩＴ値が２０万回を超え、融点が２３０℃以上であり、不安定末端基が前記パーフルオロ重合体中の炭素数１×１０^６個あたり５０個以下であるものである
ことを特徴とする射出成形品。 （もっと読む）

本発明は、硬化または架橋ポリシロキサンおよびフッ素化ポリマーまたはオリゴマーを含む汚れ剥離組成物に関する。本発明は、また、海水に沈められる物品への適用のための汚れ剥離塗料における該汚れ剥離組成物の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】浸漬露光時の物質溶出の抑制とリソグラフィー特性とを両立できる液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含み、樹脂成分（Ａ）が、主鎖環状型重合体（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ）を主鎖に有する非主鎖環状型重合体（Ａ２）とを含有し、非主鎖環状型重合体（Ａ２）が、下記一般式（ｐ１）［Ｙは低級アルキル基または脂肪族環式基を表す。］で表される酸解離性溶解抑制基（ｐ１）を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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【課題】優れた液浸媒体耐性およびリソグラフィー特性を両立できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、フッ素原子を含有する樹脂（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ’）を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂（Ａ２）とを含有し、前記樹脂成分（Ａ）中の前記樹脂（Ａ１）の含有量が０．１〜５０質量％の範囲内であることを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒に可溶性であり、高光透過率かつ低屈折率であり、しかも表面処理や接着剤の使用などを必要とはせず、それ自体各種基材に対して良好な接着性を有する含フッ素共重合体を提供する。
【解決手段】CF₂=CFORfCOOR (Rf：炭素数1〜24のフルオロアルキレン基、フルオロアルキルエーテル基、フルオロアルコキシフルオロアルキルエーテル基、R：水素原子、炭素数1〜24のアルキル基、アラルキル基またはアリール基)で表わされる末端カルボン酸基を有する含フッ素ビニルエーテル20重量％以上とこれ以外の含フッ素不飽和単量体の少なくとも一種80重量％以下との共重合体である含フッ素共重合体。末端カルボン酸基を有する含フッ素ビニルエーテルとしては、一般式 CF₂=CF[OCF₂CF(CF₃)]_bO(CF₂)_aO[CF(CF₃)CF₂O]_cCF(CF₃)COOR (a：0〜10、b+c：0〜8)で表わされる含フッ素ビニルエーテルが好んで用いられる。 （もっと読む）

新規α，α−ジヒドロフルオロビニルエーテル、そのホモポリマーおよび前記エーテルの２２モルパーセントより多い共重合単位を含有するコポリマーが本明細書に開示される。本エーテルは、一般式Ｒ_f−［ＣＨ₂］_n−ＯＣＦ＝ＣＦ₂（式中ｎが１または２であり、そしてＲ_fがパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、フルオロアルキル基およびフルオロアルコキシ基からなる群から選択される）で表される。 （もっと読む）

【課題】含フッ素共重合体水性重合乳化液から、共重合反応の乳化剤として用いられた含フッ素カルボン酸塩を非常に効率良く含フッ素カルボン酸として回収する方法を提供する。
【解決手段】含フッ素カルボン酸塩乳化剤を含有する、含フッ素共重合体の水性重合乳化液を低級アルコール中に加えて含フッ素共重合体を凝析させ、それを分離した後、液相から水および低級アルコールを留去し、初期容積の30％以下迄濃縮しあるいは完全に蒸発乾固させた後、無機強酸を加え、含フッ素カルボン酸塩に対応する含フッ素カルボン酸として回収する。 （もっと読む）

【課題】
従来用いられてきた樹脂組成物では、基盤との密着性が弱い為に現像液である有機アルカリ類の水溶液、特に半導体用途で一般的に使用されている２．３８％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液ではパターン剥がれが起こり、２．３８％より低濃度の専用現像液でなければ加工できないという課題があった。本発明は上記事情にかんがみてなされたものであり、その目的とするところは密着性に優れた感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】
（Ａ）酸性基を有する環状オレフィン系樹脂と、（Ｂ）光酸発生剤と、（Ｃ）１３０℃以上の温度で（Ａ）の酸性基と結合しうる反応基を有する化合物と、シランカップリング剤（Ｄ）と、分子中にＳを有する酸化防止剤（Ｅ）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物及びそれを用いて製作された半導体装置。 （もっと読む）

【課題】波長が３００ｎｍ帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】レジスト材料のベース樹脂は、同種又は異種の水素原子、炭素数１以上で２０以下の直鎖状、分岐状著しくは環状のアルキル基、フルオロアルキル基又は酸により脱離する保護基を有するスルホンアミド基含有の第１ユニット及びベンゼン環上にフッ素原子又は炭素数が１以上２０以下の直鎖状、分岐状若しくは環状のフッ素化されたアルキル基又は特定の置換基を有するアルコキシ基を有するスチレン誘導体からなる第２ユニットから構成される繰り返し単位を含む高分子化合物よりなり、微細加工技術に適したレジスト材料となる。 （もっと読む）

【課題】感度、現像性、寸法忠実度等に優れる。
【解決手段】繰り返し単位［１］を含有し、分子量が〜１００，０００である樹脂と、酸発生剤と、酸架橋剤とを含有する


［Ｒ^２、Ｒ^３のいずれか一つがＲｆＳＯ_２ＮＨＣＨ_２−基］ （もっと読む）

【課題】 ２４８ｎｍ（ＫｒＦ）および１９３ｎｍ（ＡｒＦ）の露光波長での十分な透過性と、フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、さらに液浸露光時の水に溶出することなく安定な被膜を維持し、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。
【解決手段】 フッ素原子含む基をその側鎖に有する繰返し単位を含み、水との接触角が９０°以上となる膜を形成することができ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であることを特徴とする液浸上層膜用重合体であって、この重合体は、液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための液浸上層膜形成組成物の樹脂成分として利用できる。 （もっと読む）

【課題】 燃料バリア性、耐熱性、耐薬品性、耐候性、及び柔軟性に優れ、ポリアミドとの接着性に優れる含フッ素共重合体とポリアミドとの積層ホースの提供。
【解決手段】
含フッ素共重合体の共重合組成が、（ａ）テトラフルオロエチレン及び／又はクロロトリフルオロエチレンに基づく繰り返し単位、（ｂ）ジカルボン酸無水物基を有し、かつ、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物のような環内に重合性不飽和基を有する環状炭化水素モノマーに基づく繰り返し単位及び（ｃ）その他の含フッ素モノマーに基づく繰り返し単位を含有し、（ａ）繰り返し単位、（ｂ）繰り返し単位及び（ｃ）繰り返し単位の合計モル量に対して、（ａ）が５０〜９９．８９モル％、（ｂ）が０．０１〜５モル％、かつ、（ｃ）が０．１〜４９．９９モル％であり、容量流速が０．１〜１０００(ｍｍ³／秒)である含フッ素共重合体とポリアミドとを共押出成形により積層ホースとする。 （もっと読む）