【課題】高周波用電子部品にも好適に使用できる、低誘電率かつ低誘電損失（低誘電正接）の新規な脂環式ビニルエーテル重合体を提供する。
【解決手段】下記〔I〕式（ｍは０又は１を示し、ｎは２〜３，０００の整数を示す。）で表される新規な脂環式ビニルエーテル重合体、及び下記〔I〕式に表される重合体におけるモノマー構造と所定のモノマー構造からなる新規な脂環式ビニルエーテル共重合体。
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【課題】良好なアルカリ現像性を耐熱性、透明性に優れた硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】特定構造を有する硬化性樹脂組成物は、耐熱性とともに透明性にも極めて優れた塗膜を形成し、かつ良好なアルカリ現像性することができるものであり、例えば、レジスト材料、各種コーティング剤、塗料等の用途において好適に用いることができる。また、本発明によれば、パターンの欠損や現像残渣のない良好な品質のカラーフィルタを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】新規な高分子化合物およびポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】水酸基が結合した炭素原子が第１級炭素原子または第２級炭素原子である水酸基含有脂肪族炭化水素基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）と、エステル基中に、エーテル基で連結され、置換されていても良いアルキレン基およびアルキル基または脂肪族環式基を有するアクリル酸エステルまたはメタアクリル酸からなる構成単位（ａ１）とを有することを特徴とする高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】硬化性を低下させずに流動性、耐半田リフロー性に優れる封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）硬化剤、（Ｃ）アクリル化合物を含有する封止用エポキシ樹脂成形材料において、（Ｃ）アクリル化合物が、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で示される化合物を重合して得られるアクリル化合物である封止用エポキシ樹脂成形材料。
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【課題】官能基濃度が高く、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法、ならびに該含フッ素ポリマーを用いたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される含フッ素ジエンが環化重合してなるモノマー単位に由来する単位と、特定の構造を有するアクリル系単量体が重合してなるモノマー単位に由来する単位と、を有する含フッ素共重合体。ＣＦ₂＝ＣＦＣＨ₂ＣＨ（Ｃ（ＣＦ₃）₂（ＯＲ³））（ＣＨ₂）_nＣＲ¹＝ＣＨＲ²・・（１） （もっと読む）

【課題】露光波長、特に２４８ｎｍ（ＫｒＦ）および１９３ｎｍ（ＡｒＦ）で十分な透過性を持つ、感放射線性樹脂組成物と上層膜形成組成物を用いたフォトレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によってアルカリ可溶性となる単量体を６０モル％を超えて含有する樹脂と感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を基板上に塗布してフォトレジスト膜を形成し、単量体を含有するアルカリ可溶樹脂を含有する上層膜形成組成物を前記フォトレジスト膜に塗布して上層膜を形成し、前記上層膜とレンズとの間に液浸媒体を配置して、前記液浸媒体と所定のパターンを有するマスクとを介して前記フォトレジスト膜及び前記上層膜に露光光を照射し、次いで現像することによってレジストパターンを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスに優れ、且つ、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される基を有する繰り返し単位（ａ）を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、該樹脂を形成する化合物、それを用いたポジ型感光性組成物およびパターン形成方法。式中、Ｒ₁はｎ＋１価の炭化水素基を表す。Ｒ₂、水素原子又は１価の有機基を表す。複数のＲ２は同一でも異なっていても良い。Ｒ₃は、１価の有機基を表す。Ｒ₂、Ｒ₃は同一でも異なっていても良く、結合して環状構造を形成していてもよい。ｎは１以上の整数を表す
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【課題】室温付近で液晶相を示し、溶媒溶解性に優れる組成物であって、かかる組成物を硬化して得られる重合膜に対し、重合膜を薄膜化しても充分な光学特性が得られ、均一な膜状態を維持し、耐熱性や配向制御及び光学特性に優れる組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される二官能（メタ）アクリレート化合物と、一般式（２）で表される末端にニトリル基を有する単官能（メタ）アクリレート化合物とからなり、それらの質量比率（前者／後者）が９０／１０〜４０／６０である重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目のレジストパターンとミキシングすることなく、第二層目のレジストパターンを形成可能な樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、（１）第一レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、基板上に第一パターンを形成する工程と、（２）第一パターンを光に対して不活性化させる工程と、（３）第二レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、第一パターンが形成された基板上に第二レジスト層を形成し、所用領域を露光する工程と、（４）現像することによって、第一パターンのスペース部分に、第二パターンを形成する工程と、を備えており、第二レジスト層形成用樹脂組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂と溶剤とを含んでおり、且つこの溶剤は、第一レジストパターンを溶解しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、溶液キャスト法として知られている方法にて、高い透明性と優れた表面平滑性および厚み精度を有するフィルムとすることが可能な、未溶解物を発生することない均一なポリマー溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】ディスパー型の撹拌羽根を備えた撹拌槽で、撹拌の周速が１０〜２５ｍ／ｓｅｃ．、かつ吐出流量Ｑと溶液量Ｖの比（Ｑ／Ｖ）が７〜３０となる設定を与えた撹拌下でポリマーの溶解を行なうことを特徴とするポリマー溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】大量の有機アルミニウムを使用せず、水酸基含有オレフィン共重合体へ変性可能なプロピレン又は／及びエチレンと嵩高い置換基を持つシリロキシ基含有ビニルモノマーとの共重合体、その製造方法、およびその変性方法の提供。
【解決手段】α−オレフィンと下記式で表されるシリロキシ基を有するモノマーとを重合させたオレフィン共重合体、及び、中心金属が４族のメタロセン化合物（Ａ）と、アルミニウムオキシ化合物、成分（Ａ）と反応して成分（Ａ）をカチオンに変換することが可能なイオン性化合物若しくはルイス酸およびイオン交換性層状珪酸塩からなる群より選ばれる（Ｂ）を含む触媒を使用してα−オレフィンと該ビニルモノマーとを共重合、あるいはそのオレフィン共重合体脱シリル化により水酸基含有オレフィン共重合体を製造することを特徴とする変性方法により提供した。ＣＨ２ＣＨ−Ｑ−ＯＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３ （もっと読む）

【課題】高いフッ素含有量と、高度な溶剤溶解性、アルカリ現像液溶解性、密着性、高硬度、高極性（相溶性）の各性能をバランスよく満たす新規の高分子化合物を提供する。
【解決手段】含フッ素ビニル系単量体および含フッ素アクリレート単量体から成る含有する含フッ素高分子化合物によって課題が解決する。該高分子は溶媒に溶かしてコーティング組成物とした上で、薄膜として用いたときに、特に優れた性能を発揮する。また、上記高分子化合物がＯＨ基を含有しているとき、該ＯＨ基をアクリロイル化することができ、それによって、より硬度の大きい薄膜を得ることもできる。 （もっと読む）

【課題】新規な高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を含む高分子化合物及びレジスト組成物。
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【課題】硬化前においては微細凹凸パターンの形成能及びその他の加工適性に優れると共に、強度、硬度、耐熱性、耐久性、柔軟性、或いは他の諸点において優れた硬化後物性（特に、硬化後の耐熱性と耐久性）を有する塗膜を形成することが可能な光硬化性樹脂、当該樹脂を含有する光硬化性樹脂組成物、当該樹脂組成物を用いて微細凹凸パターンを形成する方法、及び、当該樹脂組成物を用いた転写箔、光学物品及びスタンパーを提供する。
【解決手段】水酸基を有する構成単位を主鎖骨格に含む重合体（ａ）と、１つの水酸基と１つの光重合性官能基を少なくとも有する重合性化合物（ｃ）とが、少なくとも２つのイソシアネート基を有するイソシアネート化合物（ｂ）を介して結合している光硬化性樹脂である。 （もっと読む）

【課題】保存・貯蔵中の副反応を抑制し着色物質の生成を抑えることにより色調に優れたマレイミド・オレフィン共重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】有機溶媒中、ラジカル重合開始剤を用いて炭素数２〜４個のオレフィン単量体及びマレイミド単量体のラジカル共重合反応を行った後、ラジカル重合禁止剤を添加することを特徴とするマレイミド・オレフィン共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性および表面硬度が高く、耐熱耐圧性、耐酸性、耐アルカリ性、耐スパッタ性などの各種の耐性に優れた光デバイス用保護膜を形成するために好適に用いられ、かつ組成物としての保存安定性に優れる組成物を提供すること。
【解決手段】カルボン酸のアセタールエステル構造、カルボン酸のケタールエステル構造、カルボン酸の１−アルキルシクロアルキルエステル構造およびカルボン酸のｔ−ブチルエステル構造よりなる群から選ばれる少なくとも一種の構造を有する重合性不飽和化合物に由来する重合単位、オキセタニル基を有する重合性不飽和化合物に由来する重合単位、ならびに上記２つの重合単位以外の、重合性不飽和化合物に由来する重合単位からなる共重合体を含有する硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、耐熱変色性等に優れる皮膜を形成できるとともに、該樹脂を含む樹脂組成物の保存安定性が極めて高く合成も容易なポリマーを提供する。
【解決手段】 （Ａ）アルカリ可溶性基を含むモノマー単位、（Ｂ）オキシラン環、オキセタン環又はオキソラン環を含有する重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位、及び（Ｃ）Ｎ−置換マレイミド等の重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位からなる共重合体であって、前記モノマー単位（Ｂ）の割合が全モノマー単位に対して１重量％以上４０重量％未満であり、且つ前記モノマー単位（Ｂ）のうち６０重量％以上が特定の３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン環含有化合物に対応するモノマー単位であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位（ａ１）からなる重合体（Ａ２）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】レジスト保護膜用重合体およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられ、ハイドロフルオロカーボン系溶媒およびハイドロフルオロエーテル系溶媒から選ばれる少なくとも１種のハイドロフルオロ系溶媒（Ｓ）によって除去されて用いられるレジスト保護膜用重合体であって、フッ素含有量が４０〜７５質量％である特定の単量体（ｆ）の重合により形成された繰り返し単位（Ｆ^Ｕ）を含む含フッ素重合体（Ｆ）からなるレジスト保護膜用重合体、および該レジスト保護膜用重合体を用いたレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの裾引きを抑制できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ−１）［式中、Ｒ^１は下記一般式（Ｉ）で表される基であり、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基であり、ａは１〜３の整数であり、ｂは１〜３の整数である。］で表される化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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