【課題】解像性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを含み、かつ前記（Ｂ）成分は、一般式（ｂ−５）で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］


［式中、Ｒ^７”は置換基を有していてもよく有していなくてもよい炭化水素基である。］ （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを含み、かつ前記（Ｂ）成分は、トリアリールスルホニウム塩型オニウム塩であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｂ１−３）で表される化合物。酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する基材成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、下記一般式（ｂ１−３）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含む。式中、Ｒ^４１、Ｒ^４２およびＲ^４３はそれぞれ独立してアルキル基、アセチル基、アルコキシ基、カルボキシ基、またはヒドロキシアルキル基であり；ｎ_１は０〜３の整数であり、ｎ_２は０〜３の整数であり、ｎ_３は０〜２の整数であり、ただし、ｎ_１、ｎ_２およびｎ_３が同時に０であることはなく、；Ｘ⁻はアニオンである。
［化１］
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【課題】透明性、低吸水性に優れ、かつ反りの少ない高耐久性を有する紫外線硬化型樹脂組成物である高密度光ディスク用保護コート剤とその硬化物を提供することを可能にしたものであり、青色レーザーを用いて読み取り及び／又は書き込みを行う光ディスクに極めて有用である。
【解決手段】下記一般式（１）
【化１】

（式中Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）
で示される化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及び化合物（Ａ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｃ）を含有し、Ｂ型粘度計で測定した２５℃の粘度が１００〜５０００ｍＰａ・Ｓである紫外線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ａ２）とを含み、かつ前記（Ｂ）成分は、一般式（ｂ−３）、（ｂ−４）および（ｂ−５）で表される群から選択される一種のアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を含むポジ型レジスト組成物。
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【解決手段】式（１）〜（４）のいずれかで示される構造上β−脱離による酸分解を起こさない重合性酸不安定エステル化合物。


（Ａ¹は炭素−炭素二重結合を有する重合性官能基、Ｒ¹は水素原子又は−Ｃ−（Ｒ⁵）₃、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基、Ｒ⁴は水素原子又はアルキル基、Ｒ⁵は一価炭化水素基、Ｘはアルキレン基、Ｙはメチレン、エチレン又はイソプロピリデン基、Ｚはアルキレン基、両端で結合する３炭素鎖と共に４〜７員環を形成する。ｎ＝１又は２、Ｒ¹〜Ｒ⁵、Ｘ、Ｙ及びＺは炭素原子及び水素原子以外のヘテロ原子を含まない。）
【効果】本発明の重合体を含有するレジスト材料は、高感度で高解像性を有し、特に超ＬＳＩ製造用の微細パターン形成材料として好適である。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、かつ良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、下記一般式（ａ０−２）で表される構成単位（ａ０−２）とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基；Ｙ^１、Ｙ^３は脂肪族環式基；Ｚは第３級アルキル基含有基またはアルコキシアルキル基］。
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【課題】電子線、Ｘ線、極紫外線による微細パターン形成に好適なパターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物の樹脂成分として含有されている感放射線性酸発生基含有樹脂から、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の現像液に対する溶解性を増大させることにより、レジストパターンを形成する。また、本感放射線性樹脂組成物は、樹脂成分として、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生基を含有する繰り返し単位と、非酸解離性繰り返し単位とからなる酸発生基含有樹脂のみを含有する。 （もっと読む）

【課題】液浸液に対して高い耐性を有することに加え、フッ素を含有しないため、泡かみによる欠陥が発生しにくく、適度なスキャン特性を有する保護膜を形成するための保護膜形成用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】空気より屈折率の高い液体（液浸液）を介在させた状態でフォトレジスト膜に放射線を照射し、そのフォトレジスト膜を露光させる液浸露光に際し、前記フォトレジスト膜を前記液浸液から保護する保護膜を形成するために用いられる樹脂組成物であって、炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基を有する繰り返し単位を含む重合体を含有し、前記脂環式炭化水素基は、その炭素含有量が８５質量％以上のものである保護膜形成用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 空気界面のチルト角を減じることができ、かつ、高温下において位相差の変化が少ない光学異方体を作製することが可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（I）
【化１】


で表される分子量３００以上でかつ、空気界面のチルト角を減じる効果を有する酸化防止剤を含有する重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物の硬化物である光学異方体を提供する。本願発明の重合性液晶組成物により構成される光学異方体は、高温下においても、オーダーパラメータの低下に伴う位相差の減少を低減できることから、液晶セル内部に組み込む光学異方体として好適に使用することが可能である。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されるスルホニウム塩を持つ繰り返し単位を有する高分子化合物を添加してなるレジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²はフェニレン基、−Ｏ−Ｒ⁶−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ⁶−。Ｙは酸素原子又はＮＨ、Ｒ⁶はアルキレン基又はアルケニレン基、又はフェニレン基であり、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴はアルキル基であり、カルボニル基、エステル基又はエーテル基を含んでいてもよく、又はアリール基、アラルキル基又はチオフェニル基。Ｘ^-は少なくとも１個のフッ素原子を有するイミド酸アニオン又はメチド酸アニオン。）
【効果】本発明のポリマー型スルホニウム塩の酸発生剤を添加したレジスト材料は、特に解像性に優れ、高感度でラインエッジラフネスが小さいという特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】硬化性のアクリル樹脂を用いて形成された光学部材において、透明性、耐熱性、硬化収縮といった特性に関して良好なレベルを維持しながら、実装信頼性の改善を図ること。
【解決手段】１又は２以上の（メタ）アクリル酸と炭素数６〜２２の飽和脂肪族アルコールとのエステルである（メタ）アクリル酸エステル、及び熱又は光により重合する１又は２以上の不飽和二重結合を有するリン酸エステルを含む単量体混合物と、
ラジカル重合開始剤と、を含有する硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像力、矩形形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、かつＰＥＢ温度依存性が小さいポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）シクロプロピルエチル基を有する、アルカリ現像液に不溶又は難溶であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ホログラフィック記録用のモノマーとして好適な多官能のビニルシクロプロパン化合物、及びホログラフィック記録用組成物、並びに光記録媒体、及び光記録方法の提供。
【解決手段】下式（１）で表されるビニルシクロプロパン化合物および該ビニルシクロプロパン化合物を少なくとも含有するホログラフィック記録用組成物。


式中、Ｒ^１はアルキル基、アリール基、及びヘテロ環基のいずれかを表し、Ｒ^２は２価以上の有機連結基を表し、ｎは２〜６の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】 空隙率の高いナノメートルオーダーの中空ポリマー粒子及び着色中空ポリマー粒子を提供することであり、また、それらの粒子を界面活性剤等の分散安定剤を用いなくても良い擬エマルジョンラジカル重合工程を利用して製造する、簡便かつ低環境負荷の中空ポリマー粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ラジカル重合性の水溶性単量体（Ａ）と、ラジカル重合性の非水溶性単量体（Ｂ）とを含有する単量体群（Ｉ）を重合して得られる共重合体を主構成成分とする殻壁からなり、且つ該殻壁の厚みの平均値が５ｎｍ〜８０ｎｍであることを特徴とする中空ポリマー粒子、及びラジカル重合性の水溶性単量体（Ａ）と、ラジカル重合性の非水溶性単量体（Ｂ）とを含有する単量体群（Ｉ）を水溶性重合開始剤を用いて水性媒体中でラジカル重合することを特徴とする中空ポリマー粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し単位を有する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ラフネスが低減され、形状に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０）［Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基；Ｙ^１は脂肪族環式基；Ｚは酸解離性溶解抑制基；ａは１〜３の整数、ｂは０〜２の整数を示し、かつａ＋ｂ＝１〜３であり；ｃ、ｄ、ｅはそれぞれ独立して０〜３の整数を示す。］で表される構成単位（ａ０）と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導され、かつ前記構成単位（ａ０）に該当しない構成単位（ａ１）とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
（もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、ラインエッジラフネスに優れ、且つフォーカス余裕度及び疎密依存性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大する、特定の繰り返し単位を少なくとも２種類有する樹脂及び（Ｂ）特定構造のベンズイミダゾール骨格を有する塩基性化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＢ温度依存性、ラインエッジラフネス（ＬＷＲ）、ダーク／ブライトパターン形状差、現像欠陥、及びドライエッチング耐性について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有する繰り返し単位（Ａ１）を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有さない繰り返し単位（Ｂ１）を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｄ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、現像欠陥が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸分解性繰り返し単位と特定構造の非酸分解性繰り返し単位とを有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）