耐熱分解性や耐着色性などの耐熱性に優れると同時に、屈折率が精密に制御された光学部品、特に光導波路の形成に好適な硬化型樹脂組成物を提供すること。（Ａ）多環式脂環族炭化水素骨格と２個以上の末端ラジカル重合基を併有するモノマー、（Ｂ）パーフルオロアルキレン骨格と２個以上の末端ラジカル重合基を併有するモノマー、および（Ｃ）光重合開始剤または／および熱重合開始剤を必須成分とする硬化型樹脂組成物。この硬化型樹脂組成物を光硬化または／および熱硬化して形成される光学部品、特に光導波路。 （もっと読む）

オプティカルデバイスの内部構成部品の上にハードコート表面層を設けることによって、オプティカルデバイスの内部構成部品を保護するための方法が記載されている。ハードコート表面層を有するある種の内部構成部品、さらにはオプティカルデバイスの内部構成部品の組立て方法もまた記載されている。
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ペンダントのアミドキシム基、ペンダントのアミドラゾン基、又はこれらの組み合わせを有するフルオロポリマーを提供する。また、このようなフルオロポリマーの製造方法、並びに、このようなフルオロポリマーを含有する組成物および物品も提供する。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表される環状構造を有する含フッ素単量体。
【化１】


（式中、Ｚは重合性不飽和基を含む二価の有機基を表す。）
【効果】 本発明の新規な環状構造を有する含フッ素単量体は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、中でも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、かつフェノール様酸性水酸基を有するため、現像特性の良好な感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。また、本発明の重合体を感放射性レジスト組成物のベース樹脂として用いた場合、適度な酸性を有する水酸基を効果的に利用することにより、例えば膨潤を軽減してパターン崩壊を防いだり、Ｔ−トップ形状発現を抑えて寸法均一性を向上させたりもできる。 （もっと読む）

【課題】官能基濃度が高く幅広い波長領域において高い透明性を有するレジスト組成物。
【解決手段】式（１）の単量体を有する共重合体を含む組成物。


Ｙは、Ｈ、Ｆ、水酸基を、Ｒ^１はＨ、メチル基、Ｆ、トリフルオロメチル基を、Ｘは、Ｈ、Ｆを示し、かつＸの１個以上はＦを示す。 （もっと読む）

【課題】含フッ素共重合体の層と非フッ素樹脂の層との接着性に優れる積層体からなる流体搬送ライン用物品の提供。
【解決手段】テトラフルオロエチレン及び／又はクロロトリフルオロエチレンに基づく繰り返し単位（ａ）およびカルボニル基を含有する含フッ素共重合体（例えば、テトラフルオロエチレン／エチレン／（パーフルオロエチル）エチレン／無水イタコン酸共重合体。）の層（Ａ）と非フッ素樹脂の層（Ｂ）とが直接積層されてなる積層体からなり、流体接触面が前記含フッ素共重合体の層（Ａ）の表面からなる流体搬送ライン用物品。 （もっと読む）

【課題】パーフルオロアルキルビニルエーテルスルフィン酸塩を高収率で製造する方法を提供すること。
【解決手段】ω−ハロパーフルオロアルキルビニルエーテルを必要に応じて安定化剤存在下で亜ジチオン酸塩と反応させ、パーフルオロアルキルビニルエーテルスルフィン酸塩を製造する。 （もっと読む）

本発明は、高固形分ローディング条件下での重合した制御構造材料の連続製造方法を開示する。該材料は撹拌されるプラグフローおよび温度制御条件下で製造される。
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架橋された複素環式化合物、フッ素化ノルボルネン化合物、フッ素化アルケン、複素環式化合物、およびこれらの２またはそれ以上の組み合わせ、から誘導されるポリマーが提供される。このポリマーはフォトレジスト組成物を含む広範囲の用途に使用される。また、このポリマーに使用するためのモノマー化合物の製造方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】特に１９３ｎｍ波長の光で露光したときに優れた溶解性をレジスト被膜に与えるレジスト組成物、およびそのレジスト組成物を用いたコントラストに優れた微細パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）酸解離性官能基含有ポリマー、（ｂ）光酸発生剤および（ｃ）溶解抑止剤からなり、該溶解抑止剤（ｃ）が、式（１）：
【化１】


（式中、Ｒｆ¹およびＲｆ²は同じかまたは異なり、エーテル結合を含んでいてもよい炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基；ＸはＦまたはＣＦ₃；Ｙ¹はＯＨ基または酸で解離してＯＨ基に変化する酸解離性官能基）で表される部位を有する含フッ素ノルボルネン誘導体から選ばれる少なくとも１種の単量体（ｍ１）由来の構造単位を必ず含むポリマーであるレジスト組成物を用いて微細パターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光に適用した場合に、ドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく、液浸液への酸の溶出が極めて少ない液浸露光に好適なレジストを提供する。
【解決手段】 （Ａ）フッ素原子を有する繰り返し単位を少なくとも１種含有しており、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

改善された表面特性を有する硬化パーフルオロエラストマー物品を開示する。物品のシーリング特性を維持しながら表面粘着性を低減するフルオロカーボンテロマーを含む薄い耐久性フィルムで、物品を被覆する。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光時に於ける、プロファイル形状、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が改善された液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 側鎖に環構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤を含有する液浸プロセス用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明にかかる一実施態様は、ノルボルネン型ポリマー及びそれから形成される感光性絶縁性樹脂組成物に関する。他の実施態様は、該組成物から形成されるフィルムに関し、および、そのフィルムを含む電気、電子およびオプトエレクトロデバイス等の装置に関する。 （もっと読む）

本発明は、深紫外線液浸リソグラフィを用いてトップコートを利用して深紫外線（deep uv）フォトレジストを像形成する方法に関する。本発明は更に、約−９〜約１１の範囲のｐＫａを有する少なくとも一種のイオン化可能な基を有するポリマーを含むトップコート組成物に関する。また本発明は、環境汚染物からのフォトレジストの汚染を防ぐために、トップバリヤコートを用いてフォトレジストに像形成する方法に関する。 （もっと読む）

本願の目的は、引張り破断強度に優れた延伸体を与える非溶融加工性ポリテトラフルオロエチレンファインパウダー及び非溶融加工性ポリテトラフルオロエチレンを提供することにある。
本発明は、押出成形体を３００℃で延伸することにより得られた測定用３００℃延伸体Ａは、引張り破断強度が３２．０Ｎ以上、比表面積が１１０００ｍ^２／ｋｇ以上であることを特徴とする非溶融加工性ポリテトラフルオロエチレンファインパウダーに関するものである。 （もっと読む）

真空紫外領域の光線を利用するフォトリソグラフィープロセスにおいて充分な反射防止効果を有し、かつ現像プロセスにおいても充分な現像特性を有するレジスト積層体を形成する。（Ｉ）基板上にフォトレジスト層（Ｌ１）を形成する工程、および（ＩＩ）フォトレジスト層（Ｌ１）上に、親水性基Ｙを有する含フッ素重合体（Ａ）を含むコーティング組成物を塗布することにより反射防止層（Ｌ２）を形成する工程を含むフォトレジスト積層体の形成方法であって、含フッ素重合体（Ａ）が親水性基Ｙを含有する含フッ素エチレン性単量体由来の構造単位を有し、さらに該含フッ素重合体（Ａ）が、（ｉ）親水性基ＹがｐＫａで１１以下の酸性ＯＨ基を含むこと、（ｉｉ）フッ素含有率が５０質量％以上であること、および（ｉｉｉ）含フッ素重合体（Ａ）１００ｇ中の親水性基Ｙのモル数が０．１４以上であることを特徴とする。
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本発明は、スルホン酸由来基含有フルオロポリマーを含む処理対象物にフッ素化処理を行うことにより安定化フルオロポリマーを製造することよりなる安定化フルオロポリマー製造方法であって、上記スルホン酸由来基含有フルオロポリマーは、−ＳＯ_３Ｍ（Ｍは、Ｈ、ＮＲ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４又はＭ^１_１／Ｌを表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なって、Ｈ若しくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｍ^１は、Ｌ価の金属を表す。）を有するフルオロポリマーであり、上記処理対象物は、水分が質量で５００ｐｐｍ以下であることを特徴とする安定化フルオロポリマー製造方法である。 （もっと読む）

構造（Ｉ）を有するモノマーであって、式中、Ｒ_Ｆは、場合により酸素または塩素を含有する直鎖状または分枝状ペルフルオロアルケン基であり；ｎは１または２であるモノマー。これらのモノマーは、ポリマー電解質膜を製造するのに有用なホモポリマーおよびコポリマーの製造に使用される。これらの膜を含有する、燃料電池などの電気化学電池も、説明する。
【化１】



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一般構造（式Ｉ）を有するフッ素化スルホンアミド小分子であって、式中、ｍ、ｎ、およびｐは、ｍ＋ｎ＋ｐが１から４に等しいという条件で、０から３であり；Ａ^１は、複素環式環の炭素原子がフッ素化スルホンアミド基で完全に置換されるという条件で、芳香族複素環式基であり；Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、場合により酸素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を含有する直鎖状または分枝状ペルフルオロアルキレン基であるフッ素化スルホンアミド小分子。ポリマー電極膜、膜電極アセンブリ、および燃料電池などの電気化学電池を製造する際に有用なポリマーおよび小分子も、説明する。
【化１】

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