【課題】フォトリソグラフィーによるパターン加工に対応でき、高反射率の樹脂組成物が得られるペースト組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、炭酸カルシウム粒子、炭酸バリウム粒子、硫酸カルシウム粒子あるいは硫酸バリウム粒子、（Ｂ）シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、またはフェニル基のいずれかで表される基を持ち、その環にＲ^１、及び−ＣＯ−Ｏ−Ｒ^２を持つ構造式の化合物、および（Ｃ）有機溶媒を含むペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス、及びパターン倒れが改善されたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）オオニシパラメータが５．０以下のラクトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用によりカルボン酸を生成する一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。（式中の符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れが発生し難く、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）分子量２０００以下のオキセタン構造を有する低分子化合物を有する化合物、（Ｃ）光カチオン重合開始剤、を含有することを特徴とする、ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩を含有する高分子化合物。


【効果】上記繰り返し単位を含有する高分子化合物を感放射線レジスト材料のベース樹脂として用いた場合、高い解像性能を発揮し、パターンのＬＥＲが小さく仕上がる。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性を有する重合体、及び該重合体を形成するために用いることができる新規なフッ素原子を含有する化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される含フッ素化合物、及び当該化合物から導かれる構成単位を有する重合体。Ｒ¹〜Ｒ³は、水素原子、フッ素原子又はフッ素原子若しくは水酸基で置換されてもよいC_1-13脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ⁴は、単結合又はフッ素原子で置換されてもよいC_1-10アルキレン基を表す。Ｒ⁵は、単結合又はフッ素原子で置換されてもよいC_1-15脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁶は、フッ素原子で置換されてもよい直鎖状C_1-10アルキレン基を表す。Ｒ⁷は、炭素原子上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよいか若しくは炭素原子が酸素原子で置換されてもよいC_1-24脂肪族炭化水素基又は水素原子を表す。Ｒ^１Ｒ^２Ｃ＝Ｃ（Ｒ^３）Ｒ^４ＣＯＯＲ^６ＯＣＯＲ^５ＣＯＯＲ^７・・・（Ｉ） （もっと読む）

【課題】 耐熱性、無色透明性に優れ、揮発成分の含有量が抑制された熱安定性に優れる熱可塑性共重合体を、経済的に優位に製造する方法を提供する。
【解決手段】（ｉ）不飽和カルボン酸アルキルエステル単位および（ｉｉ）不飽和カルボン酸単位を含む共重合体（Ａ）を製造し、分子内環化反応を行うことにより、（ｉｉｉ）グルタルイミド単位および（ｉ）不飽和カルボン酸アルキルエステル単位を含む熱可塑性共重合体（Ｂ）を製造するに際し、特定量の連鎖移動剤とラジカル重合開始剤を含有してなる原料混合液を連続重合し、重合体重合溶液（ａ）を製造する工程（重合工程）と、該重合溶液（ａ）連続的に未反応単量体を分離除去する工程（脱揮工程）、および前記脱揮工程で得られた共重合体（Ａ）を、加熱処理する工程（環化工程）を含む熱可塑性共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基を持つ繰り返し単位を有し、アルカリ現像液に可溶になる樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト膜形成用組成物を塗布し、プリベークしてレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜に高エネルギー線を照射し、露光後加熱し、露光部の樹脂の酸不安定基に脱離反応を行わせた後、アルカリ現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、ポジ型パターンを露光もしくは加熱して上記樹脂の酸不安定基を脱離させてアルカリ溶解性を向上させ、かつ該樹脂に架橋を形成させて、反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物を用いて反転用膜を形成する工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジ型レジストパターンにダメージを与えることなく、その間隙に反転用膜材料を埋め込むことができ、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を使用するミクロフォトファブリケ−ションにあって、十分な感度及び解像力を有し、露光した後の後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の構造の繰り返し構造単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により、炭素数２以上のフッ素置換された直鎖状アルキル基を有するスルホン酸を発生する特定のスルホニウム塩化合物、及びフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高温度域で安定発泡、高発泡倍率を有し、得られた発泡体は高弾性体として振る舞い、柔らかいマトリックス樹脂や厚いマトリックス樹脂中で安定な熱可塑性の弾性体を提供することができる熱膨張性マイクロカプセルの製造方法を提供することである。
【解決手段】熱膨張性微小球の製造方法は、外殻および該外殻内に封入された発泡剤からなり、最大膨張温度が１９０℃以上である熱膨張性マイクロカプセルの製造方法であって、ニトリル系単量体（Ｉ）４０〜９０重量％、分子内に１つの不飽和二重結合とカルボキシル基を有する単量体（ＩＩ）７〜５３．８１重量％を含有し、且つ単量体（ＩＩ）の有するカルボキシル基と反応する官能基を持つ単量体を実質的に含有しない単量体混合物を水系分散媒体中で発泡剤の存在下で重合する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ラジカル重合開始剤と共に光硬化性樹脂組成物を為すことができる新規なジ（メタ）アクリレートを提供すること。
【解決手段】式（１）


（式中、Ａはジグリシジルエーテル化合物の残基を表し、並びに、Ｂは酸無水物の残基を表す。）で表されるジ（メタ）アクリレート、該ジ（メタ）アクリレートを含有する光硬化性樹脂組成物及びそれから得られる硬化物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少なくとも１個の重合性二重結合を含む枝分かれポリマーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】一官能性ビニル系モノマー、０．３〜１００％ｗ／ｗの多官能性ビニル系モノマー、０．０００１〜５０％ｗ／ｗの連鎖移動剤を反応させ、８０〜９８％の転化率となる前に重合反応を停止させる（メタ）アクリレート官能化ポリマーの製造方法。また、ｉ）１分子当たり１個の重合性二重結合を有する一官能性モノマー、ｉｉ）１分子当たり少なくとも２個の重合性二重結合を有する多官能性モノマー０．３〜１００％ｗ／ｗ、ｉｉｉ）連鎖移動剤０．０００１〜５０％ｗ／ｗ、および、所望により、ｉｖ）ラジカル重合開始剤、の残基からなり、少なくとも１個の重合性二重結合を含む枝分かれポリマー。このポリマーは表面コーティングおよびインクの成分、成形用樹脂として、または硬化性コンパウンドにおいて有用である。 （もっと読む）

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ性能、フォーカス余裕度が改良され、かつ良好な露光ラチチュードを有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の３級エステル構造を有する酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により特定構造のプロトンアクセプター性官能基を有する化合物を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される構造を有し２４８ｎｍの波長に吸収を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高濃度の着色材料を含有し画素を形成する場合にも基板上に現像残渣が生じたり画素部に表面不良などが発生せず、感度に優れた高品質のカラーフィルタを提供する。
【解決手段】結合剤樹脂Ａ、光重合性化合物Ｂ、光重合開始剤Ｃ、着色材料Ｄ及び溶剤Ｅを含有する着色感光性樹脂組成物であって、前記結合剤樹脂Ａは、化合物Ａ１、Ａ２及びＡ３を共重合して得られる共重合体。化合物Ａ１：以下に示す一般式を備える化合物。


化合物Ａ２：化合物Ａ１及び化合物Ａ３と共重合の可能な不飽和結合を有する化合物、化合物Ａ３：不飽和カルボン酸。 （もっと読む）

【課題】レジスト用樹脂等に応用した場合に有機溶媒への溶解性が良好で、基板への密着性が良く、更に高い耐エッチング性を発揮できるものであり、また、工業的見地からコストや入手の面で優位にある樹脂、更にはその原料である単量体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）


（式中、Ｒ^ａは水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ^１は飽和炭化水素６員環を含有する特定の基）で表されるフォトレジスト用単量体。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物用のモノマーとして有用な化合物およびその製造方法、前記製造方法において中間体として有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】連続的に製造することができる変性ポリオレフィン樹脂の製造方法を提供すること。
【解決手段】塊状のポリオレフィン樹脂（Ａ）と、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００重量部に対して、少なくとも１種の不飽和基（ａ）と少なくとも１種の極性基（ｂ）とを有する化合物（Ｂ）０．０１〜２０重量部と、有機過酸化物（Ｃ）０．００１〜１０重量部とを押出機（Ｉ）に供給する工程、および、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）と前記化合物（Ｂ）と前記有機過酸化物（Ｃ）とを溶融混練する工程とを含み、前記押出機（Ｉ）がコニカル型押出機、ならびに、単軸押出機および／または平行多軸押出機を備え、前記ポリオレフィン樹脂（Ａ）をコニカル型押出機に供給することを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】エネルギーロスが少なく、生産性に優れ、熱劣化が少ない変性ポリオレフィン樹脂の製造方法を提供すること。
【解決手段】以下の連続する工程からなることを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂の製造方法；（１）１〜４０重量％の揮発成分を含有するポリオレフィン樹脂から揮発成分を脱揮して、揮発成分量が０〜０．５重量％であるポリオレフィン樹脂（Ａ）を得る工程、ならびに、（２）該ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００重量部と、少なくとも１種の不飽和基（ｂ１）および少なくとも１種の極性基（ｂ２）を有する化合物（ｂ）０．０１〜２０重量部と、有機過酸化物（ｃ）０．００１〜２０重量部とを反応させて、変性ポリオレフィン樹脂（Ｂ）を製造する工程。 （もっと読む）

【課題】溶媒溶解性が良好で、配向制御能や光学特性、光硬化性に優れる重合性組成物を提供すること。
【解決手段】重合性基としてハロゲン原子で置換されてもよい（メタ）アクリロイル基を有する重合性液晶化合物と、ラジカル光重合開始剤としてカルバゾール骨格及びアシルオキシムエステルを有する化合物とを含有することを特徴とする重合性組成物。 （もっと読む）