【課題】レジスト膜の基板等に対する密着性に優れ、パターン倒れが抑制されたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、エポキシ樹脂（Ｇ）とを含有することを特徴とするレジスト組成物。支持体上に、前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】新規な酸発生剤を含有するレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、レジスト組成物用の酸発生剤またはその前駆体として有用な新規な化合物、ならびに該化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ^Ｘはヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基であり；Ｒ^１は２価の連結基であり；Ｙ^１は炭素数１〜４のアルキレン基または炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり；ｎは１〜３の整数であり；Ｚはｎ価の有機カチオン（ただし、アミンイオンおよび第４級アンモニウムイオンを除く。）である。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】塗布欠陥が低減され、液浸露光においても優れたパターンの提供を可能とする、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｄ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する樹脂、及び、（Ｄ）下記一般式（Ｓ１）〜（Ｓ３）で表される群より選択される少なくとも１種の溶剤を含有し、該溶剤の合計の含有率が全溶剤中の３〜２０質量％である混合溶剤。
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【課題】低ＬＵＭＯであり、高い電荷輸送性を有し、しかも溶媒に対する高い溶解性を示す重合体を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する重合体。


［式中、Ａｒ^０は、置換基を有していてもよい芳香環又は置換基を有していてもよい複素環を示し、Ｘ^１及びＸ^２は、同一又は異なり、酸素原子又は硫黄原子を示す。］ （もっと読む）

【課題】光反応性化合物、特に光開始剤、及びアクリレート又はエポキシド等の重合性単官能及び多官能モノマー、を含む硬化性材料を提供する。
【解決手段】本願の材料は、硬化の際前記化合物に共有結合する能力を有する官能基によって完全に又は部分的に終端された、フッ素系界面活性剤を含んでもよい。硬化性化合物は、純粋なアクリレートベースの、又は、アクリレート、エポキシド、又はビニルエーテル等、様々なタイプのモノマーのハイブリッドのどちらかである。重合性モノマーは、フリーラジカル光開始剤又はカチオン性光開始剤等、様々なタイプの光開始剤で硬化されてよく、最終的にアクリレート及びエポキシド等様々なタイプのモノマーの相互貫入ネットワークを含むハイブリッドレジストを形成する。アクリレート／エポキシドハイブリッド系はナノインプリントリソグラフィープロセスの高い忠実度という観点で、改良された複製性能を示した。 （もっと読む）

【課題】３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物のベース樹脂に矩形性のよいパターンが形成できる新規な酸性基を有する繰り返し単位を導入する。
【解決手段】下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】



（式中、Ｒ¹は重合性二重結合含有基、Ｒ²はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｒ³及は水素原子、酸不安定性基、架橋基またはその他の一価の有機基、Ｗ¹は連結基を表す。） （もっと読む）

Ｏ₂プラズマ処理およびＯ₂／ＣＦ₄プラズマ処理に対してともに重量変化が小さく、これらの処理において異物（パーティクル）の発生を顕著に抑制し得る架橋性エラストマー組成物および該組成物から作製される成形品を提供する。該架橋性含フッ素エラストマー組成物は架橋性含フッ素エラストマーと嵩密度が０．１５ｇ／ｃｍ³以下の炭化ケイ素粒子、さらに要すれば架橋剤を含み、該成形品は前記組成物を架橋して得られる。 （もっと読む）

【課題】耐ラジカル性を高めた高分子電解質膜を、製造工程を増やすことなく製造すること。
【解決手段】フッ素系高分子電解質膜の前駆体を乳化重合および凝析により製造する過程において、乳化剤、重合開始剤および凝析剤の少なくとも一つにCe、Tl、MnおよびYbからなる群から選択される金属を含む化合物を含有させる。これにより、製造工程を増やすことなく該金属を含む化合物を高分子電解質膜に均一に含ませることができ、該電解質膜の耐ラジカル性を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】 肌付着性と被膜形成性の両方の特性を有する新規油溶性高分子化合物や、該化合物を配合した持続性に優れた皮膚外用剤や化粧料を提供すること。
【解決手段】 ピログルタミン酸に重合性基を導入して重合性単量体化し、他の重合性単量体と共重合させることにより、水又は水エタノール溶液に不溶であり、イソプロピルアルコール、トルエン、酢酸エチルのいずれかに可溶若しくは膨潤する性質を有する油溶性高分子化合物を提供する。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分および添加剤として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、さらに、側鎖に、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基であるエステル基を有する炭素原子が第３級炭素原子である置換基を有する２価の脂肪族炭化水素基を有する（メタ）アクリレート単位を有する。 （もっと読む）

【課題】高性能定着用途に使用される低オイル又はオイルレス機械のための、新規なトップコート材料を提供する。
【解決手段】基材と、その上に、表面を有する外層ポリマーマトリックスとを含む自己剥離性定着器部材であって、外層ポリマーマトリックスがフルオロポリマー材料及びフッ化炭素鎖を含み、フッ化炭素鎖がフルオロポリマー材料に結合している、定着器部材。 （もっと読む）

【課題】高い酸素透過性および機械的強度を有し、残留する未重合モノマー量がきわめて少なく、かつ低吸水率で、レンズの形状安定性に優れたＣＬ材料を提供する。
【解決手段】特定のシリコーン含有モノマーを含む共重合成分を重合して得られる共重合体からなるコンタクトレンズ材料であって、該共重合体中に残留する未重合モノマー成分の、該共重合体に対する残留量の合計が、３．５重量％以下であり、該共重合体の酸素透過係数が、１３０×１０^-11（ｃｍ²／ｓｅｃ）・（ｍＬＯ₂／（ｍＬ・ｍｍＨｇ））以上であり、かつ該共重合体の吸水率が、０．３重量％以下であるコンタクトレンズ材料。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィーにおいて、高解像性かつ露光余裕度に優れたレジスト材料のベース樹脂用の単量体として有用な重合性アニオンを有するスルホニウム塩、そのスルホニウム塩から得られる高分子化合物、その高分子化合物を含有するレジスト材料及びそのレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩。


（ＡはＣ１〜２０の二価の有機基。ｎは０又は１） （もっと読む）

【課題】トナー用添加剤として有用な樹脂粒子の提供。
【解決手段】下記式(Ｉ）で示されるシルセスキオキサン(ａ)を含む付加重合性単量体を重合させるか、該シルセスキオキサン(ａ)と付加重合性単量体(ｂ)とを共重合体させて得られる、体積平均粒径１０〜５００ｎｍの樹脂粒子。［式中、Ｒ¹〜Ｒ⁷は水素、炭素数１〜４０のアルキル、置換または非置換のアリール、および置換または非置換のアリールアルキルからなる群からそれぞれ独立して選択される基である；このアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく；そして、Ａ^１は付加重合性官能基である。］
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【課題】側鎖にパーオキサイド架橋可能なハロゲン原子を有する単量体を共重合させたフルオロエラストマーであって、パーオキサイド架橋したとき加硫物性にすぐれ、耐圧縮永久歪特性を改善し得るパーオキサイド架橋可能なフルオロエラストマーを提供する。
【解決手段】一般式 C_nF_2n+1CF₂CH=CF(CF₂CF₂)_mI〔Ia〕および一般式 C_nF_2n+1CF=CHCF₂(CF₂CF₂)_mI〔Ib〕(ここで、nは0〜5の整数であり、mは1〜3の整数である)で表わされるフルオロオレフィンアイオダイド混合物を、0.1〜20モル％共重合させたパーオキサイド架橋可能なフルオロエラストマー。 （もっと読む）

【課題】高度に分岐したパーフルオロアルケニル基を主鎖にもつ、新規な反応性含フッ素オリゴマーを提供する。
【解決手段】ポリアクリレート主鎖構造において、特定の側鎖［−Ｒ^１−Ｏ−Ｒｆ］、［−Ｒ^２−ＯＨ］、［−Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−（Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^４＝ＣＨ_２）ｘ］、［−Ｒ^５］によるエステル基を持つアクリレート単位を各ｎ、ｍ、ｐ、ｑ個（Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^５：各々Ｃ１〜Ｃ５０，Ｃ１〜Ｃ１００，Ｃ２〜Ｃ１０，Ｃ１〜Ｃ５０の飽和脂肪族炭化水素基で、Ｒ^１，Ｒ^２は二価、Ｒ^３は二価又は三価、Ｒ^５は一価。Ｒ^４、Ｒ^６〜Ｒ^８：水素又はメチル基。ｎ，ｍ：１〜３０の整数。ｐ＋ｑ：１〜６０の整数。ｘ：１又は２。Ｒｆは特定のパーフルオロアルケニル基。）にてなる構造の反応性含フッ素オリゴマー。 （もっと読む）

【課題】水溶性及び揮発性が高い界面活性剤を使用して高分子量の含フッ素ポリマーを製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される１種又は２種以上のフルオロエーテルカルボン酸の存在下に含フッ素ポリマーを製造する重合工程を有することを特徴とする含フッ素ポリマーの製造方法である。
一般式（Ｉ）：
ＣＦ_３−（ＣＦ_２）_ｍ−Ｏ−（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＸ （Ｉ）
一般式（ＩＩ）：
ＣＦ_３−（ＣＦ_２）_ｍ−Ｏ−（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＨＦＣＦ_２ＣＯＯＸ （ＩＩ）
一般式（ＩＩＩ）：
ＣＦ_３−（ＣＦ_２）_ｍ−Ｏ−（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＯＯＸ （ＩＩＩ）
（式中、ｍは０〜４の整数、ｎは０〜２の整数、Ｘは水素原子、アンモニウム基又はアルカリ金属原子を表す。） （もっと読む）

【課題】耐オゾン性において改善され、かつ耐熱性に優れたシール材を与える含フッ素エラストマー組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）パーフルオロアルキルビニルエーテル単位の含有量が２０〜３７モル％、（ｂ）ニトリル基、カルボキシル基およびアルコキシカルボニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種を架橋部位として有するモノマー単位の含有量が０．１〜２．５モル％ならびに（ｃ）テトラフルオロエチレン単位の含有量が６１．５〜７９．９モル％であるパーフルオロエラストマー（Ａ）と、特定の架橋剤（Ｂ）を含む含フッ素エラストマー組成物である。 （もっと読む）

【課題】 従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物を提供する。
【解決手段】 少なくともカルボキシル基の水素原子が下記一般式（２）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物。
【化８４】
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【課題】吐出、貯蔵安定性に優れたカラーフィルター用インキ組成物を提供する。
【解決手段】インクジェット法でカラーフィルターを得るためのインキ組成物において、全溶剤中、沸点が２００〜３００℃の範囲である溶剤を７０〜９９重量％含有し、かつ、沸点が１５０℃未満である溶剤を１〜１０重量％含有すると共に、下記一般式（１）で表される不飽和化合物（Ａ）、４官能以上の多官能アクリレート化合物（Ｂ）及び顔料（Ｄ）を必須成分とし、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の重量の比率（Ａ）／（Ｂ）が１０／９０〜９０／１０の範囲であるインクジェットカラーフィルター用インキ組成物である。
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