【課題】本発明の目的は、低コストで得られ、常温で流動性を有し硬化可能な含フッ素共重合体及びその製造方法、並びに、加工性が良好で現場施工可能な硬化用組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、常温で流動性を有する硬化可能な含フッ素共重合体であって、上記含フッ素共重合体は、トリフルオロビニル基含有単量体から得られ、数平均分子量が５００〜２００００であり、主鎖の両末端に硬化性部位を有するものであり、上記トリフルオロビニル基含有単量体は、下記一般式（ＩＩＩ）
ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒ^２−Ｙ^１ （ＩＩＩ）
で表されるトリフルオロビニル基含有鎖状化合物であり、上記硬化性部位は、カルボキシル基、エステル結合、シアノ基、ヒドロキシル基、不飽和基及び／又は加水分解性シリル基であることを特徴とする含フッ素共重合体である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、加工性が良好で現場施工可能な硬化用組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、含フッ素共重合体、１分子中に２個以上のＳｉ−Ｈ基を有する化合物、及び、ヒドロシリル化反応触媒を含む含フッ素共重合体硬化用組成物であって、含フッ素共重合体は、常温で流動性を有する硬化可能なものであり、トリフルオロビニル基含有単量体から得られるものであり、数平均分子量が５００〜２００００であり、主鎖の両末端に不飽和基を有するものであり、トリフルオロビニル基含有単量体は、下記一般式（ＩＩＩ）
ＣＦ_２＝ＣＦ−Ｒ^２−Ｙ^１ （ＩＩＩ）
で表されるトリフルオロビニル基含有鎖状化合物であることを特徴とする含フッ素共重合体硬化用組成物である。 （もっと読む）

【課題】 強度が高く、空気乾燥性に優れる硬化物が得られるラジカル硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 １分子中に、（メタ）アクリロイル基及びアルケニルエーテル基、ジシクロペンタジエニル基等の空気乾燥性を有するラジカル重合性不飽和基をそれぞれ１個以上有するアルキルテトラヒドロフタル酸エステル（Ａ）と、スチレン、ビニルトルエン等の、前記アルキルテトラヒドロフタル酸エステル（Ａ）以外のラジカル重合性不飽和基を有する化合物（Ｂ）とを含むことを特徴とするラジカル硬化性樹脂組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】熱硬化時の反応性及び熱硬化後の塗膜物性、特に、外観、初期光沢、耐水性、耐溶剤性に優れ、かつ貯蔵安定性が極めて良好な粒状ビニル系重合体及びその重合体を用いた熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一級又は二級のメルカプト化合物（ｄ）の存在下で、カルボキシル基含有ビニル系単量体（ａ）及びエポキシ基含有ビニル系単量体（ｂ）を含むビニル系単量体混合物を懸濁重合して得られる粒状ビニル系重合体；及び、この粒状ビニル系重合体を含有する熱硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ等に用いられる硬化性組成物であって、外部圧力を受けたときの変形量が大きく（即ち、基板作成時の圧着力不均一を吸収することができ）、高圧力下でも復元率が著しく低下しない（即ち、復元率の圧力依存性が少ない）硬化物を形成しうる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】微小硬度計による負荷−除荷試験において、下記指標式（１）及び（２）を満たす硬化物を形成しうる硬化性組成物。
｜Ｈ₁−Ｈ₂｜／｜Ｐ₁−Ｐ₂｜≧０．３５ （１）
｜Ｒ₁−Ｒ₂｜／｜Ｐ₁−Ｐ₂｜≦１５ （２）
（式（１）中、Ｈ₁、Ｈ₂はそれぞれ上断面積が４０±５μｍ²、１５０±５μｍ²のスペーサーの総変形量（μｍ）を示す。式（１）（２）中、Ｐ₁、Ｐ₂はそれぞれ上断面積が４０±５μｍ²、１５０±５μｍ²のスペーサーにかかる圧力（ｍＮ／μｍ²）を示す。式（２）中、Ｒ₁、Ｒ₂はそれぞれ上断面積が４０±５μｍ²、１５０±５μｍ²のスペーサーの弾性復元率（％）を示す。） （もっと読む）

【課題】 機械的強度及び耐熱性に優れ、均一でムラのない光学異方体を提供し、この光学異方体を得るために有用な、重合性化合物及び室温付近で液晶相を示す重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨格を部分構造として有する環状アルコール、フェノール又は芳香族ヒドロキシ化合物の、アクリル酸又はメタクリル酸エステルである単官能アクリレート又は単官能メタクリレートを含有し、液晶相を示すことを特徴とする重合性液晶組成物、及びこれを重合してなる光学異方体を提供する。本願発明の重合性液晶組成物は、室温付近で液晶状態を示すので、液晶状態における光重合の際に熱重合が進行する恐れがなく、不均一なムラがなく、機械的強度と耐熱性に優れる光学異方体が得られる。従って、高品質な光学異方体、特に液晶表示装置の位相差板、配向膜、偏光板の材料として有用である。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、露光ラチィチュード、ＰＥＢ温度依存性改良、プロファイル改良、スカム低減について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される環構造を主鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
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【課題】 超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】 特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】画像部のインキ着肉性に優れ、良好な印刷物が得られ、且つ、連続的に製版処理した場合でも、現像液中における析出物（ヘドロ）の発生が抑制された感光性平版印刷版を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物、重合開始剤、及び、界面活性剤として特定の高分子化合物を含有する重合性感光層を有する感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】熱硬化時の反応性及び熱硬化後の塗膜物性、特に硬度と耐溶剤性に優れ、かつ貯蔵安定性が極めて良好な粒状ビニル系重合体及び熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】カルボキシル基含有ビニル系単量体（ａ）及びエポキシ基含有ビニル系単量体（ｂ）を含むビニル系単量体混合物を共重合して得られるビニル系重合体であって、該重合体が懸濁重合法によって製造されることを特徴とする粒状ビニル系重合体；及び、この粒状ビニル系重合体を用いた熱硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた防汚性能と可撓性のある防汚材料によって、種々の曲面の被着体にも密着するセルフクリーニングシートやフィルムを提供する。
【解決手段】一般式（１）ＣＨ_２＝Ｃ（−Ｇ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（−Ｊ）−Ｑ （１）（式中、Ｇは水素原子またはメチル基を表し、Ｊ及びＱは独立して、水素原子、メチル基、−ＣＨ_２ＯＨ、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、または-ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＨを表す。但し、ＪとＱの組み合わせが同時に、水素原子と水素原子、水素原子とメチル基、メチル基とメチル基となる場合を除く。）で表される化合物（Ｉ）、分子内に少なくとも１個の水酸基と２個の（メタ）アクリロイロオキシ基を有する化合物（ＩＩ）、およびジ（メタ）アクリレート化合物（ＩＩＩ）を含む組成物を共重合して得られる共重合体からなる共重合体およびその防汚材料の用途。 （もっと読む）

コーティング組成物は、ビニルまたはアクリルポリマー中に分散された少なくとも１種の材料を含有し、その際、ビニルまたはアクリルポリマーは、（ａ）イオン化可能な官能基または活性の水素官能基または分散された材料との共有結合を形成する官能基を有する、１種またはそれ以上のアンカー基モノマー単位（ａ）、その際、イオン化可能な官能基は、カルボニル炭素が最も近いエチレン性不飽和炭素と少なくとも４個の原子により分離されているカルボン酸基以外であり、かつ該アンカー基モノマー単位（ａ）は、ポリオキシアルキレン基を有するもの以外であり；（ｂ）カルボニル炭素が最も近いエチレン性不飽和炭素と少なくとも４個の原子によって分離されているカルボン酸基、ポリオキシアルキレン基、γ−ヒドロキシカルバメートまたはβ−ヒドロキシカルバメート基およびこれらの組合せ物を有する、１種またはそれ以上の安定化剤モノマー単位（ｂ）約５質量％〜約４５質量％；および（ｃ）約５０質量％までの芳香族モノマー単位、を含有する。 （もっと読む）

【課題】 微細パターンの転写性に優れ、かつ振動下での耐傷つき性に優れた導光板を提供すること。
【解決手段】
式（１）の構造を含む繰り返し単位が５０重量％以上であり、ガラス転移温度が９５〜１１５℃の範囲にありかつ重量平均分子量が５０，０００〜１２０，０００の範囲にある、脂環構造含有重合体からなる導光板。
【化１】


〔式（１）中、Ｒ^１からＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、シリル基、および極性基で置換された鎖状炭化水素基であり、ｎは１〜４の整数である。〕 （もっと読む）

【課題】 他のモノマーとの重合性に優れ、通常の重合手段で容易に合成可能なスチレン誘導体と、このスチレン誘導体を用いた加熱前はアルカリに可溶で、加熱後は優れた耐アルカリ性を示すポリマー、及びその製造方法の提供。並びに、このポリマーを用いた、現像前はアルカリ可溶性で現像性、保存安定性に優れ、現像後に耐アルカリ性、絶縁性に優れるパターン形成材料及び高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】 下記一般式（１）及び下記一般式（２）のいずれかで表されるスチレン誘導体を得る。このスチレン誘導体によりポリマーを合成し、このポリマーによりパターン形成材料を形成するとともに、このパターン形成材料により永久パターンを形成する。
【化５８】


【化５９】
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【課題】官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、かつ、Ｔｇの低下をもたらさない含フッ素ポリマー。
【解決手段】式（１）で表される含フッ素ジエンを環化重合してなるモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。ＣＦ₂＝ＣＦＣＨ₂−ＣＨＱ−Ｒ²・・・（１）ただし、式（１）中Ｑは（ＣＨ₂）_nＣ（ＣＦ₃）₂ＯＲ¹（ｎは０または１であり、Ｒ¹は水素、炭素数２０以下のアルキル基、炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基またはＣＨ₂Ｒ³（Ｒ³は炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基）であり、Ｒ²は環状不飽和炭化水素基または少なくとも１つの水素原子が環状不飽和炭化水素に置換されたアルキル基を表す。Ｒ²において、環状不飽和炭化水素基中の炭素原子の一部はヘテロ原子やカルボニル基に置換されていてもよく、また環状不飽和炭化水素基中の水素原子の一部はフッ素原子、アルキル基、フルオロアルキル基に置換されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】 解像性やレジストパターン形状に優れるレジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。また、有機溶剤に対する溶解性に優れ、ディフェクトリスクを低減できるレジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を含有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、アルキル基を有さない単環または多環式のラクトン残基を含有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）と、下記一般式（３）で表される構成単位（ａ３）とを含有することを特徴とするレジスト組成物用重合体。
【化１】
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アルコキシアルキル（メタ）アクリレート単量体単位７０.１〜９９．８重量％、メタクリロニトリル単量体単位０．１〜９．９重量％及びブテンジオン酸モノエステル単量体単位０．１〜２０重量％とから成るアクリルゴム及びこれに架橋剤を含有してなる架橋性アクリルゴム組成物。この発明によると、スコーチの安定性に優れる架橋性アクリルゴム組成物、及び該架橋性アクリルゴム組成物を架橋して得られる、耐熱性、耐寒性及び耐燃料油性に優れるアクリルゴム架橋物を提供することができる。 （もっと読む）

少なくとも１種の芳香族モノマー及び少なくとも１種のアクリレートモノマーの反復単位を含む、残留モノモノマー濃度が低い、粘着付与樹脂が提供される。本発明の他の実施態様において、粘着付与樹脂は、それを含む接着剤組成物の湿気輸送速度を著しくは低下させず、前記粘着付与樹脂を含む接着剤組成物の曇り性を著しくは増加させず且つ皮膚感作性を著しくは示さない。この粘着付与樹脂の製造方法も提供される。その方法は、粘着付与樹脂生成物流と少なくとも１種のキャリヤーとを、前記粘着付与樹脂生成物流から少なくとも１種の残留モノマーの少なくとも一部を除去するのに充分な温度において、接触させて粘着付与樹脂を生成させることを含む。
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本発明は下記一般式（Ｉ）
【化７】


（式中Ｒはそれぞれ独立に水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を示し、ｎ、ｍは０〜５の繰り返しの数を示す。）で示される化合物（Ａ）及び光重合開始剤を必須成分とする紫外線硬化型樹脂組成物を用いることにより、青色レーザーの透過性、透明性、低吸水性に優れ、かつ反りの少ない高耐久性を有する高密度光ディスク用保護コート膜若しくは接着剤層を得ることができるものである。
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作業性、接着性、ゴム物性、貯蔵安定性、及び速硬化性に優れた硬化性組成物を提供する。（Ａ）架橋性シリル基含有有機重合体、及び（Ｂ）メタロセン化合物及び架橋性シリル基含有チオール化合物の存在下に、重合性不飽和結合を有する（メタ）アクリル系単量体を重合してなり、少なくとも１の末端に架橋性シリル基含有チオール化合物から水素原子が離脱した残基−Ｓ−Ｒ^３（但し、Ｒ^３は架橋性シリル基を有する基である）が結合している（メタ）アクリル系重合体を含有するようにした。 （もっと読む）