【課題】レジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】ポジ型レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、
前記レジスト膜を露光する工程、前記レジスト膜の露光後加熱を８０℃以下で行う工程、
および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法であって、前記ポジ型レジスト組成物は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、該基材成分（Ａ）を構成する全構成単位に対する酸解離性溶解抑制基を有する構成単位の割合が５５〜８０モル％であることを特徴とする、レジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、特に液浸露光用レジスト組成物用として有用な重合体、該重合体の製造に用いるラジカル重合開始剤として有用な化合物、該化合物からなるラジカル重合開始剤、該重合体を含有するレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に下記一般式（ｉ−１）で表される基を有する重合体。下記一般式（Ｉ）で表される化合物。該化合物からなるラジカル重合開始剤。前記重合体を含有するレジスト組成物。式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基である。Ｒ^２は、当該式中の−Ｏ−Ｒ^２を、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基とする有機基である。
［化１］
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【課題】感放射線性樹脂として用いた場合に、硬度、耐溶剤性及び耐熱性に優れた高性能の硬化皮膜を形成できる共重合体を提供する。
【解決手段】共重合体は、カルボキシル基又は酸無水物基含有重合性不飽和化合物（ａ）に対応するモノマー単位（Ａ）、下記式（１）及び（２）


（式中、Ｒ^aは水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基等を示し、Ｒ^bは単結合又は炭素数１〜１８のアルキレン基等を示す）で表される化合物から選択される少なくとも１種の重合性不飽和化合物（ｂ）に対応するモノマー単位（Ｂ）を少なくとも含む。 （もっと読む）

本発明は、マレイミド、ナジイミドまたはイタコンイミド含有化合物および金属／カルボキシレート錯体およびペルオキシドを含む熱硬化性樹脂組成物に関し、それは、比較的短い時間、低い温度で、例えば３０から９０分間に渡って、約１００℃未満、例えば５５−７０℃で硬化可能である。本発明は、さらに、そのような組成物を製造する方法、そのような組成物を基体表面に塗布する方法、およびマイクロエレクトロニック回路を接続するためにそれらを使って製造されたパッケージおよび組立品を提供する。 （もっと読む）

【課題】プロセスウィンドウの向上したレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および露光により塩基を発生する塩基発生剤成分（Ｃ）を含有し、前記塩基発生剤成分（Ｃ）が、下記一般式（ｃ１）［式中、Ｗはカルボニル基またはヒドロキシメチレン基であり、Ｒ^３は置換基を有していてもよい１価の芳香族基または１価の脂肪族基であり、Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい１価の芳香族基または１価の脂肪族基であり、Ｒ^４およびＲ^５は共に１つの２価の基を形成していてもよい。］で表される化合物（Ｃ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】レジストパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、特定構造の構成単位（ａ０）を有し、かつ、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、特定構造で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】単環性または二環性の化合物よりもさらに高い耐熱性、高屈折率を有する三環性の化合物を含有し、光又は熱エネルギーにより容易に重合させることのできる重合性組成物を提供する。
【解決手段】１，２，３，４−テトラヒドロアントラセン−９，１０−ジ（メタ）アクリレート化合物及びラジカル重合開始剤を含有してなる重合性組成物及び当該組成物を重合して得られる重合物。重合開始剤としては、熱ラジカル重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｙ^１１は炭素数１〜４のフッ素化アルキル基であり、Ｙ^１２は炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｙ^１３は単結合又は二価の連結基であり、Ｘ^１０は炭素数３〜３０の環状の炭化水素基であり；Ａ^＋は有機カチオンである。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】メッキ造形物の製造に好適なポジ型感放射線性樹脂組成物に関する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）および／または（２）で表される構造単位（ａ）と、酸解離性官能基（ｂ）とを含有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）有機溶媒を含有し、かつ重合体（Ａ）１００重量部に対して、特定構造の感放射線性酸発生剤が１〜２０重量部含有することを特徴とするメッキ造形物製造用ポジ型感放射線性樹脂組成物。
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【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素高分子化合物の提供。
【解決手段】塩基解離性基を有する構成単位（ｆ１）および特定構造で表される構成単位（ｆ２）を有する含フッ素高分子化合物（Ｆ）、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有する液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物。
［化１］


［式中、Ｒ^００は脂肪族環式基であり；Ｒ^０１は２価の連結基又は単結合であり；Ｙ^１はフッ素置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキレン基であり；Ａ^＋はカチオンである。］ （もっと読む）

【課題】ポリプロピレン系樹脂からなる位相差フィルムと粘着剤との密着性が向上した粘着剤層付位相差フィルム、ならびにこれを用いた楕円偏光板および液晶表示装置を提供する。
【解決手段】ポリプロピレン系樹脂からなる位相差フィルム２０とプライマー層３０と粘着剤層４０とをこの順で備え、該プライマー層３０が、（ａ）ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｒ（式中、Ｒは、シクロアルキル基、第２級アルキル基または第３級アルキル基）で示されるビニル化合物から誘導される単量体単位、（ｂ）不飽和カルボン酸類から誘導される単量体単位、および、（ｃ）１，２−位に二重結合を有する直鎖状エチレン列炭化水素から誘導される単量体単位を含む共重合体からなる粘着剤層付位相差フィルム、ならびにこれを用いた楕円偏光板および液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー用途に使用可能な新規なレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】リソグラフィー用途に使用可能な新規な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）［式（ａ０−１）中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のフッ素化アルキル基を表し、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立して水素原子または任意の位置に酸素原子を含んでいてもよいアルキル基を表すか、または両者が結合してアルキレン基を表し、Ｗは任意の位置に酸素原子を含んでいてもよい環状のアルキレン基を表す。］で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物。
［化１］
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【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、特定構造で表される構成単位（ａ０）と他の特定構造で表される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記高分子化合物（Ａ１）を構成する全構成単位に対し、前記構成単位（ａ０）の割合は、５〜５０モル％であり、前記構成単位（ａ１）の割合は１０モル％より大きく、前記構成単位（ａ０）および（ａ１）の割合の合計は９０モル％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】フリージングプロセスにおいて第一のレジストパターンに対して特別な化学処理を施すことなく、第二のレジストの溶剤及び現像液に対して実質的に溶解せず、且つ第二のレジストパターン形成後においても形状を悪化させずにラインエッジラフネスが良好な第一のパターンを形成することができる、新規なフリージング処理用のポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物において、樹脂（Ａ）が、（ａ１）酸の作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基を持つ繰り返し単位と、（ａ２）加熱により樹脂間を架橋する官能基を有する繰り返し単位、とを有する樹脂である、ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性を有し、しかもフィルムとしての機械的強度、とりわけ耐折り曲げ性に優れ、さらにはカッターカット性にも優れた光学用フィルムを提供することである。
【解決手段】（Ａ）成分としてガラス転移温度が１２０℃以上であり、屈折率が１．５０以上であるアクリル系樹脂、（Ｂ）成分としてエポキシ基含有オレフィン系共重合体としたときに、（Ａ）成分を９９.５〜７０重量％、（Ｂ）成分を０．５〜３０重量％含有する樹脂組成物からなる光学用フィルムにより上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】ラビング処理を行わずに偏光または非偏光の放射線照射によって、少ない露光量でも良好な液晶配向能を有する液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、下記式（１−１）


（式（１−１）中、Ａ^１は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘ^１はエポキシ基を有する１価の有機基である。）
に代表される特定の繰り返し単位を有する重合体と、カルボキシル基を有する桂皮酸誘導体との反応生成物を含有する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造に用いられるフォトレジスト用モノマー原料や該モノマーなどとして有用な、露光感度、溶解性、相溶性、ディフェクト低減、ラフネス改善等に優れた脂環構造含有化合物、（メタ）アクリル酸エステル類及びその製造方法、（メタ）アクリル系重合体並びにポジ型レジスト用組成物を提供すること。
【解決手段】エステル結合を有する連結基及びエーテル結合を有する連結基を含む脂環構造含有化合物、該脂環構造含有化合物から誘導される（メタ）アクリル酸エステル類及びその製造方法、該（メタ）アクリル酸エステル類に基づく単量体単位を含む（メタ）アクリル系重合体並びに該（メタ）アクリル系重合体を含有するポジ型レジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記基材成分（Ａ）が式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０１）と式（ａ０−３）で表される構成単位（ａ０３）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。
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