【課題】レジスト組成物、特に液浸露光用レジスト組成物用として有用な重合体、該重合体の製造に用いるラジカル重合開始剤として有用な化合物、該化合物からなるラジカル重合開始剤、該重合体を含有するレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に下記一般式（ｉ−１）で表される基を有する重合体。下記一般式（Ｉ）で表される化合物。該化合物からなるラジカル重合開始剤。前記重合体を含有するレジスト組成物。式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基である。Ｒ^２は、当該式中の−Ｏ−Ｒ^２を、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基とする有機基である。
［化１］

【特許請求の範囲】
【請求項１】
主鎖の少なくとも一方の末端に下記一般式（ｉ−１）で表される基を有する重合体。
【化１】

［式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基であり；Ｒ^２は、当該式中の−Ｏ−Ｒ^２を、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基とする有機基である。］
【請求項２】
下記一般式（Ｉ）で表される化合物からなるラジカル重合開始剤を用いたラジカル重合により得られるラジカル重合体である請求項１に記載の重合体。
【化２】

［式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基であり；Ｒ^２は、当該式中の−Ｏ−Ｒ^２を、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基とする有機基である。］
【請求項３】
前記Ｒ^２が、電子吸引基を有する炭化水素基である請求項１または２に記載の重合体。
【請求項４】
前記Ｒ^２が、フッ素原子を有する炭化水素基である請求項１〜３のいずれか一項に記載の重合体。
【請求項５】
下記一般式（Ｉ）で表される化合物。
【化３】

［式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基であり；Ｒ^２は、当該式中の−Ｏ−Ｒ^２を、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基とする有機基である。］
【請求項６】
前記Ｒ^２が、電子吸引基を有する炭化水素基である請求項５に記載の化合物。
【請求項７】
前記Ｒ^２が、フッ素原子を有する炭化水素基である請求項５または６に記載の化合物。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれか一項に記載の化合物からなるラジカル重合開始剤。
【請求項９】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の重合体を含有するレジスト組成物。
【請求項１０】
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有する化学増幅型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、請求項１〜４のいずれか一項に記載の重合体からなる基材成分（Ａ１）を含有するレジスト組成物。
【請求項１１】
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ’）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ’）、および請求項１〜４のいずれか一項に記載の重合体からなる添加剤成分（Ｃ’）を含有するレジスト組成物。
【請求項１２】
前記重合体が、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する請求項９〜１１のいずれか一項に記載のレジスト組成物。
【請求項１３】
前記重合体が、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する請求項１２に記載のレジスト組成物。
【請求項１４】
前記重合体が、極性基含有脂肪族炭化水素基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する請求項１２または１３に記載のレジスト組成物。
【請求項１５】
前記重合体が、アルカリ現像液の作用により解離する塩基解離性基を有する構成単位を有する請求項９〜１４のいずれか一項に記載のレジスト組成物。
【請求項１６】
さらに、含窒素有機化合物成分（Ｄ）を含有する請求項９〜１５のいずれか一項に記載のレジスト組成物。
【請求項１７】
液浸露光用である請求項９〜１６のいずれか一項に記載のレジスト組成物。
【請求項１８】
支持体上に、請求項９〜１７のいずれか一項に記載のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。

【図１】

【公開番号】特開２０１０−３７５２８（Ｐ２０１０−３７５２８Ａ）
【公開日】平成２２年２月１８日（２０１０．２．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２１４２９８（Ｐ２００８−２１４２９８）
【出願日】平成２０年８月２２日（２００８．８．２２）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】