【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】
澱粉を含有する製紙原料を用いて製造する抄紙法に関するものであり、地合いを損なうことなく、歩留の向上や生産性の向上ができる抄紙方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
澱粉を含有する抄紙前の製紙原料において、ビニル系カチオン性単量体を１０〜４０モル％とビニル系アニオン性単量体を８〜３０モル％、及び共重合可能な非イオン性単量体を３０〜８２モル％含有する単量体混合物水溶液を重合して得た高分子量両性水溶性重合体は、両性水溶性重合体中のアニオン基の割合が澱粉中のカチオン基とイオンコンプレックスを形成するのに有効且つ適正なアニオン度を有しており、当該両性水溶性重合体を適用した抄紙方法により、上記課題を解決することができる。
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【課題】解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
樹脂が、不飽和カルボン酸に由来する構造単位を有する付加重合体に、オキシラニル基を有する不飽和化合物を反応させた樹脂を含み、
重合性化合物が、デンドリマーおよびハイパーブランチポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む重合性化合物である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 トルエン不溶分の抑制及び従来の解膠同時重合法では達成できないスコーチタイムの調整を行なうことのできる硫黄変性クロロプレン重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 クロロプレン、又はクロロプレン及びこれと共重合可能な単量体との混合物を、硫黄及びジチオカルバミン酸塩の存在下で乳化重合を行ない、クロロプレン重合体の製造と併行してこれの解膠を行なうことにより得られる重合体に対し、テトラアルキルチウラムジスルフィド及び下記一般式（１）で表されるジチオカルバミン酸塩を重合後に加えてさらに解膠を行なうことを特徴とする硫黄変性クロロプレン重合体の製造方法。
【化１】


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は炭素数４以下のアルキル鎖を表す） （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記式（１）で表される重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。


（式（１）中、Ｒ¹¹は炭素原子数６〜１００のヒドロカルビレン基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、置換基を有してもよいヒドロカルビル基、又は、トリヒドロカルビルシリル基を表すか、あるいは、Ｒ¹²とＲ¹³とが結合して、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群から選択される少なくとも１種の原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｍはアルカリ金属原子を表す。） （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を共重合して得られ、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体に関する。
［化１］


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、炭化水素基を表す。ｒは整数を表す。） （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、クエンチャーと、有機溶剤とを含み、該有機溶剤が互いに異なる４種以上の有機溶剤を含み、かつ該互いに異なる４種以上の有機溶剤のうちの少なくとも１種が環状ケトン系有機溶剤であるレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】化粧料、トイレタリー等の分野で好適に用いることのできる親水性の架橋重合物を、逆相懸濁重合及び水溶液重合等の水系の重合条件で製造することを可能にする、新規な水溶性架橋剤を提供すること。
【解決手段】アリルエーテル基及び水酸基を有する水溶性ショ糖アリルエーテルを含む水溶性架橋剤。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、スタンパからの離型性、基材との密着性及び強度に優れる隔壁を形成可能な電気泳動表示素子の隔壁形成用組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］脂環式アルキル骨格を有する重合性化合物、［Ｂ］フッ素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種の元素を有する化合物、並びに［Ｃ］重合開始剤を含有する電気泳動表示素子の隔壁形成用組成物である。［Ａ］重合性化合物は、ジ（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記化合物（Ｉ）及び（ＩＩ）を重合開始剤成分として用いて、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。
（Ｉ）有機アルカリ金属化合物
（ＩＩ）下記式（１）で表される化合物


（式中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は置換基を有してもよい炭素原子数１〜２０のヒドロカルビル基を表す。） （もっと読む）

【課題】大きい屈折率異方性を示す液晶性高分子、さらに優れた性能を有する液晶素子や光学素子の提供。
【解決手段】下記の一般式で表される化合物を反応させて得られるジアセチレン構造を有する液晶性高分子。R1-Sp1-(Ar1)_p-(Ar3)_q-(Phe)_r-C≡C-C≡C-(Phe)_r-(Ar4)_q-(Ar2)_p-Sp2-R2（式中、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、イソチオシアネート基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、または反応性基を表し、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一方は反応性基を有する。また、ＳＰ１およびＳＰ２はスペーサー基を表し、Ａｒ１およびＡｒ２は、非置換または置換の芳香族の炭素環式または複素環式基であり、Ａｒ３およびＡｒ４は、非置換または置換の複素環式基であり、Ｐｈｅは、非置換または置換１，４−フェニレン基を表し、ｐ、ｑおよびｒは、それぞれ０または１である。） （もっと読む）

【課題】優れた透明性を有する、ポリカーボネート系樹脂とアクリル系樹脂とのブレンド物を調製できる樹脂組成物の製造方法、それによって得られる樹脂組成物および該組成物の成形体を提供する。
【解決手段】樹脂組成物の製造方法であって、メタクリル酸メチル６０〜９５重量％、（メタ）アクリル酸エステル（Ｉ）５〜４０重量％、及びこれら以外の単官能単量体０〜３５重量％からなる単量体成分が重合してなる共重合体を含有するアクリル系樹脂５５〜９５重量部と、ポリカーボネート系樹脂４５〜５重量部とを含む樹脂混合物を、温度１８０〜２６５℃及び剪断速度１０〜１００ｓｅｃ^−１で溶融混練することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポジ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて安定に形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜を露光する工程、及び該レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたポジ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、（Ａ）成分として、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位を有する樹脂成分を用い、現像液として極性有機溶剤を含み、実質的にアルカリ成分を含まない現像液を用いる。 （もっと読む）

【課題】照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】（１）〜（４）を含有する感光性組成物であって、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の内の少なくとも１つと（Ｌ）が活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）が（Ａ）、（Ｌ）、（Ｂ）又は（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であることを特徴とする感光性組成物；（１）ラジカル開始剤（Ａ）、（２）リビングラジカル重合開始剤（Ｌ）、（３）酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）、（４）重合性物質（Ｄ）。 （もっと読む）

【課題】 分散安定性に優れると共に、乾燥皮膜の耐水性に優れるフッ素系樹脂水性分散体を提供する。
【解決手段】 カルボキシル基を有するフッ素系樹脂（Ａ）及び水を含有してなり、界面活性剤を含まないことを特徴とするフッ素系樹脂水性分散体である。フッ素系樹脂（Ａ）の酸価は５〜２００であることが好ましく、フッ素系樹脂（Ａ）が有するカルボキシル基の少なくとも一部が、アンモニア、モノメチルアミン、モノエチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン及びエチルジメチルアミンからなる群から選ばれる少なくとも１種の中和剤で中和されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
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【課題】α位にメチル基等の置換基を有するスチレンならびにその誘導体に由来する繰り返し単位をアーム部に有し、かつ単峰性の星型ポリマーを提供する。
【解決手段】アニオン重合法により、下記一般式（１）


で表される化合物を単独重合させた後、あるいは該一般式（１）で表される化合物と共重合可能な化合物と共重合させた後、さらに、グリコールジエーテル類の存在下に多官能性カップリング剤を反応させるポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、膜の硬度が高く、基材や下地などとの密着性が良好であり、誘電率や誘電正接といった電気特性に優れ、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い硬化膜を得ることが出来る感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、酸化防止剤（Ｃ）と、光重合性モノマー（Ｄ）とを含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が、（ａ１）、（ａ２）及び（ａ３）を共重合させて共重合体（ａ６）を得て、得られた共重合体（ａ６）と（ａ４）とを反応させて共重合体（ａ７）を得て、更に得られた共重合体（ａ７）と（ａ５）とを反応させて得られる樹脂（Ａ１）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物により解決される。 （もっと読む）

【課題】成形加工性に優れる変性ポリテトラフルオロエチレン粒子を提供する。
【解決手段】粒子芯部と粒子殻部とから構成されるコア−シェル構造の変性ポリテトラフルオロエチレン粒子であって、粒子芯部は、テトラフルオロエチレン及びコモノマー（ａ）に基づく繰り返し単位からなり、粒子殻部は、テトラフルオロエチレン及びコモノマー（ｂ）に基づく繰り返し単位からなり、コモノマー（ａ）及びコモノマー（ｂ）はそれぞれ下記に示すコモノマーであることを特徴とする変性ポリテトラフルオロエチレン粒子。
コモノマー（ａ）は、下記一般式（Ｉ）
ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｒｆ （Ｉ）
（Ｒｆは炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基を表す。）で表される（パーフルオロアルキル）エチレンである。
コモノマー（ｂ）は、１，１，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロピレン、及び、１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロピレンからなる群より選択される少なくとも１種の単量体である。 （もっと読む）

【課題】スカムの発生を低減でき、かつ、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、（Ｄ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。
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