【課題】解像性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、（Ａ）成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを含み、かつ、（Ｂ）成分は、９−フェニルチオカルバゾール構造を有するカチオンで表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 中和処理工程において、必用とされる固体塩基量を削減し、これにより製造に要する時間の短縮化、コストの低減を可能とする（メタ）アクリル系ブロック共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 (I).有機溶剤中で遷移金属錯体触媒を用いた制御ラジカル重合法により（メタ）アクリル系重合体溶液を製造する工程、
(II).前記（メタ）アクリル系重合体溶液に有機酸を添加し、前記遷移金属錯体触媒を除去する工程、
(III)．(II)の工程を経た後、前記（メタ）アクリル系重合体溶液に中和剤を加え中和処理する工程、を含み、(III)の工程で使用する中和剤が固体塩基であり、且つ、中和処理温度が４０〜６０℃である（メタ）アクリル系重合体の製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な新規化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）及び酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、（Ａ）成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを含み、（Ｂ）成分は、水酸基または酸解離性基を有する炭酸エステルで保護ざれた水酸基を有する９−フェニルチオカルバゾール誘導体のカチオンからなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】新規な高分子化合物およびポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）［Ｒ^１は水素原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基であり、Ｒ^５はアルキル基であり、Ｒ^６はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される置換基であり、ｅは０〜５の整数である。］で表される構成単位（ａ０）を有することを特徴とする高分子化合物。
［化１］
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【課題】 重合速度を一定とすることで反応器の冷却能力を効率的に使用可能とすることにより、より生産効率に優れるマレイミド・オレフィン共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 炭素数２〜４個のオレフィン単量体及びマレイミド単量体の重合を行うに際し、１０時間半減期温度の差が５〜１５℃の範囲内にある少なくとも２種類のラジカル重合開始剤を用い、重合反応途中で重合温度を昇温し重合反応を行うマレイミド・オレフィン共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】水又は水に対する液浸媒体に対して高い撥水性を有し、現像液によって容易に剥離し、かつフォトレジスト層とのミキシングを起こさない保護膜を形成するための液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料の提供。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１）


で表されるビニルエーテル系構成単位と、 下記一般式（２）：


で表されるマレイミド系構成単位を有するビニルエーテル共重合体。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰返し単位、および下記一般式（２）で表される繰返し単位からなる共重合体である。
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【課題】良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大しかつ特定の化学式で表される構成単位（ｃ０）を有さない基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、前記構成単位（ｃ０）および酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ｃ１）を有する含フッ素高分子化合物（Ｃ）とを含有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】微細パターン（特に線幅１００ｎｍ以下）の形成においても、ラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物を調製することができる、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を重合によって製造する方法であって、溶媒として、特定の、スルホン構造を有する化合物を用いる樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】エッチング耐性に優れた、ＡｒＦレジストとして好適なポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、単環式脂肪族炭化水素基含有非酸解離性基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び、前記構成単位（ａ０）が、特定構造の構成単位である前記記載のポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 放射線の波長に対して十分な透過性をもち、フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト膜上に保護膜を形成でき、更には十分な撥油性を有し高速スキャン時に膜上への液残りが少なく、高ＮＡ露光に対応する十分高い屈折率を有する上層膜を形成できる。
【解決手段】 ｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレン、１，１−ビシクロヘキシル、ｅｘｏ−テトラヒドロジシクロペンタジエンとの接触角が６５°以上、９０°未満であり、１９３ｎｍおける屈折率が１．６以上、１．８以下となる膜を形成することができ、重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であり、上層膜用重合体は、フッ素原子を含む基をその側鎖に有する繰返し単位と、硫黄原子を含む基をその側鎖に有する繰返し単位とを含む。 （もっと読む）

【課題】２Ｐ法による光学ディスクの製造工程を削減する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光学ディスクの第一の情報層の無機表面への感光性樹脂の強い結合をもたらす、金属及び／又はセラミック表面キレート剤を含む感光性樹脂を用いる。該樹脂は、スタンパーの分離を容易にする急速表面硬化及びガラス転移温度制御モノマー及び、短波長（＜４０５ｎｍ）表面硬化開始剤を含む。また該樹脂は、収縮制御オリゴマー及び／又は高分子充填材又は両方の組み合わせを任意に含んでいてもよい。本発明の樹脂の使用により、スペーサ層の形成及びスペーサ層の硬化は不要となり、多層の情報層の光学ディスクの製造から二工程の削減ができる。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられるレジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるリンス液を提供する。
【解決手段】（ア）特定の繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するレジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられるレジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるリンス液。 （もっと読む）

【課題】 反応効率を向上させると共に高純度の熱可塑性樹脂の製造方法を提供する事を課題とする。
【解決手段】第１押出機、第２押出機、及び、第１押出機の樹脂吐出口と第２押出機の原料供給口を接続する部品を有するタンデム型押出機を用いて、第１押出機において主原料と副原料とを処理する第１段目反応を行い、第２押出機において、第１押出機における反応生成物をさらに他の副原料と処理する第２段目反応を行うことで、劣化や異物の良好な熱可塑性樹脂を効率良く製造することができる。 （もっと読む）

【課題】樹脂フイルムとの密着性に優れ、樹脂膜との界面における凹凸が小さい導電性層をその表面に容易に形成しうる、導電性物質吸着性樹脂フイルムおよびその製造方法、それを用いて得られる、絶縁性の樹脂フイルムとの密着性に優れた高精細の配線を形成しやすい金属層付樹脂フイルムおよび高精細の配線を有するプリント配線板を簡易な方法で作製しうる材料である金属層付き樹脂フイルムの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２層の樹脂層からなり、該樹脂層の少なくとも１層が、導電性物質もしくは金属を吸着する性質をもつ吸着性樹脂層である導電性物質吸着性樹脂フイルム。この導電性物質吸着性樹脂層に金属を吸着させ、めっき処理を行うことで金属層付き樹脂フイルムを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及び密着性の全てを従来よりも十分に満足するレジストパターンを形成する感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
上記目的を達成する本発明は、（Ａ）特定のスチレン及びその誘導体から得られる２価の基１０〜６５質量部と、特定の（メタ）アクリル酸エステル及びその誘導体から得られる２価の基５〜５５質量部と、（メタ）アクリル酸から得られる２価の基１５〜５０質量部とを有する１００質量部のバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】重合体組成物中での滞留性に優れ、長期間にわたり高い耐候性を維持できる重合体組成物を与える変性重合体の、工業的経済性に優れる製造方法を提供すること。
【解決手段】芳香族ビニル化合物又は共役ジエン化合物からなる単量体を、数平均分子量が１０００〜１０００００となるようにリビングアニオン重合して得られるリビングポリマーに、４−アルコキシシリルアルコキシ−２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン類からなる変性剤を反応させ、必要に応じて共役ジエン単位の一部または全部を水素添加する。 （もっと読む）

【課題】本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）アルカリ現像液に対して不溶で、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する化合物、および（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
（もっと読む）

【課題】本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素および珪素を含有せず、所定の構造を有する繰り返し単位を有する樹脂、および（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。式（Ｉ）中、各記号は所定の基等を表す。
【化１】
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【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、定在波の残存、パターンプロファイルを同時に満たす良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】
２４８ｎｍに吸収を有する基を主鎖末端に有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）