【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、非酸分解性基を表す）を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高濃度の着色材料を含有し画素を形成する場合にも基板上に現像残渣が生じたり画素部に表面不良などが発生せず、感度に優れた高品質のカラーフィルタを提供する。
【解決手段】結合剤樹脂Ａ、光重合性化合物Ｂ、光重合開始剤Ｃ、着色材料Ｄ及び溶剤Ｅを含有する着色感光性樹脂組成物であって、前記結合剤樹脂Ａは、化合物Ａ１、Ａ２及びＡ３を共重合して得られる共重合体。化合物Ａ１：以下に示す一般式を備える化合物。


化合物Ａ２：化合物Ａ１及び化合物Ａ３と共重合の可能な不飽和結合を有する化合物、化合物Ａ３：不飽和カルボン酸。 （もっと読む）

【課題】優れた仕上がり性（平滑性、鮮映性、タレ防止性等）を付与できる粘性改良剤の提供
【解決手段】
（メタ）アクリル酸（塩）（ａ）と、





（Ｒ^１は水素原子又はメチル、Ｒ^２、Ｒ^３は水素原子、メチル又はエチル、Ｒ^４は環状テルペンモノアルコール又はステリンの水酸基から水素原子を除いた残基、ｎは３〜６０の整数を表す）で示される単量体（ｂ）と、アルキル基の炭素数が１〜４であるアルキル（メタ）アクリレート（ｃ）と、多官能単量体（ｄ）とを必須構成単量体とする共重合体を含有してなり、
ａ〜ｄの各単量体単位の合計重量に基づいて、ａ単位の含有量が０．１〜５０重量％、ｂ単位の含有量が５〜６０重量％、ｃ単位の含有量が５〜６０重量％、ｄ単位の含有量が０．０５〜５重量％である粘性改良剤を用いる。
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【課題】 基材に対する密着に優れるとともに、耐薬品性、特に耐アルカリ性に優れた硬化物の得られる共重合体を提供する。
【解決手段】 下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ²は炭素数１〜８の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示す。Ｒ³はイソシアネート基のブロック剤Ｒ³Ｈの残基を示す）
で表されるブロックされたイソシアネート基を有するビニル単量体Ａに対応するモノマー単位と、３〜５員の環状エーテル基を有するビニル単量体Ｂに対応するモノマー単位を少なくとも含む共重合体。この共重合体は、さらに、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、芳香族ビニル化合物、ヒドロキシル基含有単量体、カルボキシル基含有単量体に対応するモノマー単位を含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】レジスト用樹脂等に応用した場合に有機溶媒への溶解性が良好で、基板への密着性が良く、更に高い耐エッチング性を発揮できるものであり、また、工業的見地からコストや入手の面で優位にある樹脂、更にはその原料である単量体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）


（式中、Ｒ^ａは水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ^１は飽和炭化水素６員環を含有する特定の基）で表されるフォトレジスト用単量体。 （もっと読む）

【課題】解像度と感度に優れたポジ型レジスト組成物に好適な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】５−ヒドロキシ−３−オキサ−２−チア−トリシクロノナンとアクリル酸よりなるアクリル酸エステル（ａ０）と酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物。酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、前記高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】新規な含フッ素化合物、該含フッ素化合物を用いた液浸露光用として好適な疎水性を有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】新規な含フッ素化合物；酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、新規な含フッ素化合物（Ｆ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物；当該液浸露光用ポジ型レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】せん断安定性に優れ、かつ粘度指数向上効果にも優れている粘度指数向上剤、およびそれを含む潤滑油組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるビニル単量体（ａ０）を必須構成単量体としてなるビニル重合体（Ａ）からなる粘度指数向上剤である。
【化５】


（式中、Ｒ¹およびＲ²は炭素数１〜３２のアルキル基であり、同一であっても異なっていてもよい。ｎは１〜５の整数である。） （もっと読む）

【課題】同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにも適用でき、得られるパターン形状が優れたポジ型レジスト組成物とパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）酸の作用により分解し、酸を発生する化合物及び（Ｄ）それ自身は（Ａ）成分及び（Ｃ）成分が発生する酸に対して塩基として働くが、活性光線又は放射線の照射により分解して（Ａ）成分及び（Ｃ）成分が発生する酸に対する塩基性を消失する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高耐熱、高機械強度、低誘電率、表面平滑性、及び、良好な保存経時安定性を有する膜を形成することができる膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる膜、並びに、前記膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物、及び／又は、式（１）で示される化合物を少なくとも用いて重合した重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて形成された膜、並びに、前記膜を有する電子デバイス。なお、式（１）中、Ａ^１は４又は６価の有機基を表し、Ａ^２はアルケニル基又はアルキニル基を表し、Ａｒは（ａ１＋１）価のアリール基を表し、Ｒは水素原子又は炭素数１〜３０のアルキル基を表し、ａ１は１〜５の整数を表し、ａ２は２又は３を表す。
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【課題】十分に高い感度及び解像度でレジストパターンを形成できると共に、形成されたレジストパターンの剥離特性に十分に優れる感光性樹脂組成物。
【解決手段】（Ａ）（１）（メタ）アクリル酸，（２）スチレン誘導体および（３）（メタ）アクリル酸フェノキシアルキルエステル誘導体構造単位を有するバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】エネルギーロスが少なく、生産性に優れ、熱劣化が少ない変性ポリオレフィン樹脂の製造方法を提供すること。
【解決手段】以下の連続する工程からなることを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂の製造方法；（１）１〜４０重量％の揮発成分を含有するポリオレフィン樹脂から揮発成分を脱揮して、揮発成分量が０〜０．５重量％であるポリオレフィン樹脂（Ａ）を得る工程、ならびに、（２）該ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００重量部と、少なくとも１種の不飽和基（ｂ１）および少なくとも１種の極性基（ｂ２）を有する化合物（ｂ）０．０１〜２０重量部と、有機過酸化物（ｃ）０．００１〜２０重量部とを反応させて、変性ポリオレフィン樹脂（Ｂ）を製造する工程。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターンプロファイル等に優れ、化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリル酸エステル類に由来する繰返し単位群から選ばれる少なくとも２種の繰り返し単位を有し、それら繰返し単位の各々の含有量が１〜４９ｍｏｌ％であり、かつそれら繰返し単位の合計含有量が５〜５０ｍｏｌ％であり、さらに酸の作用によりアルカリ易溶性となるアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂、および（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】特定の構造を有するアクリル系共重合体、およびこの共重合体を用いることにより、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジスト材料としての基本物性を有しする樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される繰り返し単位を含むアクリル系共重合体およびこの共重合体を用いた感放射線性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】感放射線性樹脂組成物における液中異物発生度合を樹脂原料段階で評価可能な樹脂の評価方法、及び各種放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして使用できる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本樹脂の評価方法は、フッ素含有重合体を含む樹脂のレジスト溶剤溶液の動的光散乱を測定し、この溶液の一定濃度領域における拡散係数差（ΔＤ）により、樹脂を感放射線性樹脂組成物材料として用いた場合における液中異物発生度合を評価する。本感放射線性樹脂組成物は、フッ素含有重合体を含む樹脂と、レジスト溶剤と、感放射線性酸発生剤とを含有しており、前記樹脂は、濃度２質量％のレジスト溶剤溶液の動的光散乱測定による拡散係数（Ｄ_ａ）と、濃度８質量％のレジスト溶剤溶液の動的光散乱測定による拡散係数（Ｄ_ｂ）との拡散係数差［ΔＤ（Ｄ_ｂ−Ｄ_ａ）］が、−２．０×１０^−７ｃｍ^２・ｓ^−１以上である。 （もっと読む）

【課題】Ｋｒエキシマレーザー光またはＡｒＦエキシマレーザー光に対して透明性が高く、高解像性を有するとともに、膨潤がなく、かつ断面形状が矩形のレジストパターンを与える化学増幅型のネガ型レジスト組成物を提供する
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位とアルコール性ヒドロキシル基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ³はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Wは二価の連結基を表す。Ｒ⁴、
Ｒ⁵およびＲ⁶は、相互に独立に、水素原子、フッ素原子もしくは一価の有機基であり、または相互に組み合わされて環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】解像性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、（Ａ）成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを含み、かつ、（Ｂ）成分は、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｒ^１１は１価の脂肪族炭化水素基、ヒドロキシアルキル基、又は芳香族有機基であり；Ｙ^１１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基であり；Ａ^＋はカチオンである。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
（もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）および酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分（Ａ）は、水素原子または低級アルキル基及び第３級アルキル基含有基で置換された水酸基を有するスチレン誘導体単位と、脂肪族環式基を有するアクリル酸エステル単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】重合反応を阻害する有機溶媒や、人体への悪影響を及ぼす可能性の高い物質を使用することなく、共重合性の低いシリコン含有モノマーと、親水性モノマーの共重合を可能とし、眼用レンズとして必要な含水性、強度、透明性、酸素透過性に優れた眼用レンズを提供する。
【解決手段】ポリシロキサンマクロマーおよび／あるいはシリコン含有（メタ）アクリレート、親水性モノマー、ビニルエーテルおよびそれらと共重合可能なモノマーから成り、酸素透過係数が８０×１０^−１１（ｃｍ^２／ｓｅｃ）・（ｍＬＯ_２／ｍＬ×ｍｍＨｇ）以上の含水性眼用レンズ。 （もっと読む）

【課題】高屈折率の液浸用液体を用いた液浸露光において、液浸用液体由来の液滴痕の発生を抑制できるレジストパターン形成方法、及びその形成方法に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本レジストパターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物を用いて、基板の表面にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．５０〜１．８０である飽和炭化水素化合物（例えば、１，１−ビシクロヘキシル等）からなる液浸用液体を介在させた状態で、フォトレジスト膜に放射線を照射して露光する露光工程と、露光処理されたフォトレジスト膜を、有機溶剤（例えば、アルキルアルコール類等）を洗浄液として洗浄する洗浄工程と、洗浄処理されたフォトレジスト膜を加熱する加熱工程と、加熱処理されたフォトレジスト膜を現像する現像工程と、を備える。 （もっと読む）