【課題】焦点深度が広く、ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)および（２）で表される繰り返し単位と、カーボネート構造を有する繰り返し単位（３）をそれぞれ１種類以上含むことを特徴とする重合体（Ａ）、ならびに感放射線性酸発生剤（Ｂ）を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、アンモニウム塩化合物であって、アニオンが、下記式（ｄ１−１）〜（ｄ１−３）のいずれかで表されるアニオンであることを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】高耐熱性を有するアクリル系共重合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】高耐熱性アクリル系共重合体は、下記式（１）：


［式中、ｘは１〜３であり、ｙは０〜３である］で示されるモノマーからなる繰り返し単位とメタクリル系モノマー誘導体からなる繰り返し単位とを有する。この高耐熱性アクリル系共重合体は、下記式（２）：


［式中、ｘは１〜３であり、ｙは０〜３である］で示される化合物とメタクリル系モノマーとを、過酸化物重合反応開始剤の存在下で、共重合することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】超薄膜のレジスト膜において、リソグラフィー特性が向上し、良好な形状の微細なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は少なくとも下記３成分の有機溶剤成分（Ｓ１）〜（Ｓ３）を含有し、かつ前記有機溶剤（Ｓ）中の有機溶剤成分（Ｓ１）〜（Ｓ３）の割合が、前記（Ｓ）成分を構成する全有機溶剤成分の合計に対して、それぞれ、５０〜９０質量％の範囲、５〜４０質量％の範囲、０．１〜１５質量％の範囲であることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有し、樹脂（Ａ）が、側鎖に、炭素数１〜１２のアルキレン基または脂環式アルキレン基で結合されたノルボルニルラクトン基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ−１）と、側鎖に、末端が水素原子、ヒドロキシル基またはアシル基であるメチレン基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ−２）と、酸解離性基を有する繰り返し単位（ａ−３）とを含む重合体である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】現像時、アルカリ現像液に対して均一に溶解するフォトレジスト用高分子化合物の製造方法、その方法により得られるフォトレジスト用高分子化合物、及びそれを含むフォトレジスト用組成物を提供する。
【解決手段】エチレン性二重結合を有する２種以上の重合性化合物を、ラジカル重合することにより半導体素子製造向けフォトレジスト用高分子化合物を製造する方法において、内部に静的攪拌器を内蔵した管状反応器を用い、有機溶媒中に前記２種以上の重合性化合物を含有する混合溶液を連続的に通して重合することを特徴とするフォトレジスト用高分子化合物の製造方法、その方法で得られるフォトレジスト用高分子化合物、並びにフォトレジスト用高分子化合物を含むフォトレジスト用組成物である。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分および添加剤として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、さらに、側鎖に、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基であるエステル基を有する炭素原子が第３級炭素原子である置換基を有する２価の脂肪族炭化水素基を有する（メタ）アクリレート単位を有する。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角及び前進接触角のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本樹脂組成物は、式（１）で表される繰り返し単位、及びフッ素原子を有する繰り返し単位を含有する樹脂（Ａ）と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含有し、フッ素原子を有する繰り返し単位を含有しない樹脂（Ｂ）と、酸発生剤（Ｃ）とを含む。
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【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分（Ｆ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（Ｉａ）で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を有し、前記光塩基発生剤成分（Ｆ）が下記一般式（ｆ１）で表される化合物からなる光塩基発生剤（Ｆ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】一段階の製造工程で製造可能な多分岐高分子の製造方法及び有機溶剤や水に可溶な新規な多分岐高分子を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｃ）を用い重合する工程を含む多分岐高分子の製造方法。
（Ａ）１分子中に２個以上の重合性二重結合を有するグリコール系エステル（ａ１）、又は、前記（ａ１）と１分子中に１個以上の重合性二重結合を有するビニル誘導体（ａ２）とを組み合わせた単量体混合物、のいずれかである重合性単量体、
（Ｂ）有機過酸化物ラジカル開始種又はアゾビス系化合物ラジカル開始種、
（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表される連鎖移動剤、
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【課題】レジストパターン形成において、優れたリソグラフィー特性を示し、ディフェクトを低減できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にオキシラン環を有する構成単位（ａ０）、前記構成単位（ａ０）に該当しない酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、およびラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ^１は、少なくとも１の水素原子がフッ素置換されている炭素数１〜１０のアルキル基であり；Ｒ^２は、置換基を有していてもよい炭化水素基であり；Ａ^＋はカチオンである。］。
［化１］
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【課題】液晶ディスプレイの薄膜トランジタ、液晶カラーフィルタの保護膜、スペーサー、その他の液晶表示装置用部材の微細加工用途等のいわゆる永久膜の作製等に好適な、硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】平均粒径１００ｎｍ以下の無機微粒子に有機結合剤を結合させた修飾無機微粒子を含む分散液を、粒子経１０μｍ以上のシリカゲル粒子と混合し、粒径１０μｍ以上のシリカゲル粒子を除去してなる、修飾無機微粒子（Ａ）を含む硬化性組成物。無機微粒子がコロイダルシリカであり、さらに、（Ｂ）重合性単量体および（Ｃ）光重合開始剤を含み、（Ｂ）重合性単量体が（メタ）アクリル酸エステルモノマーである。さらにこの硬化性組成物を硬化させた硬化物。 （もっと読む）

【課題】硬化性、地汚れ耐性等の印刷適性が優れた印刷を可能とし、印刷皮膜強度の優れた印刷物を提供し得る活性エネルギー線硬化型平版印刷インキの提供。
【解決手段】（ａ）樹脂、（ｂ）活性エネルギー線硬化性化合物および（ｃ）顔料を含有する活性エネルギー線硬化型平版印刷インキにおいて、
（ａ）樹脂が、樹脂酸にアクリル酸エステル化合物およびα，β−不飽和カルボン酸
または該無水物を付加反応させ、さらに、多価アルコールを反応させて合成したもの
であり、
（ａ）樹脂が、インキ全量の１０〜４０重量％含有され、
（ｂ）活性エネルギー線硬化性化合物が、インキ全量の３０〜７５重量％含有され、
および
（ｃ）顔料が、インキ全量の５〜４０重量％
含有されてなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型平版印刷インキ。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびベンゾジオキソールまたはその誘導体（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン硬化可能なレジスト材料、レジスト膜を硬化させる工程を含むパターン形成方法を提供することにより、ダブルパターニングプロセス等により高度な微細加工を可能にする。
【解決手段】一般式（１）で表されるナフタレン環を有する単量体、及びその単量体に由来する繰り返し単位を含有する高分子化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²はＣ１〜１０の二価の有機基。Ｒ³、Ｒ⁴はＨ、又はＣ１〜１０の一価の有機基。Ｒ²とＲ³又はＲ²とＲ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。Ｒ³とＲ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。Ｘは水酸基、ハロゲン原子、又はＣ１〜１０の一価の有機基。ｎは０〜７。） （もっと読む）

【課題】優れたイオン伝導性を有する含フッ素共重合体を提供し、電気化学的にも熱的にも安定であり、加工性に優れた固体電解質を提供する。
【解決手段】繰り返し単位（ａ−１）および繰り返し単位（ａ−２）を少なくとも含む含フッ素重合体。


式中、Ｒ¹はそれぞれ独立にパーフルオロアルキル基を表し、ＱおよびＷは重合性二重結合基含有基の二重結合が開裂して形成した繰り返し単位を表す。Ｍ⁺は、水素カチオン、金属イオンまたは有機カチオンを表す。 （もっと読む）

本発明は、アルキル基中に炭素原子数１〜１０を有し、そのアルキル基は二重結合又はヘテロ原子を有していないアルキル（メタ）アクリレート１種以上少なくとも３０質量％及びアルキル基中に少なくとも１個のアルデヒド基を有している（メタ）アクリレート１種以上０．１〜４０質量％を含有している、モノマー混合物に関する。更に本発明は、このモノマー混合物から得られるポリマー並びに前記のポリマーを含有している被覆剤に関する。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、一般式（ｂ１−１）で表される化合物を含む酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物。
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【課題】解像性能に優れ、かつ、ナノエッジラフネスの小さい化学増幅型レジストを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示される部分構造を有する感放射線性酸発生剤と、（Ｂ）樹脂とを含有する感放射線性樹脂組成物。


〔一般式（１）において、Ｒ^１は１価の炭化水素基等を示す。〕 （もっと読む）