【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と酸不安定基を有する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤と、塩基発生剤とを含む第１ポジ型レジスト材料を基板上に塗布し、第１レジスト膜を形成する工程、前記第1レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して塩基発生剤よりアミン化合物を発生させて酸に対して不活性化し、前記基板上の前記第1レジストパターン上に該パターンを溶解させないアルコール、又はアルコール及びエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して、第2レジスト膜を形成する工程、前記第2レジスト膜を露光、PEB後、現像して第2レジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】露光により発生した酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成でき、露光量が少ない場合であっても基板上に多種類の高分子を高密度、かつ安定して正確に形成できるバイオチップの製造に適した樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合体と、（Ｂ）光の作用によりスルホニルアニオンが発生する感放射線性酸発生剤であって、該スルホニルアニオンが光学純度１０％ｅｅ以上のビシクロ化合物である感放射線性酸発生剤とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】（１）露光光に対して高感度で、かつ低温焼成が可能な感放射線性樹脂組成物であり、しかも（２）薄膜であっても低い誘電正接および高い誘電率を有し、かつ解像度および電気絶縁性に優れた誘電体を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有する重合体（但し、カルボキシル基含有（メタ）アクリレート由来の構成単位を有する重合体を除く。）と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、（Ｃ）架橋剤と、（Ｅ）強誘電性無機粒子と、（Ｆ）カルボキシル基含有（メタ）アクリレート由来の構成単位を有する重合体とを含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】十分な透過率を有する塗膜を形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く）及び感光物質（Ｃ）を含有し、感光性樹脂組成物に対する水分量が、０．１５〜０．４５質量％である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】環境問題に配慮したアルカリ現像性の感光性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにこれらにより硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（Ａ）回収されたポリエステルを原料とする樹脂、及び（Ｂ）光重合開始剤を含有する。好適には、上記樹脂（Ａ）は、ポリオール、カルボキシル基含有樹脂、又はエチレン性不飽和基を有する感光性樹脂であり、特に回収されたポリエステル（ａ）を１分子中に２個以上のポリオール（ｂ）で解重合させて得られるポリオール、又は解重合の前、同時もしくは後に多塩基酸もしくはその無水物（ｃ）を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂等であり、さらに上記樹脂（Ａ）以外のカルボキシル基含有感光性樹脂（Ｃ）を含むことが好ましい。好ましくは、感光性樹脂組成物は、さらに熱硬化性成分（Ｄ）を含有し、あるいはさらに着色剤（Ｅ）を含有する。 （もっと読む）

【課題】簡略プロセスによりパターニングされた透明導電膜を形成可能であり、高耐溶剤性、高耐水性、高耐アルカリ性、高耐熱性、高透明性、及び下地との密着性等に優れ、かつ高い導電性をも兼ね備える感光性組成物、並びに透明導電膜、表示素子、及び集積型太陽電池の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種と他の不飽和結合を有するモノマーとを共重合してなるランダム共重合体、感光性化合物、及びナノワイヤー構造体を含有する感光性組成物である。


ただし、前記一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ^２は、炭素数１〜５のアルキル基であり、ｎは、０〜５の整数である。 （もっと読む）

【課題】初期接着強度、湿気硬化後の接着強度、糸引き等に問題がない反応性ホットメルト接着剤組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を有するビニル系モノマー及びエポキシ基を有するビニル系モノマーを含むモノマー組成物を重合して得られた、カルボキシル基とエポキシ基の当量比が１／１００〜１００／１であるポリマー（Ａ）１〜５０質量部に、ポリイソシアネート（Ｂ）とポリオール（Ｃ）を、イソシアネート基がポリオール（Ｃ）の水酸基１モルに対して１．１〜１０モルになるように、合計９９〜５０質量部加え、加熱混合する。ここで、（Ａ）〜（Ｃ）の合計は１００質量部である。 （もっと読む）

【課題】水溶液による現像が可能で、且つ、めっき触媒又はその前駆体に対する吸着性に優れた被めっき層を形成し得る被めっき層形成用組成物を提供すること。また、基板との密着性に優れた金属パターンを、水溶液による現像を用いて簡易に形成しうる金属パターン材料の作製方法、及び、被めっき組成物に有用な新規ポリマーを提供する。
【解決手段】めっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する非解離性官能基、ラジカル重合性基、及びイオン性極性基を有するポリマーを含有する被めっき層形成用組成物、及び、これを用いた金属パターン材料の作製方法。 （もっと読む）

【課題】高屈折率・低アッベ数のオレフィン共重合体およびその製造方法、この共重合体からなる光学部品の提供。
【解決手段】炭素原子数２〜３０のα−オレフィン単位と、下記一般式（Ｉ）で表される環状オレフィン単位とからなる、α−オレフィン・環状オレフィン共重合体。


（ｘは０または１以上の整数。Ｒ⁸¹〜Ｒ⁸⁸は水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれ、Ｒ⁹¹〜Ｒ⁹⁴は水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれ、隣接する２つの基は互いに結合し単環または複環の芳香族環を形成していてもよい） （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネスを有し、かつパターン倒れが発生しないパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤（Ａ）と樹脂（Ｂ）とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂（Ｂ）が、少なくとも（ｂ１）酸の作用によりカルボキシル基を生じてアルカリ現像液に可溶となる構造単位、（ｂ２）−ＯＸ^ａ基（Ｘ^ａは、酸の作用により脱離し得る基を表す。）を少なくとも２つ有するアダマンチル基を含有する構造単位、及び（ｂ３）ラクトン環を有するモノマーから導かれる構造単位を含んでなる化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】式(1)または(2)の構成単位と環構造を有しながら、異物の含有量が少ないアクリル系重合体を提供する。
【解決手段】式(1)または(2)の構成単位を有し、主鎖に環構造を有し、Tgが110℃以上であり、濃度15重量％のクロロホルム溶液としたときに、測定光透過距離が1cmの測定セルに収容、測定した溶液の濁度が2％以下のアクリル系重合体とする。R¹-R⁴は水素または有機残基、R⁵はO¹に結合する炭素が2または3級の有機残基、Arはアリール基。


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【課題】本発明は、ゴム成分と充填材であるシリカとの相互作用に優れた変性共役ジエン系重合体及び特定の構造を有するシランカップリング剤を含むことでシリカのゴム成分中への分散を改良し、低発熱性及び耐摩耗性が改良されたゴム組成物をトレッドに用いた上記性能を有する優れたタイヤを提供すること。
【解決手段】（Ａ）求核反応性を有する有機金属活性末端をもつ共役ジエン系重合体の該活性末端に、下記一般式（１）


で表される変性剤を反応させて得られた、変性共役ジエン系重合体（Ａ）を１０質量部以上含むゴム成分と、該ゴム成分１００質量部に対して、（Ｂ）シリカ２０〜１５０質量部を含み、かつ（Ｃ）特定な構造を有するシランカップリング剤の少なくとも一種を、前記（Ｂ）成分のシリカに対して１〜２５質量％の割合で含むことを特徴とするゴム組成物である。 （もっと読む）

【課題】配向処理した支持基板に塗工することにより、均一なホメオトロピック配向が形成可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】トリプチセン−１，４−ジイルを含む下式（１−１）、（２−１）で代表される化合物、硫黄を含む化合物、ＣＮを含む化合物および縮合環を含む化合物からなる重合性化合物の混合物とアミン系シランカップリング剤とを含有する組成物であって、これを支持基板上に塗布することによってホメオトロピック配向の重合性液晶層を形成することができる重合性液晶組成物。


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【課題】着色材料を含有しても、高感度であり、硬度も高い着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂（Ａ）、
光重合性化合物（Ｂ）、
光重合開始剤（Ｃ）、
着色材料（Ｄ）および
溶剤（Ｅ）を含有する着色感光性樹脂組成物において、
バインダー樹脂（Ａ）が、下記（Ａ１）〜（Ａ３）を共重合させて得られる共重合体に、さらに（Ａ４）を反応させて得られる不飽和基含有樹脂であり、
かつ光重合開始剤（Ｃ）が、オキシム化合物を含む光重合開始剤であることを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
（Ａ１）；一分子中にトリシクロデカン骨格およびトリシクロデセン骨格からなる群から選ばれる少なくとも１種の骨格と、不飽和結合とを有する化合物
（Ａ２）；（Ａ１）および（Ａ３）と共重合可能な不飽和結合を有する化合物
（Ａ３）；不飽和カルボン酸
（Ａ４）；一分子中に不飽和結合とエポキシ基とを有する化合物 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れ、屈折率が高く光学特性に優れた樹脂を提供すること。
【解決手段】縮環構造骨格を有する特定のアルコール化合物、縮環構造含有（メタ）アクリレート樹脂、縮環構造含有ポリエステル樹脂、および、縮環構造含有ポリウレタン樹脂が提供される。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト用重合体およびこれを含む化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】化学式（１）において、Ｘはビニルエーテル誘導体またはオレフィン誘導体であり、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、およびＲ₄は、それぞれ、水素原子、エーテル基、エステル基、カルボニル基、アセタール基、エポキシ基、ニトリル基、およびアルデヒド基のうちの少なくとも１つの官能基を含む炭素数１〜３０のアルキル基であり、ｌ、ｍ、ｎ、ｏ、およびｐはそれぞれの反復単位を示す。なお、ｌは０．０５〜０．５の実数であり、ｍおよびｎはそれぞれ０．１〜０．７の実数であり、ｏおよびｐはそれぞれ０〜０．７の実数であり、ｌ、ｍ、ｎ、ｏ、およびｐの合計は１である。
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【課題】 ビニル脂環式炭化水素重合体を含有する反応液を加熱して揮発性成分を蒸発除去させる工程を含むビニル脂環式炭化水素重合体の製造方法において、得られる重合体の残留揮発性成分量を極めて少なくでき、しかも分子量低下を少なくできる。
【解決手段】 ビニル化合物を含む単量体を重合し、必要に応じて水素添加することにより得られるビニル脂環式炭化水素重合体を含有する反応液に、前記ビニル化合物を含む単量体１００質量部に対して、下記条件を満たす酸化防止剤０．１〜２質量部を添加した後、加熱して揮発性成分を蒸発除去させて重合体を回収するビニル脂環式炭化水素重合体の製造方法。
（１）前記酸化防止剤は、フェノール系部分構造とリン酸系部分構造とを有する。
（２）フェノール系部分構造／リン酸系部分構造（モル比）が、９０／１０〜１０／９０である。
（３）全酸化防止剤中、分子量７００以上の酸化防止剤の含有割合が１０モル％以上である。 （もっと読む）

【課題】貯蔵安定性や顔料分散性に優れた含フッ素共重合体およびこれを用いた塗料組成物を提供する。
【解決手段】クロロトリフルオロエチレン（ａ１）と、クロロトリフルオロエチレン（ａ１）と共重合可能な他の単量体（ａ２）とからなる単量体組成物を重合させて、他の単量体（ａ２）に含まれるＣＦ_２＝ＣＣｌＨに基づく単位が全単位に対して０．０４モル％以下である含フッ素共重合体を得ることを特徴とする含フッ素共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】含フッ素重合体を含有していてもアルカリ現像できる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を構成モノマーとする重合体（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有する感光性組成物（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子、フッ素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁴は単結合又はアルキレン基を示す。Ｒ⁵は単結合又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁶は直鎖状アルキレン基を示す。Ｒ⁷は水素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。但しＲ¹〜Ｒ⁷のいずれか一つは、フッ素原子又はフッ素原子で置換されている基である。）。
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【課題】フォトリソグラフィーによるパターン加工に対応でき、高反射率の樹脂組成物が得られるペースト組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、炭酸カルシウム粒子、炭酸バリウム粒子、硫酸カルシウム粒子あるいは硫酸バリウム粒子、（Ｂ）シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、またはフェニル基のいずれかで表される基を持ち、その環にＲ^１、及び−ＣＯ−Ｏ−Ｒ^２を持つ構造式の化合物、および（Ｃ）有機溶媒を含むペースト組成物。 （もっと読む）