【課題】パーフルオロアルキル基含有モノマーの使用量が少ないにもかかわらず、高い撥水・撥油性を有するフッ素系共重合体およびコーティング剤を提供する。
【解決手段】本発明は、フッ素系共重合体、フッ素系共重合体の製造方法、およびコーティング剤に関するものである。本発明は、パーフルオロアルキル基を有するパーフルオロ基含有ポリマーの存在下、パーフルオロアルキル基を有するパーフルオロ基含有モノマーと、フッ素を含まない非フッ素系モノマーとを、超臨界二酸化炭素中で重合させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】各種特性の優れたレジスト保護膜組成物を提供する。
【解決手段】化学式１の化合物をモノマー成分とする化学式１−ａの繰り返し単位を有する共重合体を含むレジスト保護膜組成物。
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【課題】レジストパターンを形成する際の露光マージン（ＥＬ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れるレジスト組成物用の重合体を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される基及び式（ＩＩ）で表される基を有する重合体。［Ｒ^１は炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^２は置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^３は置換基を有してもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。Ｂ^１は単結合、−（ＣＨ_２）ｍ−ＳＯ_２−Ｏ−^＊１又は−（ＣＨ_２）ｍ−ＣＯ−Ｏ−^＊１を表す。］
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【課題】低屈折率高分散特性を維持しつつ、エネルギー硬化型樹脂組成物の硬化時に微粒子の移動による屈折率勾配や光散乱を抑制することができるエネルギー硬化型樹脂組成物および多層回折光学素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に重合官能基を有するフッ素系単量体を１種以上と、分子内に２つ以上の重合官能基を有するアクリル系単量体を１種以上とを含有する有機成分と、（Ｂ）透明導電性の金属酸化物微粒子と、（Ｃ）重合開始剤とを含有するエネルギー硬化性樹脂組成物であって、前記（Ａ）有機成分の含有量が４０重量％以上６８重量％以下であり、且つ前記有機成分に含有されるアクリル系単量体の含有量が前記有機成分に対して１．３重量％以上５．０重量％以下であるエネルギー硬化型樹脂組成物。上記のエネルギー硬化性樹脂組成物を光学材料として用いた多層回折光学素子。 （もっと読む）

【課題】水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式［Ｒ^１_ａＳｉＸ_４−ａ］で表されるシラン化合物、及び式［ＳｉＸ_４］で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも１種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つＧＰＣによる重量平均分子量が１０００〜２０００００であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるＲ^１はフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、Ｘは塩素原子、臭素原子又はＯＲ（Ｒ：１価の有機基）を示し、ａは１〜３の整数を示す。〕。 （もっと読む）

【課題】炭素数が６以下のフルオロアルキル基を含む（メタ）アクリル系モノマーから誘導される繰り返し単位を含む重合体が分散した撥水撥油剤分散液であって、安定性に優れ、優れた撥水撥油性を基材に付与する分散液を提供する。
【解決手段】式：ＣＨ_２＝Ｃ（−Ｘ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−Ｚ−Ｒｆ（式中、Ｘは、水素原子、一価の有機基またはハロゲン原子であり、Ｙは−Ｏ−または−ＮＨ−であり、Ｚは、直接結合または二価の有機基であり、Ｒｆは、１〜６の炭素原子を有するフルオロアルキル基である。）で示される、含フッ素（メタ）アクリル系モノマーから選択される１種もしくは複数種のモノマーから誘導された繰り返し単位を含む重合体；３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール；および水を少なくとも含む、撥水撥油剤分散液。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用によりアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位を含んだ樹脂、
（Ｂ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、及び、
（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】酸不安定性基を有しポジ型レジストとして機能する樹脂、酸発生剤および溶剤などからなるレジスト組成物において、解像度に優れ、焦点深度余裕（ＤＯＦ）が広く、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が小さく、さらには感度が高いことから優れたパターン形状を形成できるたレジスト組成物を調製するための光酸発生剤およびそれを調製するための重合性単量体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表わされる含フッ素不飽和カルボン酸オニウム塩。
【化】


（式中、Ｒ^１は、重合性二重結合含有基、Ｒ^２は、フッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｗ^１は、二価の有機基、Ｑ^＋は、スルホニウムカチオン、またはヨードニウムカチオンを示す。） （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】優れた液浸媒体耐性およびリソグラフィー特性を両立できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、フッ素原子を含有する樹脂（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ’）を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂（Ａ２）とを含有し、前記樹脂成分（Ａ）中の前記樹脂（Ａ１）の含有量が０．１〜２０質量％の範囲内であり、前記樹脂（Ａ１）が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有するアクリル酸から誘導される構成単位を有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】特にＡｒＦエキシマレーザー、電子線、Ｘ線、ＥＵＶ等を露光光源とする場合に、ラフネス特性及びドライエッチング耐性に優れたパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生する部位を含む繰り返し単位（Ａ）を有する樹脂（Ｐ）を含み、繰り返し単位（Ａ）が炭素数７以上の芳香環を、少なくとも、該酸アニオン発生部位を有する側鎖上であって該酸アニオン発生部位以外に有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記レジスト組成物が、（Ａ）実質的にアルカリ不溶性である樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、寸法安定性、機械的強度、耐光性に優れた光学材料を提供する。
【解決手段】含フッ素アクリル樹脂を含有する波長３６０〜４３０ｎｍの光線用光学材料であって、含フッ素アクリル樹脂は、特定の繰り返し単位を有し、フッ素含有率が２０％以上であり、ガラス転移温度が５０℃以上であることを特徴とする光学材料。 （もっと読む）

【課題】感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位（Ｂ）とを備えた樹脂を含んでいる。
【化１】
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【課題】本発明は、新規な含フッ素非線状ポリマーを提供することを課題とする。
【解決手段】
式（Ｉ）


［式中
Ｒｆは、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、またはパーフルオロポリエーテル基を表し、
ｎは、１〜１８の整数を表し、および
ｍは、０〜１０の整数を表す。］
で表される繰り返し単位を有する
ことを特徴とする含フッ素非線状ポリマー （もっと読む）

【課題】耐薬品性に優れた塗膜及びパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）および式（Ｃ１）：


で表される化合物を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低い当量重量を有するアイオノマーを提供する。
【解決手段】（１）低い当量重量（９５０未満、好ましくは６２５〜８５０、そして最も好ましくは約６７５〜約８００）および（２）高い伝導度（０．１３Ｓ／ｃｍよりも大きい）を有するようなアイオノマーおよび該アイオノマーを作製するための方法。別の態様では、本発明は、（１）低い当量重量（９５０未満、好ましくは６２５〜８５０、そして最も好ましくは約６７５〜約８００）および（２）許容できる低さの水和（約１２０重量％未満）を有するアイオノマーである。これらのアイオノマーは、薄膜に加工することが可能であり、そして低湿度または高温の燃料電池用途に非常に良く適する。 （もっと読む）

【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位であって、酸解離性基を含む繰り返し単位（Ａ）と、少なくとも芳香環基を有する繰り返し単位（Ｂ）を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される構造を備えた樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。
【化１】
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【課題】 化学増幅フォトレジスト組成物及びそれを使用するプロセスを提供する。
【解決手段】 フォトレジスト組成物は、フェノール系ポリマーと、エーテル含有部分及び／又はカルボン酸含有部分を含まない（メタ）アクリレート・ベースのコポリマーとのブレンド、及び、光酸発生剤とを含む。前記コポリマーは、アルキルアクリレート、置換アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、置換アルキルメタクリレート、及びこれらの混合物からなる群から選択される第１のモノマー、並びにアクリレート、メタアクリレート及びこれらの混合物からなる群から選択され、酸開裂性エステル置換基を有する第２のモノマーを含む。当該フォトレジスト組成物を用いて基板上にフォトレジスト像を形成するプロセスも開示される。 （もっと読む）