【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基を持つ繰り返し単位を有し、アルカリ現像液に可溶になる樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト膜形成用組成物を塗布し、プリベークしてレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜に高エネルギー線を照射し、露光後加熱し、露光部の樹脂の酸不安定基に脱離反応を行わせた後、アルカリ現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、ポジ型パターンを露光もしくは加熱して上記樹脂の酸不安定基を脱離させてアルカリ溶解性を向上させ、かつ該樹脂に架橋を形成させて、反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物を用いて反転用膜を形成する工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジ型レジストパターンにダメージを与えることなく、その間隙に反転用膜材料を埋め込むことができ、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 平坦性、耐熱性に特に優れ、耐溶媒性、耐酸性、耐アルカリ性等の耐薬品性、耐水性、ガラスなどの下地基板への密着性、透明性、耐傷性、塗布性、耐光性においても優れた硬化膜及びこの硬化膜を与える樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 特定の構成単位を有するポリマー、エポキシ樹脂、及びエポキシ硬化剤、さらに好ましくは溶媒を含む熱硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少なくとも１個の重合性二重結合を含む枝分かれポリマーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】一官能性ビニル系モノマー、０．３〜１００％ｗ／ｗの多官能性ビニル系モノマー、０．０００１〜５０％ｗ／ｗの連鎖移動剤を反応させ、８０〜９８％の転化率となる前に重合反応を停止させる（メタ）アクリレート官能化ポリマーの製造方法。また、ｉ）１分子当たり１個の重合性二重結合を有する一官能性モノマー、ｉｉ）１分子当たり少なくとも２個の重合性二重結合を有する多官能性モノマー０．３〜１００％ｗ／ｗ、ｉｉｉ）連鎖移動剤０．０００１〜５０％ｗ／ｗ、および、所望により、ｉｖ）ラジカル重合開始剤、の残基からなり、少なくとも１個の重合性二重結合を含む枝分かれポリマー。このポリマーは表面コーティングおよびインクの成分、成形用樹脂として、または硬化性コンパウンドにおいて有用である。 （もっと読む）

【課題】１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ性能、フォーカス余裕度が改良され、かつ良好な露光ラチチュードを有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の３級エステル構造を有する酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により特定構造のプロトンアクセプター性官能基を有する化合物を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト用樹脂等に応用した場合に有機溶媒への溶解性が良好で、基板への密着性が良く、更に高い耐エッチング性を発揮できるものであり、また、工業的見地からコストや入手の面で優位にある樹脂、更にはその原料である単量体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）


（式中、Ｒ^ａは水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ^１は飽和炭化水素６員環を含有する特定の基）で表されるフォトレジスト用単量体。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物用のモノマーとして有用な化合物およびその製造方法、前記製造方法において中間体として有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】連続的に製造することができる変性ポリオレフィン樹脂の製造方法を提供すること。
【解決手段】塊状のポリオレフィン樹脂（Ａ）と、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００重量部に対して、少なくとも１種の不飽和基（ａ）と少なくとも１種の極性基（ｂ）とを有する化合物（Ｂ）０．０１〜２０重量部と、有機過酸化物（Ｃ）０．００１〜１０重量部とを押出機（Ｉ）に供給する工程、および、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）と前記化合物（Ｂ）と前記有機過酸化物（Ｃ）とを溶融混練する工程とを含み、前記押出機（Ｉ）がコニカル型押出機、ならびに、単軸押出機および／または平行多軸押出機を備え、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）をコニカル型押出機に供給することを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】エネルギーロスが少なく、生産性に優れ、熱劣化が少ない変性ポリオレフィン樹脂の製造方法を提供すること。
【解決手段】以下の連続する工程からなることを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂の製造方法；（１）１〜４０重量％の揮発成分を含有するポリオレフィン樹脂から揮発成分を脱揮して、揮発成分量が０〜０．５重量％であるポリオレフィン樹脂（Ａ）を得る工程、ならびに、（２）該ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００重量部と、少なくとも１種の不飽和基（ｂ１）および少なくとも１種の極性基（ｂ２）を有する化合物（ｂ）０．０１〜２０重量部と、有機過酸化物（ｃ）０．００１〜２０重量部とを反応させて、変性ポリオレフィン樹脂（Ｂ）を製造する工程。 （もっと読む）

【課題】接着剤処方でワックス置換物、インク変性剤、油変性剤、粘度変性剤、繊維加工助剤、シーラント、コーキング剤などとして有用な非流動性超低分子量ポリエチレンポリマーを提供すること。
【解決手段】非流動性均一超低分子量エチレンポリマーであって、数平均分子量が１１０００以下であり、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが１．５−２．５であり、等しい密度で対応する高分子量物質により長いラメラ及びより大きい結晶性構造を有する非流動性均一超低分子量エチレンポリマー。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されるスルホニウム塩を持つ繰り返し単位を有する高分子化合物を添加してなるレジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²はフェニレン基、−Ｏ−Ｒ⁶−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ⁶−。Ｙは酸素原子又はＮＨ、Ｒ⁶はアルキレン基又はアルケニレン基、又はフェニレン基であり、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴はアルキル基であり、カルボニル基、エステル基又はエーテル基を含んでいてもよく、又はアリール基、アラルキル基又はチオフェニル基。Ｘ^-は少なくとも１個のフッ素原子を有するイミド酸アニオン又はメチド酸アニオン。）
【効果】本発明のポリマー型スルホニウム塩の酸発生剤を添加したレジスト材料は、特に解像性に優れ、高感度でラインエッジラフネスが小さいという特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】短い施工時間で、既存弾性舗装体表面の雨天時等のウェット状態でのすべり抵抗性を回復することのできる弾性舗装補修用舗装材料および弾性舗装の補修方法を提供する。
【解決手段】既設弾性舗装体上に敷設される舗装材料であって、光硬化材料を主成分とし、硬質骨材を含む弾性舗装補修用舗装材料である。光硬化材料は、好適には光重合性官能基を有する反応性ポリマー並びに／またはモノマーおよびオリゴマーと、光重合開始剤とからなる。既設弾性舗装体上に、上記弾性舗装補修用舗装材料を塗布し、硬化させる弾性舗装の補修方法である。硬化は、太陽光または紫外線の照射により行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】 特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式で示される繰り返し単位を含有する高分子化合物。


【効果】本発明の高分子化合物をベース樹脂としたレジスト材料は、電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。 （もっと読む）

【課題】画像部のインキ着肉性に優れ、良好な印刷物が得られ、且つ、連続的に製版処理した場合でも、現像液中における析出物（ヘドロ）の発生が抑制された感光性平版印刷版を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物、重合開始剤、及び、界面活性剤として特定の高分子化合物を含有する重合性感光層を有する感光性平版印刷版。 （もっと読む）

本発明の発見は、主たる重合性の基に加えて可逆的な光架橋性の基を含有する単量体を使用する。これらの材料の機械的な性質及びその光活性化された形状記憶効果の可逆性は、弾性率及び形状記憶効果における変化をもたらすための光照射を使用することの有効性を立証する。その好適な実施形態において、その反応混合物は、光反応性の基及び重合性の基を含む光反応性の単量体；より好ましくは、アクリラートに基づいたものである、単量体の混合物である、第二の単量体；多官能性の架橋剤、好ましくは１，６−ヘキサンジオールジアクリラート（ＨＤＯＤＡ）；開始剤、好ましくは遊離基開始剤；及び第五の、自由選択の、変性させる重合体である構成成分を含む。その第二の単量体、架橋剤、及び開始剤の混合物は、その反応性の単量体が、中へ組み込まれる基礎材料の重合体マトリックスを含む。その光反応性の単量体の重合性の基は、その光反応性の単量体が、その基礎材料の重合体マトリックスと重合することを許容する。

（もっと読む）

【課題】粘着性、柔軟性及び耐久性に優れ、偏光板やＤＶＤ等の光学基板の接着にも適用し得る粘着剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）（メタ）アクリロイルオキシ基を有し、重量平均分子量が１０００〜３００００、ガラス転移温度が０℃以下であるポリマー（ポリマー（Ａ））５〜９５質量部；及び（Ｂ）重量平均分子量が２０万〜２００万、ガラス転移温度が０℃以下であるポリマー（ポリマー（Ｂ））５〜９５質量部（但し、ポリマー（Ａ）とポリマー（Ｂ）との合計は１００質量部）を含有する粘着剤組成物及びこれを硬化させた粘着材を提供する。 （もっと読む）

【課題】 感度、絶縁性、耐化学性などの性能に優れているだけでなく、特に透過度および貯蔵安定性を顕著に向上させて、ＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜を形成することに適合した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明は感光性樹脂組成物に関するものであって、特にａ）ｉ）不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、ｉｉ）化学式（１）〜（８）からなる群から選択される１種以上のエポキシ基含有不飽和化合物、およびｉｉｉ）オレフィン系不飽和化合物を共重合させた後、未反応単量体を除去して得られたアクリル系共重合体；ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；およびｃ）溶媒を含む感光性樹脂組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】 微細パターンの転写性に優れ、かつ振動下での耐傷つき性に優れた導光板を提供すること。
【解決手段】
式（１）の構造を含む繰り返し単位が５０重量％以上であり、ガラス転移温度が９５〜１１５℃の範囲にありかつ重量平均分子量が５０，０００〜１２０，０００の範囲にある、脂環構造含有重合体からなる導光板。
【化１】


〔式（１）中、Ｒ^１からＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、シリル基、および極性基で置換された鎖状炭化水素基であり、ｎは１〜４の整数である。〕 （もっと読む）

【課題】 有機電子写真感光体において、耐摩耗性、耐傷性が高く、且つ電気的特性が良好であるほか、特に感光層にクラックや膜剥がれが生じにくく、高耐久性、高性能、低価格な電子写真感光体等を提供する。
【解決手段】 電子写真感光体において、該架橋型電荷輸送層が少なくとも電荷輸送性構造を有しない３官能以上のラジカル重合性モノマーと下記一般式（１）で表される電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物を硬化することにより形成されることを特徴とする。
【化1】
（もっと読む）

【課題】官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、かつ、Ｔｇの低下をもたらさない含フッ素ポリマー。
【解決手段】式（１）で表される含フッ素ジエンを環化重合してなるモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。ＣＦ₂＝ＣＦＣＨ₂−ＣＨＱ−Ｒ²・・・（１）ただし、式（１）中Ｑは（ＣＨ₂）_nＣ（ＣＦ₃）₂ＯＲ¹（ｎは０または１であり、Ｒ¹は水素、炭素数２０以下のアルキル基、炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基またはＣＨ₂Ｒ³（Ｒ³は炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基）であり、Ｒ²は環状不飽和炭化水素基または少なくとも１つの水素原子が環状不飽和炭化水素に置換されたアルキル基を表す。Ｒ²において、環状不飽和炭化水素基中の炭素原子の一部はヘテロ原子やカルボニル基に置換されていてもよく、また環状不飽和炭化水素基中の水素原子の一部はフッ素原子、アルキル基、フルオロアルキル基に置換されていてもよい。 （もっと読む）