【課題】レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記式（１）で表される重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させる共役ジエン系重合体の製造方法。


（式（１）中、Ｒ¹¹は炭素原子数６〜１００のヒドロカルビレン基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、置換基を有してもよいヒドロカルビル基、又は、トリヒドロカルビルシリル基を表すか、あるいは、Ｒ¹²とＲ¹³とが結合して、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子からなる原子群から選択される少なくとも１種の原子をヘテロ原子として有していてもよいヒドロカルビレン基を表し、Ｍはアルカリ金属原子を表す。） （もっと読む）

【課題】 ５００量体より大きな高分子量のポリアセチレンを分子量制御して高収率で得ることができるポリアセチレンの製造方法を提供する。
【解決手段】 モノマー溶液と触媒溶液を混合してポリアセチレンを製造する方法であって、触媒溶液とモノマー溶液を、前記触媒溶液と前記モノマー溶液の界面で接触させて混合溶液を得る工程を有し、かつ前記触媒溶液と前記モノマー溶液が接触した界面におけるモノマー溶液の界面距離（Ｌｍ）が、触媒溶液の界面距離（Ｌｃ）よりも大きいポリアセチレンの製造方法。（１）モノマー溶液の界面距離（Ｌｍ）とは、触媒溶液と接触するモノマー溶液の存在する領域で、モノマー溶液と触媒溶液の界面から最も遠い点までの距離を表す。（２）触媒溶液の界面距離（Ｌｃ）とは、モノマー溶液と接触する触媒溶液の存在する領域で、モノマー溶液と触媒溶液の界面から最も遠い点までの距離を指す。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性を有する、ポリカーボネート系樹脂とアクリル系樹脂とのブレンド物を調製できる樹脂組成物の製造方法、それによって得られる樹脂組成物および該組成物の成形体を提供する。
【解決手段】樹脂組成物の製造方法であって、メタクリル酸メチル６０〜９５重量％、（メタ）アクリル酸エステル（Ｉ）５〜４０重量％、及びこれら以外の単官能単量体０〜３５重量％からなる単量体成分が重合してなる共重合体を含有するアクリル系樹脂５５〜９５重量部と、ポリカーボネート系樹脂４５〜５重量部とを含む樹脂混合物を、温度１８０〜２６５℃及び剪断速度１０〜１００ｓｅｃ^−１で溶融混練することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポジ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて安定に形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜を露光する工程、及び該レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたポジ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、（Ａ）成分として、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位を有する樹脂成分を用い、現像液として極性有機溶剤を含み、実質的にアルカリ成分を含まない現像液を用いる。 （もっと読む）

【課題】大きい屈折率異方性を示す液晶性高分子、さらに優れた性能を有する液晶素子や光学素子の提供。
【解決手段】下記の一般式で表される化合物を反応させて得られるジアセチレン構造を有する液晶性高分子。R1-Sp1-(Ar1)_p-(Ar3)_q-(Phe)_r-C≡C-C≡C-(Phe)_r-(Ar4)_q-(Ar2)_p-Sp2-R2（式中、Ｒ１およびＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、イソチオシアネート基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、または反応性基を表し、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一方は反応性基を有する。また、ＳＰ１およびＳＰ２はスペーサー基を表し、Ａｒ１およびＡｒ２は、非置換または置換の芳香族の炭素環式または複素環式基であり、Ａｒ３およびＡｒ４は、非置換または置換の複素環式基であり、Ｐｈｅは、非置換または置換１，４−フェニレン基を表し、ｐ、ｑおよびｒは、それぞれ０または１である。） （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を共重合して得られ、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体に関する。
［化１］


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、炭化水素基を表す。ｒは整数を表す。） （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、クエンチャーと、有機溶剤とを含み、該有機溶剤が互いに異なる４種以上の有機溶剤を含み、かつ該互いに異なる４種以上の有機溶剤のうちの少なくとも１種が環状ケトン系有機溶剤であるレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
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【課題】周期律表第１０族の金属錯体触媒を用いたカルボン酸エステルモノマーを含む重合体の製造において、触媒の重合活性を飛躍的に向上させ、製造コストを大幅に低減できる重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】重合系内の液相に含まれる、（Ａ）一般式（２）で示されるアルコール化合物の濃度が５００ｗｔｐｐｍ以下、（Ｂ）一般式（３）で示されるカルボン酸化合物の濃度が２００ｗｔｐｐｍ以下、（Ｃ）水の濃度が５０ｗｔｐｐｍ以下である、前記条件（Ａ）〜（Ｃ）の少なくとも１つを満足することを特徴とする重合体の製造方法。


（式中の記号は、明細書に記載の通り） （もっと読む）

【課題】アセタール部分を含む（メタ）アクリラートモノマー、このモノマーから形成される単位を含むポリマー、およびこのポリマーを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】２個のアセタール環構造を有するアルコールから得られる(メタ)アクリル酸エステルモノマー。該モノマー、ポリマー、およびフォトレジスト組成物はフォトリソグラフィパターン形成に有用である。前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、フォトリソグラフィパターンを形成する方法、および電子デバイスも提供する。この組成物、方法およびコーティングされた基体には、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだした。 （もっと読む）

【課題】 分散安定性に優れると共に、乾燥皮膜の耐水性に優れるフッ素系樹脂水性分散体を提供する。
【解決手段】 カルボキシル基を有するフッ素系樹脂（Ａ）及び水を含有してなり、界面活性剤を含まないことを特徴とするフッ素系樹脂水性分散体である。フッ素系樹脂（Ａ）の酸価は５〜２００であることが好ましく、フッ素系樹脂（Ａ）が有するカルボキシル基の少なくとも一部が、アンモニア、モノメチルアミン、モノエチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン及びエチルジメチルアミンからなる群から選ばれる少なくとも１種の中和剤で中和されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ロール加工性及び耐摩耗性に優れたタイヤを製造するのに用いられ、共役ジエン化合物及び非共役オレフィンの単量体単位が不規則に配列してなるランダム共重合体、該ランダム共重合体を含むゴム組成物、該ゴム組成物を架橋して得られた架橋ゴム組成物、及び、前記ゴム組成物又は前記架橋ゴム組成物を用いたタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエン化合物及び非共役オレフィンの単量体単位が不規則に配列してなるランダム共重合体であって、前記共役ジエン化合物由来部分の含有量が３０ｍｏｌ％超であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、膜の硬度が高く、基材や下地などとの密着性が良好であり、誘電率や誘電正接といった電気特性に優れ、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い硬化膜を得ることが出来る感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、酸化防止剤（Ｃ）と、光重合性モノマー（Ｄ）とを含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が、（ａ１）、（ａ２）及び（ａ３）を共重合させて共重合体（ａ６）を得て、得られた共重合体（ａ６）と（ａ４）とを反応させて共重合体（ａ７）を得て、更に得られた共重合体（ａ７）と（ａ５）とを反応させて得られる樹脂（Ａ１）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物により解決される。 （もっと読む）

【課題】低発熱性に優れ、耐熱性、耐オゾン性に優れたゴムを製造するのに用いられ、共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体、該共重合体を含むゴム組成物、該ゴム組成物を架橋して得られた架橋ゴム組成物、及び、前記ゴム組成物又は前記架橋ゴム組成物を用いたタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体であって、共役ジエン化合物由来部分の１，２付加体部分（３，４付加体部分を含む）含量が５ｍｏｌ％以下であることを特徴とする共重合体である。 （もっと読む）

【課題】 高温下において位相差の変化が少ない光学異方体を作製することが可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 少なくとも１つ以上の水素原子がtert-ブチル基で置換されているフェノール骨格を有する分子量７００未満の酸化防止剤を含有する重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物の硬化物である光学異方体を提供する。本願発明の重合性液晶組成物により構成される光学異方体は、高温下においても、オーダーパラメータの低下に伴う位相差の減少を低減できることから、液晶セル内部に組み込む光学異方体として好適に使用することが可能である。 （もっと読む）

【課題】α位にメチル基等の置換基を有するスチレンならびにその誘導体に由来する繰り返し単位をアーム部に有し、かつ単峰性の星型ポリマーを提供する。
【解決手段】アニオン重合法により、下記一般式（１）


で表される化合物を単独重合させた後、あるいは該一般式（１）で表される化合物と共重合可能な化合物と共重合させた後、さらに、グリコールジエーテル類の存在下に多官能性カップリング剤を反応させるポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐亀裂成長性、耐熱性、及び耐オゾン性に優れたゴムを製造するのに用いられ、共役ジエン化合物由来部分にシス１，４結合を含む共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体、該共重合体を含むゴム組成物、該ゴム組成物を架橋して得られた架橋ゴム組成物、及び、前記ゴム組成物又は前記架橋ゴム組成物を用いたタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体において、共役ジエン化合物由来部分のシス１，４−結合含量が９２％超であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発明の目的は、ウェット性、低温特性、及び耐候性に優れたゴムを製造するのに用いられ、共役ジエン化合物由来部分にシス１，４結合を含む共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体、該共重合体を含むゴム組成物、該ゴム組成物を架橋して得られた架橋ゴム組成物、及び、前記ゴム組成物又は前記架橋ゴム組成物を用いたタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエン化合物と非共役オレフィンとの共重合体において、共役ジエン化合物由来部分のシス１，４−結合含量が９２％未満であり、且つ、非共役オレフィン由来部分の含有量が１０ｍｏｌ％未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、機械的強度、耐摩耗性をバランスよく向上できるゴム組成物、及びそれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを有する共役ジエン系重合体であって、特定の不飽和カルボン酸系化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなるジエン系共重合体と、イソプレン系ゴムとを含むことを特徴とするゴム組成物。


［式中、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ独立に、特定のアミノ基、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３の少なくとも１つが、特定のアミノ基又は水酸基である。］ （もっと読む）