【課題】適正感度が高く、屈折率が低くかつ、現像後のパターンの欠けや残渣が少なく、高温高湿下での屈折率変化が小さく、耐候性に優れた性能を示すパターンを形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。
【解決手段】
（Ａ）中空又は多孔質粒子と、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により活性種を発生する化合物と、
（Ｃ）下記Ａ群に示される部分構造から選ばれる少なくとも一つと、カルボン酸基とを含有し、前記活性種の作用により現像液への溶解性が変化する樹脂
を含有することを特徴とする感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子。
＜Ａ群＞ 水酸基、アミノ基、アミド基、ウレア結合、エステル結合、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ポリエチレングリコール鎖、ポリプロピレングリコール鎖 （もっと読む）

【課題】解像性および耐久性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）を含む着色感光性樹脂組成物。
（Ａ）着色剤
（Ｂ）下記（ａ）と（ｂ）を共重合させて得られる共重合体に、（ｃ）を反応させて得られる樹脂
（ａ）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種
（ｂ）：（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、(ａ)とは異なる単量体
（ｃ）：炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体
（Ｃ）重合性化合物
（Ｄ）重合開始剤
（Ｅ）多官能チオール化合物
（Ｆ）溶剤 （もっと読む）

【課題】機械的強度、耐摩耗性、低燃費性をバランスよく向上できるゴム組成物、及びそれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエンに基づく単位と式（Ｉ）で表される単位とを有する重合体であって、特定のアクリル系化合物によって少なくとも一端が変性されてなるジエン系共重合体と、イソプレン系ゴムと、加硫剤とを含むゴム組成物。


［Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３の少なくとも１つが、式（Ｉａ）で表される基又は水酸基である。］
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【課題】 リサイクルが可能で安価に製造が可能であり、発泡倍率が高く、耐熱性、可撓性に優れるポリエチレン発泡パイプカバーを提供する。
【解決手段】 密度が９３５〜９５０ｋｇ／ｍ^３、ＭＦＲが０．１〜５０ｇ／１０分、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによる分子量測定において２つのピークを示し、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．０〜７．０の範囲であり、分子量分別した際のＭｎが１０万以上のフラクション中に長鎖分岐を主鎖１０００炭素数あたり０．１５個以上有するエチレン系重合体からなり、円筒状であることを特徴とするポリエチレン発泡パイプカバーを用いる。 （もっと読む）

【課題】スカムの発生を低減でき、かつ、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、（Ｄ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。
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【課題】成形性が良好なエチレン−α−オレフィン共重合体であって、ちらつき感が低減した成形体が得られるエチレン−α−オレフィン共重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記成分（Ａ）と下記成分（Ｂ）との接触処理物に下記成分（Ｃ）を接触処理してなる接触処理物の存在下、オレフィンを予備重合してなる予備重合固体触媒成分であって、該予備重合固体触媒成分中の予備重合体の含有量が、成分（Ａ）１ｇ当り０．１〜５００ｇであり、該予備重合体の結晶融解熱量が１６０Ｊ／ｇ以上であり、極限粘度が２〜４ｄｌ／ｇ以上の予備重合体成分を、予備重合の開始から成分（Ａ）１ｇ当り０．１〜５ｇ製造してなる予備重合固体触媒成分の存在下、エチレンと炭素原子数３〜２０のα−オレフィンとを共重合するエチレン−α−オレフィン共重合体の製造方法。
成分（Ａ）：メタロセン系錯体をイオン化してイオン性の錯体を形成する化合物が、微粒子状担体に担持されてなる固体助触媒成分
成分（Ｂ）：メタロセン系錯体
成分（Ｃ）：アルキル化剤 （もっと読む）

【課題】本発明は、水洗等の特別な作業を伴うことなく、繰返し使用に適した粘着性を示し、かつ特に皮膚に対する刺激の少ない粘着性ハイドロゲル用組成物とその用途（例えば、粘着性ハイドロゲル、ゲルシート及び電極パッド）を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、少なくとも、高分子マトリックス形成材と、水と、多価アルコールとからなる粘着性ハイドロゲル用組成物であって、前記高分子マトリックス形成材は、少なくとも、（ａ）（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸誘導体、クロトン酸及び／又はカルボキシル基を２つ有する炭素数が４〜５のビニル誘導体、（ｂ）（メタ）アクリルアミド及び／又は（メタ）アクリルアミド誘導体、（ｃ）Ｎ−ビニル−２−カプロラクタム、及び／又は、Ｎ−ビニル−２−バレロラクタム並びに（ｄ）架橋性単量体からなり、該粘着性ハイドロゲル組成物における前記（ｂ）の含有率が２〜２０重量％である。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位（ａａ）と、式（ａｂ）で表される構造単位（ａｂ）とを有する樹脂及びこの樹脂を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１及びＲ^ab1は水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断されない原子又は基；ｎ^aa１は１又は２を表す。］ （もっと読む）

【課題】電子デバイス製造における微細パターンの形成を可能にし、および最新技術に関連する１以上の上記課題を回避するかまたは顕著に改善する、改良されたポリマー、フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像のためのフォトリソグラフィ方法の開発。
【解決手段】特定のアセタール部分を含む単位と、ラクトン部分を含む単位とを含むポリマー。このポリマーを含むフォトレジスト組成物、前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法。このポリマー、組成物、方法およびコーティングされた基体には、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだされる。 （もっと読む）

【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、ニトリル基又はニトロ基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ａ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、アルカリ現像液に対する反応性に優れ、現像欠陥を抑制することができ、さらに被覆率依存性が良好な感放射線性樹脂組成物、これに用いることができる重合体及びこの重合体のモノマーとなる化合物を提供することである。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。Ｒ２は、下記式（２）で表される酸解離性基である。
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【課題】押出し加工性がよく、また柔軟性、光沢性が良好で、特に耐久安定性に優れた押出し成型向けポリエチレン系樹脂組成物およびその組成物からなる給水用パイプ、ガス輸送用パイプを提供すること。
【解決手段】特定の物性を有する、エチレンと炭素数３〜２０のα−オレフィンとからなる共重合体である線状系ポリエチレン（Ａ）９５〜６５重量％と特定の物性を有する分岐状高圧法低密度系ポリエチレン（Ｂ）５〜３５重量％とを配合してなり、１９０℃、２．１６ｋｇ荷重における（Ａ）のメルトフローレートに対する（Ｂ）のメルトフローレートの比が１〜２０であり、かつ密度が９２０〜９４０ｋｇ／ｍ^３、メルトフローレートが２〜１０ｇ／１０分であるポリエチレン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこの樹脂と酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１、Ｒ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により酸素原子との結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断されない１価の基；ｎ^aa１、ｎ^ab1は１又は２；Ａ^aa１は炭化水素基；Ａ^ab1は炭化水素基又は単結合；Ｗ^１は脂環式炭化水素基；Ａ^ab2は脂肪族炭化水素基；Ｒ^ab2はフッ化アルキル基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】尿組成が変化しても優れた吸水特性を長時間維持する、吸水剤を提供する。
【解決手段】不飽和単量体を架橋重合した吸水性樹脂を主成分とする粒子状吸水剤であって、生理食塩水への無加圧下吸収倍率（ＣＲＣ）が３２ｇ／ｇ以上、質量平均粒子径（Ｄ５０）が２００〜４００μｍ、１５０μｍ未満の粒子が０〜２質量％、可溶分劣化増加量が０〜１５質量％、かつ劣化試験液での１時間可溶分が０．１〜３０質量％の吸水剤である。 （もっと読む）

【課題】アルコール系溶剤を含有する有機溶剤に溶解してなるレジスト組成物において、微細な寸法のパターンを良好な形状で形成できるレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを、アルコール系溶剤を含有する有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸の作用により極性が増大する共重合体（Ａ１）を含有し、該共重合体（Ａ１）は、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であってラクトン含有環式基を含む構成単位（ａ２）が分子内で均一に分散して配置されているものであることを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】材料選択の自由度が非常に高い光反応性化合物を含む光配向膜用又は光学異方性フィルム用組成物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


〔式中，Ｍはホモポリマー又はコポリマーの主鎖を形成するモノマー単位であり，ＳＰＣＲはスぺーサー単位であり，環Ａは非置換若しくは置換脂環式炭化水素又は非置換若しくは置換芳香環であり，環Ｂは非置換若しくは置換芳香環であり，Ｚはアルキル基，アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基，ハロゲン原子，−ＣＨ＝ＣＨＺ^１，−Ｃ≡ＣＺ^１（但し，Ｚ^１はアルキル基，アルコキシ基，アルコキシカルボニル基，アルコキシスルホニル基，シアノ基，ニトロ基又はハロゲン原子である。），−ＣＯＯＺ^２，又は−ＳＯ_３Ｚ^２（但し，Ｚ^２はアルキル基である。）である。〕で示される繰り返し単位を有する光反応性ポリマーを含んでなる，光配向膜用組成物又は光学異方性フィルム用組成物。 （もっと読む）

【課題】クロム触媒を用いて製造されてなる、成形性、耐衝撃性に優れ、且つ剛性と耐久性とのバランスに優れるポリエチレン、その製法およびそれからなる中空プラスチック成形品の提供。
【解決手段】クロム触媒（特に有機アルミニウム化合物担持クロム触媒）によって重合され、かつ炭素数４以上の短鎖分岐の分子量依存性を示す分岐度分布曲線の最大値における重量平均分子量（Ｍｗ）が、３０，０００以上であるポリエチレン等により達成。 （もっと読む）

【課題】ポリプロピレンとの接着性が優れた組成物を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）と（Ｂ）と（Ｃ）とを含む組成物。（Ａ）：プロピレン由来の構造単位７０〜９９モル％及び１−ブテン由来の構造単位１〜３０モル％を含有し、融解ピークが実質的に観測されない重合体（Ａ−１）又は（Ａ−１）にα，β−不飽和カルボン酸類をグラフト重合して得られる重合体（Ａ−２）。（Ｂ）：エチレン由来の構造単位５〜２０モル％及びプロピレン由来の構造単位８０〜９５モル％を含有し、融解ピークが観測される重合体（Ｂ−１）又は（Ｂ−１）にα，β−不飽和カルボン酸類をグラフト重合して得られる重合体（Ｂ−２）。（Ｃ）：プロピレン由来の構造単位６０〜９０モル％及び１−ブテン由来の構造単位１０〜４０モル％を含有し、融解ピークが観測される重合体（Ｃ−１）又は（Ｃ−１）にα，β−不飽和カルボン酸類をグラフト重合して得られる重合体（Ｃ−２）。 （もっと読む）

【課題】発光効率が高く、長寿命で、駆動電圧の上昇が小さい有機エレクトロルミネッセント素子を提供する。
【解決手段】陽極と、トリフェニルアミン構造を部分構造として含むトリアリールアミン誘導体及び電子受容性化合物を含有する正孔注入層と、式（２）で表わされる繰り返し単位を有するポリマーを含有する正孔輸送層と、トリフェニルトリアジン構造を部分構造として含むトリアリールトリアジン誘導体及び燐光発光体を含有する発光層と、陰極とがこの順序で積層されてなる有機エレクトロルミネッセント素子。


（式（２）中、Ｒ¹〜Ｒ⁸はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、または炭素数１〜１０のアルキル基で置換されていてもよいシリル基を表し、Ｒ⁹は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数６〜１０のアリール基を表す。） （もっと読む）

【課題】フォトレジストポリマーに重合可能な新規光酸発生剤化合物、およびこの重合性光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）を有する化合物：


式中、Ｑはハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されていないＣ_２−３０オレフィン含有基であり、Ａはフッ素置換Ｃ_１−３０アルキレン基、フッ素置換Ｃ_３−３０シクロアルキレン基、フッ素置換Ｃ_６−３０アリーレン基、もしくはフッ素置換Ｃ_７−３０アルキレン−アリーレン基であり、Ｚはスルホナート、スルホンアミドもしくはスルホンイミドを含むアニオン性基であり、並びにＧ^＋は特定のカチオンである。 （もっと読む）