【課題】新規化合物、および該化合物をモノマー単位とし、ポジ型レジスト組成物の成分として好適な高分子化合物の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物、及びその重合、共重合体。［式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基を示し；Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立してアルキル基又はフッ素化アルキル基である。ただし、前記フッ素化アルキル基は、Ｒ^１〜Ｒ^３が結合している第三級炭素原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子が結合していない基であり、Ｒ^１〜Ｒ^３の少なくとも一つは、前記フッ素化アルキル基である。Ｒ^２及びＲ^３は、一つの環構造を形成していてもよい。］
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【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、露光ラチチュード性能が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、（Ｂ）成分が、特定構造で表される、酸分解性基を有する繰り返し単位を有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】光硬化性、密着性、離型性、残膜性、パターン形状、塗布性（Ｉ）、塗布性（ＩＩ）、エッチング適性のいずれにも優れた組成物を提供する。
【解決手段】重合性不飽和単量体を８８〜９９質量％と、光重合開始剤０．１〜１１質量％と、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素・シリコーン系界面活性剤の少なくとも１種０．００１〜５質量％とを含み、前記重合性不飽和単量体として、分子内にエチレン性不飽和結合を有する部位とヘテロ原子の少なくとも１種を有する部位を含有する１官能重合性不飽和単量体の１種を前記重合性不飽和単量体中１０質量％以上含むことを特徴とする光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物を採用した。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、良好なサイドローブマージンを与えるポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）側鎖に２級ベンジル構造を有する繰り返し単位を含有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）三級アミン化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、無色透明性に優れ、かつ異物の極めて少なく、揮発成分の含有量が抑制された熱安定性に優れる熱可塑性共重合体を製造する。
【解決手段】（ｉ）不飽和カルボン酸アルキルエステル単位および（ｉｉ）不飽和カルボン酸単位を含むカルボキシル基含有アクリル共重合体（Ａ）を製造する際に、完全混合型重合槽に、原料混合物を連続的に供給し、共重合体溶液（ａ）を製造する工程と、前工程で得られた共重合体溶液（ａ）をポンプにより連続的に抜き出し、管状反応器に加圧しながら送液する工程と、管状反応器において、ラジカル重合開始剤を添加混合して重合させながら反応液を通過させ、管状反応器出口におけるカルボキシル基含有アクリル共重合体（Ａ）の含有率が５０〜９０重量％となるように重合を行う工程を有する。 （もっと読む）

【課題】表示ムラの少ない（高分子／液晶）複合膜表示素子を提供する。
【解決手段】光重合性モノマー（Ａ）、光重合性モノマー（Ａ）とは相溶性のない有機化合物（Ｂ）、光重合性モノマー（Ａ）と光重合性モノマー（Ａ）とは相溶性のない有機化合物（Ｂ）とに共通して相溶性のある共溶媒（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）を必須成分とする光硬化型液状樹脂組成物を、透明電極を形成した第１の透明基板に滴下する工程、滴下された前記樹脂組成物を薄膜状に形成する工程、前記樹脂組成物を紫外線照射して硬化した樹脂組成物に空隙を形成する工程、硬化樹脂組成物から有機化合物（Ｂ）および共溶媒（Ｃ）を除去する工程、前記樹脂組成物内に形成された空隙に液晶を含浸する工程、樹脂組成物内の空隙に液晶が含浸された前記第１の透明基板に、透明電極を形成した第２の透明基板を重ね合わせる工程、とからなることを特徴とする（高分子／液晶）複合膜表示素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】スカムの発生を抑え、光感度、解像度、密着性、機械強度及び柔軟性が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物において、前記（Ｂ）成分が（Ｂ１）アルキレンジイソシアネートとポリアルキレンオキシドモノ（メタ）アクリレートの１／２モル比付加物である特定の重合性ウレタン化合物及び（Ｂ２）ポリエーテル鎖を有する特定のモノ（メタ）アクリレートを必須成分とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体製造等の微細なパターン形成に用いられる、従来品よりも高感度で、パターン倒れが改良された高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造の連鎖移動剤と重合開始剤とを使用してエチレン性二重結合を有する重合性化合物を重合させる高分子化合物の製造方法において、特定構造の連鎖移動剤（Ｓ）と重合開始剤（Ｉ）との添加モル比（Ｉ／Ｓ）が、１．０以下であることを特徴とする高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の一般式で表される酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の一般式で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：一分子の末端に２個以上の不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、ＬＷＲ（ラインウィイズスラフネス）、疎密依存性の低減を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】酸分解性アセタール基を有する芳香族基を含む（メタ）アクリル系繰り返し単位を含有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物とそのパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜用のアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含みデカリンに対する後退角が４０°以上であるレジスト保護膜用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、感光性レジストを基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜上に前記レジスト保護膜用材料を含むレジスト保護膜形成組成物を塗布してレジスト膜上にレジスト保護膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ工程における微細化の要求、特に、ラフネスを改善するための重合性化合物を安定した品質で製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）（Ｒ^１は炭素数５〜２０の環状飽和炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）の化合物とアクリル酸誘導体とを反応させる一般式（３）（Ｒ^１は上記に同じ。Ｒ^２は水素原子、メチル基又はＣＦ_３基を示す。）の重合性化合物の製造方法。


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【課題】制御された粘度を有する水性両親媒性コポリマーエマルジョンおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、１種以上の水性相コポリマー、１種以上の親水性連鎖移動剤の残基、および１種以上の疎水性連鎖移動剤の残基を含む、水性両親媒性エマルジョンコポリマーを提供するのみならず、水中または水性液体中でのそのようなコポリマーを製造する方法であって、モノマー成分重量基準で、２０〜８０重量％の親水性基含有モノマーのモノマー成分と、残りの共重合可能なエチレン性不飽和モノマーまたはプレポリマーのモノマー成分とを、３−メルカプトプロピオン酸などの親水性連鎖移動剤とＮ−ドデシルメルカプタンなどの疎水性連鎖移動剤を含む混合連鎖移動剤成分の存在下に、共重合する製造方法も提供される。本発明の水性両親媒性エマルジョンコポリマーは、貯蔵安定性であり、例えば組成物の５０〜８０重量％の高固体組成物においてでも優れた粘度調整を示す。この高固体組成物は、使用時に希釈することができ、その結果、輸送経費を削減することができる。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、基板との密着性に優れ、現像後に開口部に残渣を発生させず、メッキ後の樹脂膜のクラック発生を抑制することができ、メッキの樹脂膜への押し込みを抑制、露光量の変化に対してパターンの寸法変化が小さく、Ｔ−ｔｏｐを解消できるポジ型感放射線性樹脂組成物、転写フィルム、バンプや配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】上記ポジ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位とカルボキシル基を有する構造単位と架橋構造とを有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、および（Ｃ）有機溶媒を含有し、該重合体（Ａ）を構成する全構造単位のうち、架橋構造を含む構造単位以外の構造単位の合計１００モル％に対して、前記酸解離性官能基を有する構造単位が１〜３５モル％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し、かつ下記一般式（ｃ１−１）［Ｒ^２３は、下記一般式（Ｉ−１）で表される構造（Ｉ）を有する脂肪族環式基である。］で表される構成単位（ｃ１）を有さない基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、前記構成単位（ｃ１）を有する含フッ素樹脂成分（Ｃ）とを含有する液浸露光用レジスト組成物。
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【課題】フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜形成組成物に含有される上層膜形成組成物用樹脂。
【解決手段】フォトレジスト膜の表面上に上層膜を形成するために用いられる上層膜形成組成物に含有される樹脂であって、カルボン酸骨格を含む、開始剤及び／又は連鎖移動剤の存在下で、ラジカル重合性単量体をラジカル重合することによって得られる上層膜形成組成物用樹脂。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、現像剥離欠陥の発生を抑制することが可能であり、かつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜を形成するために用いられる上層膜形成組成物、及びこの上層膜形成組成物を用いたフォトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜の表面上に上層膜を形成するために用いられる上層膜形成組成物であって、アルカリ性の現像液に可溶であるとともに、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．２０〜１．７０である樹脂（イ）と、非イオン性であり、かつ、フッ素を含有しない界面活性剤（ロ）と、を含有する上層膜形成組成物。 （もっと読む）

【課題】スクリーン印刷性に優れ、かつ、低温で脱脂可能な無機微粒子分散ペースト組成物を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル樹脂と無機微粒子と有機溶剤とを含有する無機微粒子分散ペースト組成物であって、前記（メタ）アクリル樹脂は、分子末端のみに水素結合性官能基を少なくとも１個有し、かつ、ポリスチレン換算による数平均分子量が５０００〜５００００であり、前記有機溶剤は、分子中に水酸基又はアセトキシ基を少なくとも１個有し、かつ、沸点が１７０〜２８０℃である無機微粒子分散ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】 柔軟性が高く、湿熱時においても密着性良好で、剥がれ、発泡が生じることなく、しかも近赤外線吸収剤を安定に含有することができる近赤外線吸収フィルム用バインダー樹脂を提供する。
【解決手段】 次のモノマー（Ａ）〜（Ｄ）
（Ａ）ラウリルメタクリレートおよび／または２−エチルヘキシル メタクリレート １０〜３０質量％ （Ｂ）メタクリル酸 １〜１０質量％ （Ｃ）メチルメタクリレート ５０〜８８質量％ （Ｄ）シクロオレフィン環含有モノマー １〜３０質量％を共重合して得られる、Ｔｇ−１０〜７０℃、重量平均分子量２０〜５０万の近赤外線吸収フィルム用バインダー樹脂。 （もっと読む）