【課題】 高温高湿環境において高い帯電付与性を有し、さらに高温高湿環境に放置した後のゴースト画像が低減された、高品位の現像剤担持体を提供する。また、前記の現像担持体を用いることで高品位な電子写真プロセスカートリッジ、及び電子写真装置を提供する。
【解決手段】 ピリジニウム基と3級アミノ基を含有する共重合体と、ポリウレタンを含有する表面層を具備する現像剤担持体。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物及び該レジスト組成物に含有される樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ａ^１は、単結合、^＊−Ａ^２−Ｏ−、^＊−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−、^＊−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^３−ＣＯ−Ｏ−又は^＊−Ａ^２−Ｏ−ＣＯ−Ａ^３−Ｏ−を表す。＊は−Ｏ−との結合手を表す。Ａ^２及びＡ^３は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキレン基を表す。］、当該樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
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【課題】より一層低発熱性及び耐摩耗性の向上したタイヤを与えるゴム組成物、及び該ゴム組成物を用いてなる、前記性状を有するタイヤ、特に空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）（ａ−１）共役ジエン系重合体の重合活性末端に、加水分解処理後の官能基が塩基性官能基であるもの、及び加水分解により脱保護可能な基でプロトンが保護されてなる塩基性官能基の中から選ばれる少なくとも一種の官能基と、充填材表面へのポリマー濃縮能のある基とを有する変性剤Ｋの少なくとも１種を反応させてなる変性共役ジエン系重合体１０〜１００質量％と、（ａ−２）天然ゴム及び／又はジエン系合成ゴム９０〜０質量％とからなるゴム成分と、その１００質量部に対して、（Ｂ）無機充填材５〜２００質量部を含み、かつ（Ｃ）前記無機充填材と結合可能な原子又は官能基と、チオエステル基及び／又はジチオエステル基と、を少なくとも有するシランカップリング剤を、前記（Ｂ）成分中の無機充填材に対して１〜２５質量％の割合で含むことを特徴とするゴム組成物、及び該ゴム組成物を部材に用いてなるタイヤである。 （もっと読む）

【課題】より一層低発熱性の向上したタイヤを与え、かつ揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の発生を抑制したゴム組成物、及び該ゴム組成物を用いてなる、前記性状を有するタイヤ、特に空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）（ａ−１）共役ジエン系重合体の重合活性末端に、加水分解処理後の官能基が酸性官能基であるもの、及び加水分解により脱保護可能な基でプロトンが保護されてなる酸性官能基の中から選ばれる少なくとも一種の官能基と、充填材表面へのポリマー濃縮能のある基とを有する変性剤Ｉの少なくとも１種を反応させてなる変性共役ジエン系重合体１０〜１００質量％と、（ａ−２）天然ゴム及び／又はジエン系合成ゴム９０〜０質量％とからなるゴム成分と、その１００質量部に対して、（Ｂ）無機充填材５〜２００質量部を含み、かつ（Ｃ）前記無機充填材と結合可能な原子又は官能基と、チオエステル基及び／又はジチオエステル基と、を少なくとも有するシランカップリング剤を、前記（Ｂ）成分中の無機充填材に対して１〜２５質量％の割合で含むことを特徴とするゴム組成物、及び該ゴム組成物を部材に用いてなるタイヤである。 （もっと読む）

【課題】長期間に渡って安定した電気特性を有し、かつブレードバイアスリークを抑制した現像ローラを提供する。
【解決手段】現像ローラの弾性層に、４級ピリジニウム塩および３級アミンからなる共重合体を含有する。 （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射で発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン類単位、（４）インデン類単位の繰り返し単位を含有する。
【効果】本発明によれば、酸発生能化合物のレジスト膜中の微細な分布及び拡散をより均一にすることができ、有効な感度を有利に確保できると共に、ＬＥＲの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とする。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、ＬＷＲ及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】式（１）で表される構造単位、式（２）で表される構造単位及び酸解離性基を有する構造単位を含む重合体、並びに酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】良好な加硫安定性を維持しつつ、機械的強度、耐摩耗性、低燃費性をバランスよく向上できるゴム組成物、及びそれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを有する共役ジエン系重合体であって、（メタ）アクリル系化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなるジエン系共重合体と、リン含有量が２００ｐｐｍ以下の改質天然ゴムと、特定構造のイオウ化合物（Ｒ^５−Ｓ−Ｓ−Ｙ−Ｓ−Ｓ−Ｒ^６）を含むことを特徴とするゴム組成物。


［式中、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ独立に、特定構造の窒素含有基（−Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）：（Ｉａ）、但し、Ｒ１，Ｒ２は、置換または未置換のヒドロカルビル基、シリル基を表す）、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３の少なくとも１つが、上式（Ｉａ）で表される基又は水酸基である。］ （もっと読む）

【課題】練りあがり時間の短縮、初期分散性向上、低粘性化、硬化物性向上を同時に高いレベルで満足できる、粗骨材を含有し単位水硬性粉体量が多い水硬性組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】アクリル酸と特定のポリアルキレングリコールアクリレート系単量体とを構成単量体とし、全構成単量体中のアクリル酸の割合が５０モル％以上である共重合体（Ｉ）〔以下、共重合体（Ｉ）という〕、水及び水硬性粉体を混練しモルタルを調製する工程〔ただし、ポリカルボン酸系（共）重合体及びリン酸基（塩）を有する（共）重合体から選ばれる、共重合体（Ｉ）以外の（共）重合体（II）［以下、（共）重合体（II）という］を用いる場合、共重合体（Ｉ）と（共）重合体（II）の合計中、共重合体（Ｉ）の割合は、有効分換算で５０〜９９重量％である。〕と、前記モルタルと粗骨材とを混練する工程と、により、水、水硬性粉体、及び粗骨材を含有し、水／水硬性粉体重量比が０．０７〜０．２５で、前記水硬性粉体の単位水硬性粉体量が８００ｋｇ／ｍ³以上であり、前記粗骨材の含有量が３００〜１１００ｋｇ／ｍ³である水硬性組成物を製造する。 （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射により発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン単位、（４）インデン単位の繰り返し単位を含有し、（１）の繰り返し単位は０．５〜１０モル％、かつ、他の繰り返し単位を合計した量の割合は５０〜９９．５モル％を占める。
【効果】本発明によれば、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の改善に加え、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とし、かつ高解像性を与える。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性（ＣＤＵ）に優れ、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができる樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこの樹脂を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１及びＲ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断される１価の基；ｎ^aa１は１又は２；Ａ^aa１は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ａ^ab1は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ｒ^ab2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】電気絶縁性及び熱伝導性が高い均質な樹脂硬化物を与え、且つ成形性に優れた樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メソゲン基を含む液晶ユニットと、前記液晶ユニットの両端に結合した柔軟ユニットと、末端の重合性基とを有する化合物を含有する樹脂組成物であって、前記柔軟性ユニットは、以下の式：
【化１】


（式中、ｎは１８以下の整数である）からなる群より選択される一種以上の基を含み、且つ前記液晶ユニットの一端に結合した前記柔軟ユニットと前記液晶ユニットの他端に結合した前記柔軟ユニットとが異なることを特徴とする樹脂組成物とする。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、塩基性化合物成分（Ｃ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）が、式（ｂ１）で表される化合物を含有し、塩基性化合物成分（Ｃ）が、式（ｃ１）〜（ｃ３）で表される化合物の１つ以上を含むレジスト組成物。
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【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】
澱粉を含有する製紙原料を用いて製造する抄紙法に関するものであり、地合いを損なうことなく、歩留の向上や生産性の向上ができる抄紙方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
澱粉を含有する抄紙前の製紙原料において、ビニル系カチオン性単量体を１０〜４０モル％とビニル系アニオン性単量体を８〜３０モル％、及び共重合可能な非イオン性単量体を３０〜８２モル％含有する単量体混合物水溶液を重合して得た高分子量両性水溶性重合体は、両性水溶性重合体中のアニオン基の割合が澱粉中のカチオン基とイオンコンプレックスを形成するのに有効且つ適正なアニオン度を有しており、当該両性水溶性重合体を適用した抄紙方法により、上記課題を解決することができる。
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【課題】解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
樹脂が、不飽和カルボン酸に由来する構造単位を有する付加重合体に、オキシラニル基を有する不飽和化合物を反応させた樹脂を含み、
重合性化合物が、デンドリマーおよびハイパーブランチポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む重合性化合物である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 トルエン不溶分の抑制及び従来の解膠同時重合法では達成できないスコーチタイムの調整を行なうことのできる硫黄変性クロロプレン重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 クロロプレン、又はクロロプレン及びこれと共重合可能な単量体との混合物を、硫黄及びジチオカルバミン酸塩の存在下で乳化重合を行ない、クロロプレン重合体の製造と併行してこれの解膠を行なうことにより得られる重合体に対し、テトラアルキルチウラムジスルフィド及び下記一般式（１）で表されるジチオカルバミン酸塩を重合後に加えてさらに解膠を行なうことを特徴とする硫黄変性クロロプレン重合体の製造方法。
【化１】


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は炭素数４以下のアルキル鎖を表す） （もっと読む）

【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるレジスト膜、該レジスト膜を用いたレジスト塗布マスクブランクス及びレジストパターン形成方法、並びに、化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される基により、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び有機溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により形成されたレジスト膜であって、膜厚が１０〜２００ｎｍであるレジスト膜。


（式中、Ｒ_１は、炭化水素基を表す。Ｒ_２は、水素原子又は炭化水素基を表す。Ａｒは、アリール基を表す。Ｒ_１は、Ａｒと結合して、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成していてもよい。＊は前記フェノール性水酸基の酸素原子との結合位置を表す。） （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、パターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、側鎖にＯＨ基を含む基を有する環状の飽和炭化水素基を有する（メタ）アクリレート単位を有し、且つ特定の酸不安定性基を側鎖に有する（メタ）アクリレート単位の少なくとも１種を有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、樹脂成分（Ａ１）の全構成単位の合計に対し構成単位（ａ１１）の割合が３５モル％を超える。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス、パターン形状、液浸液追随性及びドライエッジング耐性のいずれにも優れる感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）で表される繰り返し単位を含有する樹脂、及び（Ｃ）アセトニトリル溶媒中で測定した波長１９３ｎｍにおけるモル吸光係数εが、トリフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホネートに対する相対比で０．８以下である放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。


上記一般式（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）中、ＡＲ_１及びＡＲ_２は、芳香族基を表す。Ｒ_１は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。Ａ_１及びＡ_２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。ＺはＣ−ＡＲ_２とともに環を形成する連結基を表す。 （もっと読む）