【課題】 本発明の目的は、金属や金属イオンを含まず、それ自体又はその重合体が、透明性、樹脂や溶剤への溶解性（相溶性）、耐熱性、耐湿性等に優れ、ブリードアウトし難い、帯電防止剤として機能し得る新規な重合性化合物を提供することにある。
【解決手段】 エチレン性不飽和二重結合を有する4級アンモニウムカチオン部と、（Ｃ_nＦ_2n+1ＳＯ₂）₃Ｃ^-、（Ｃ_nＦ_2n+1ＳＯ₂）₂Ｎ^-、（Ｃ_nＦ_2n+1ＳＯ₂）（Ｃ_mＦ_2m+1ＣＯ）Ｎ^-、ＳＣＮ^-、Ｒ⁹ＳＯ₃^-、及びＲ⁹ＯＳＯ₃^-（式中、Ｒ⁹は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、または、置換基を有してもよい複素環基を表す）からなる群より選ばれるアニオン部とを有する、難水溶性帯電防止性重合性化合物。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像度であり、焦点深度（ＤＯＦ）、ディフェクトに優れたレジスト膜を形成できるレジスト組成物に好適な重合体を提供する。
【解決手段】 酸脱離性基（Ａ）と親水性基を（Ｂ）を有する重合体（Ｐ）であって、下記（１）式および（２）式を満足するレジスト用重合体。
Ｐ［Ａ］／ＰＨ［Ａ］≦０．９９ ・・・（１）
Ｐ［Ｂ］／ＰＨ［Ｂ］≦０．９９ ・・・（２）
（Ｐ［Ａ］：重合体（Ｐ）中の酸脱離性基（Ａ）の含有量率。
ＰＨ［Ａ］：重合体（ＰＨ）中の酸脱離性基（Ａ）の含有量率。
Ｐ［Ｂ］：重合体（Ｐ）中の親水性基（Ｂ）の含有量率。
ＰＨ［Ｂ］：重合体（ＰＨ）中の親水性基（Ｂ）の含有量率。
重合体（ＰＨ）は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによって重合体（Ｐ）から分取した、重合体（Ｐ）の質量平均分子量（Ｍｗ（Ｐ））よりも分子量の大きい重合体。） （もっと読む）

【課題】パターン形成時の解像度に優れ、しかもエッチング性に優れる、エッチング用マスク材、特に金エッチング用マスク材として好適なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の構造単位（ａ）から（ｃ）を特定の割合で有する共重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、および（Ｃ）有機溶媒を含有する感放射線性樹脂を製造する。 （もっと読む）

【課題】簡単な装置によって熱可塑性樹脂の溶融粘度を低下させ得るとともに、フィルターの濾過精度を十分に上げ得る異物除去方法、および当該方法を用いた光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】イミド化アクリル系樹脂を含む溶融した状態の樹脂混合物をフィルターに通して、樹脂混合物中に含まれる異物を除去する異物除去方法であって、樹脂混合物には、メタノール、モノメチルアミン、ジメチルアミン、およびトリメチルアミンからなる群より選択される少なくとも１つの成分が含有され、当該成分は、アクリル系樹脂とイミド化剤とのイミド化反応の過程で生じる副生成物、またはイミド化反応の未反応物である。樹脂混合物には、１００重量部のイミド化アクリル系樹脂に対して、５重量部以上の成分が含まれる。 （もっと読む）

【課題】焦点深度幅（ＤＯＦ）などのリソグラフィー特性に優れたレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分（Ｂ）は、カチオン部に酸解離性基を有する、互いに異なる二種の酸発生剤（Ｂ１）および（Ｂ２）を含むことを特徴とするレジスト組成物；かかるレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦性が低い基体上に、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性、耐エッチング性などの各種の耐性に優れた光デバイス用保護膜を形成するための組成物を提供する。
【解決手段】オキシラニル基またはオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物に由来する重合体およびアルコキシチオカルボニル基またはアルコキシアルキルチオカルボニル基を有する重合性不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種に由来する少なくとも１種の重合単位を含有する共重合体および溶媒を含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高温高湿下で優れた電気絶縁性を有し、かつ長期間の信頼性に優れたアクリル系エラストマー及びこれを用いたアクリル系エラストマー組成物を提供すること。
【解決手段】炭素数５〜２２の脂環式炭化水素を有する置換基と、カルボキシル基、ヒドロキシル基、酸無水物基、アミノ基、アミド基及びエポキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有する置換基と、がそれぞれカルボニル結合を介して、ポリマー鎖に結合しているアクリル系エラストマーとする。 （もっと読む）

【課題】従来使用ないし提案されている２−アルキルアダマンチル（メタ）アクリレートよりもさらに高い酸解離性能を有する酸解離性（メタ）アクリレートモノマーを共重合成分とし、アルカリ不溶性または難溶性であるが、酸の作用によって優れた応答性でアルカリ可溶性となる（メタ）アクリル酸エステル樹脂を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される構造単位を含む（メタ）アクリル酸エステル樹脂。
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【課題】フォトレジスト組成物、および多重露光／多層プロセスにおいて該フォトレジスト組成物を使用する方法を提供すること。
【解決手段】このフォトレジスト組成物は、ヒドロキシル部分を有する繰返し単位を含む重合体と、光酸発生剤と、溶媒とを含む。基板上に形成されたとき、前記重合体は、約１５０℃以上の温度に加熱した後、前記溶媒に実質的に不溶である。一方法は、基板（１１０）上に第１のフォトレジスト層（１２０）を形成し、第１のフォトレジスト層をパターンどおりに露光し、基板上および第１のパターン形成フォトレジスト層（１２０Ａ）上に、第２の非フォトレジスト層を形成することを含む。別法は、基板（１１０）上に第１のフォトレジスト層（１２０）を形成し、第１のフォトレジスト層をパターンどおりに露光し、基板上および第１のパターン形成フォトレジスト層（１２０Ａ）上に、第２のフォトレジスト層（１３０）を形成し、第２のフォトレジスト層をパターンどおりに露光することを含む。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、一般式（ｄ１）で表され、かつ、分子量が２００以上である含窒素有機化合物（Ｄ１）とを含有することを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】 本発明は、高分子量で生産性の高いフマル酸エステル重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 リンゴ酸エステルの含有率が０．３重量％以下であるフマル酸エステルをラジカル重合開始剤存在下で重合を行なうことを特徴とするフマル酸エステル重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】修飾アクリルオリゴマーおよびそれから製造される防汚コーティング、特に放射線硬化性の防汚コーティングを提供すること。
【解決手段】本発明は以下のモノマー
(1)アクリラートモノマー;
(2)フッ素化アクリラートモノマー、シロキサンモノマー、およびそれらの混合物からなる群から選択されるモノマー;ならびに
(3)必要により、第3級カルボン酸エステルモノマー;
に由来する重合単位を含む修飾アクリルオリゴマーを提供し、ここで前記オリゴマーは、エポキシ(メタ)アクリラート、ウレタンアクリラート、ポリエステルアクリラート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリラート、およびそれらの混合物からなる群から選択される修飾剤に由来する部分をさらに含む。
本発明は、修飾アクリルオリゴマーを含む防汚コーティングも提供する。 （もっと読む）

【課題】光開始剤を含有せず、硬化時に不快な臭気を発せず、黄変を起こさず、または水または溶媒との接触時に材料をしみ出させない活性な水相溶性エネルギー硬化性組成物を提供する。
【解決手段】実用的な強度およびエネルギーレベルで硬化することが可能な、マレイミド誘導体、水相溶性樹脂および水から構成される活性な水相溶性エネルギー硬化性組成物、およびそれを硬化させる方法。 （もっと読む）

【課題】特殊な製造工程などを必要としなくても、高イオン伝導率を実現することにより、大電流での放電時にも電池性能を充分なレベルに保持し、長寿命で安定した電池性能を得ることができるアクリルポリマー、その合成方法、及びこれを用いた重合性樹脂組成物、ゲル状高分子電解質を提供する。
【解決手段】特定の化学式で示される複数の構造単位を有するアクリルポリマーであって、質量平均分子量が１，０００〜１００，０００であるアクリルポリマー。 （もっと読む）

【課題】反射率が低く、白濁感がなく、かつ耐擦傷性に優れた反射防止膜を提供する。
【解決手段】透明支持体上に少なくとも１層の低屈折率層を有する光学フィルムであって、低屈折率層が（Ａ）無機微粒子、（Ｂ）含フッ素共重合体、（Ｃ）多官能含フッ素アクリレートを含有する塗布組成物から形成される層であり、かつ多官能含フッ素アクリレート（Ｃ）が特定の構造式で表されることを特徴とする光学フィルム。 （もっと読む）

【課題】主鎖が複数種類の重合単位からなり、それらの重合単位のそれぞれがシクロペンタン環構造を含み、且つそれらの重合単位がランダムに配列された、耐熱性に優れたランダム共重合体、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】下式（１）で表される少なくとも２種類の重合単位を含むランダム共重合体およびその製造方法。


（１） （もっと読む）

【課題】１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ性能、フォーカス余裕度が改良され、かつ良好な露光ラチチュードを有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の３級エステル構造を有する酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により特定構造のプロトンアクセプター性官能基を有する化合物を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、任意の置換基を表す）を有する繰り返し単位と、特定の酸分解性繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 レジスト材料などとして有用な、分子量が揃ったポリマーを提供すること。
【解決手段】 式（Ｉ−１）


で表される繰り返し単位の少なくとも一種を含有し、数（又は重量）平均分子量が５，０００以下、好ましくは２，０００〜４，０００であることを特徴とする(メタ)アクリレート系コポリマー。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される構造を有し２４８ｎｍの波長に吸収を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）