【課題】長期間に渡って安定した電気特性を有し、かつブレードバイアスリークを抑制した現像ローラを提供する。
【解決手段】現像ローラの弾性層に、４級ピリジニウム塩および３級アミンからなる共重合体を含有する。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】より一層低発熱性及び耐摩耗性の向上したタイヤを与えるゴム組成物、及び該ゴム組成物を用いてなる、前記性状を有するタイヤ、特に空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）（ａ−１）共役ジエン系重合体の重合活性末端に、加水分解処理後の官能基が塩基性官能基であるもの、及び加水分解により脱保護可能な基でプロトンが保護されてなる塩基性官能基の中から選ばれる少なくとも一種の官能基と、充填材表面へのポリマー濃縮能のある基とを有する変性剤Ｋの少なくとも１種を反応させてなる変性共役ジエン系重合体１０〜１００質量％と、（ａ−２）天然ゴム及び／又はジエン系合成ゴム９０〜０質量％とからなるゴム成分と、その１００質量部に対して、（Ｂ）無機充填材５〜２００質量部を含み、かつ（Ｃ）前記無機充填材と結合可能な原子又は官能基と、チオエステル基及び／又はジチオエステル基と、を少なくとも有するシランカップリング剤を、前記（Ｂ）成分中の無機充填材に対して１〜２５質量％の割合で含むことを特徴とするゴム組成物、及び該ゴム組成物を部材に用いてなるタイヤである。 （もっと読む）

【課題】良好な加硫安定性を維持しつつ、機械的強度、耐摩耗性、低燃費性をバランスよく向上できるゴム組成物、及びそれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを有する共役ジエン系重合体であって、（メタ）アクリル系化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなるジエン系共重合体と、リン含有量が２００ｐｐｍ以下の改質天然ゴムと、特定構造のイオウ化合物（Ｒ^５−Ｓ−Ｓ−Ｙ−Ｓ−Ｓ−Ｒ^６）を含むことを特徴とするゴム組成物。


［式中、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ独立に、特定構造の窒素含有基（−Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）：（Ｉａ）、但し、Ｒ１，Ｒ２は、置換または未置換のヒドロカルビル基、シリル基を表す）、水酸基、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３の少なくとも１つが、上式（Ｉａ）で表される基又は水酸基である。］ （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射により発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン単位、（４）インデン単位の繰り返し単位を含有し、（１）の繰り返し単位は０．５〜１０モル％、かつ、他の繰り返し単位を合計した量の割合は５０〜９９．５モル％を占める。
【効果】本発明によれば、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の改善に加え、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とし、かつ高解像性を与える。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性（ＣＤＵ）に優れ、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができる樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこの樹脂を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１及びＲ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断される１価の基；ｎ^aa１は１又は２；Ａ^aa１は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ａ^ab1は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ｒ^ab2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】練りあがり時間の短縮、初期分散性向上、低粘性化、硬化物性向上を同時に高いレベルで満足できる、粗骨材を含有し単位水硬性粉体量が多い水硬性組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】アクリル酸と特定のポリアルキレングリコールアクリレート系単量体とを構成単量体とし、全構成単量体中のアクリル酸の割合が５０モル％以上である共重合体（Ｉ）〔以下、共重合体（Ｉ）という〕、水及び水硬性粉体を混練しモルタルを調製する工程〔ただし、ポリカルボン酸系（共）重合体及びリン酸基（塩）を有する（共）重合体から選ばれる、共重合体（Ｉ）以外の（共）重合体（II）［以下、（共）重合体（II）という］を用いる場合、共重合体（Ｉ）と（共）重合体（II）の合計中、共重合体（Ｉ）の割合は、有効分換算で５０〜９９重量％である。〕と、前記モルタルと粗骨材とを混練する工程と、により、水、水硬性粉体、及び粗骨材を含有し、水／水硬性粉体重量比が０．０７〜０．２５で、前記水硬性粉体の単位水硬性粉体量が８００ｋｇ／ｍ³以上であり、前記粗骨材の含有量が３００〜１１００ｋｇ／ｍ³である水硬性組成物を製造する。 （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線照射で発生する酸を触媒として、架橋剤及び／又はレジストポリマー中の架橋性官能基を有する繰り返し単位により、レジストポリマー間に架橋が形成され、アルカリ性現像液に対して不溶化する機構を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物において、レジストポリマーが、（１）側鎖に酸発生基を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（２）側鎖に縮合芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル類単位、（３）アセナフチレン類単位、（４）インデン類単位の繰り返し単位を含有する。
【効果】本発明によれば、酸発生能化合物のレジスト膜中の微細な分布及び拡散をより均一にすることができ、有効な感度を有利に確保できると共に、ＬＥＲの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、ネガ型レジスト組成物特有のアンダーカットの度合いが小さいレジストプロファイルの形成を可能とする。 （もっと読む）

【課題】分離媒体、触媒物質、薬剤担体物質、センサー材料及び組合わせ化学媒体のような種々の用途において有用な固体媒体を提供する。
【解決手段】この固体媒体は１から５０ナノメートルの範囲の平均直径を有するＰＮＰ（架橋重合体ナノ粒子）を含み、該ＰＮＰは重合単位として多エチレン性不飽和モノマーからなり、例えば、より高い表面積、より高い多孔度、調節された粒径、改良された透明性、独特の電気的特性のような、固体媒体に対し様々な改良された特性を付与することができる。 （もっと読む）

【課題】優れた加工性、作業性を有し、低燃費性、耐摩耗性、ウェットグリップ性能を向上できるタイヤ用ゴム組成物、及び該タイヤ用ゴム組成物をタイヤの各部材（特に、トレッド）に用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物及び下記式（ＩＩ）で表される化合物によりシリカ表面に化学処理が施された表面処理シリカを含むタイヤ用ゴム組成物。


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【課題】優れた加工性を有し、低ヒステリシスロス性能及びウェットスキッド抵抗性能に優れ、かつこれらのバランスが良好で、高い耐摩耗性及び破壊強度を有する変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】変性率が７５質量％以上の変性共役ジエン系共重合体であって、分子量分布曲線に、少なくとも３つのピーク（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）が存在し、前記分子量分布曲線の全体面積を１００％としたときに、ピーク（Ａ）面積が５〜３９％、ピーク（Ｃ）面積が１０％以上であり、ピーク（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）のピークトップ分子量が以下の範囲である変性共役ジエン系共重合体。ピーク（Ａ）：ピークトップの分子量が、１０万〜３０万。ピーク（Ｂ）：ピークトップの分子量が、ピーク（Ａ）のピークトップ分子量の１．５倍〜４．０倍。ピーク（Ｃ）：ピークトップの分子量が、３０万以上。 （もっと読む）

【課題】逆波長分散性を示す位相差フィルムであって、製造時に原反フィルムの延伸条件を変化させた場合においても、波長分散性の変動が少ない位相差フィルムを提供する。
【解決手段】正の固有複屈折を有し、順波長分散性を示す樹脂（Ａ）と、波長分散性制御材として、負の固有複屈折を有し、順波長分散性を示し、可視光域における波長分散性の変化が樹脂（Ａ）よりも大きく、樹脂（Ａ）のＴｇと自らのＴｇとの差が２０℃未満である重合体（Ｂ）とを含む樹脂組成物（Ｃ）からなり、樹脂組成物（Ｃ）における樹脂（Ａ）と重合体（Ｂ）との混合比が、樹脂（Ａ）：重合体（Ｂ）＝９５〜７０重量部：５〜３０重量部であり、樹脂（Ａ）に含まれる重合体および重合体（Ｂ）から選ばれる少なくとも１つが構成単位として（メタ）アクリル酸エステル単位を有し、樹脂組成物（Ｃ）における（メタ）アクリル酸エステル単位の含有率が６０重量％以上の位相差フィルムとする。 （もっと読む）

【課題】タイヤ用のゴム材料として有用な新規架橋ゴム組成物、及び該架橋ゴム組成物を得るための新規ゴム組成物を提供する。
【解決手段】オレフィン性二重結合を有するゴム成分と、下記式（１）で表される構造単位及び下記式（２）で表される構造単位を有するイソブチレン系重合体と、を含有するゴム組成物。




［式中、ｎは０又は１を示し、Ｘは二価の基を示し、Ｙは環外に不飽和結合を有する脂環基を示す。］ （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、パターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、側鎖にＯＨ基を含む基を有する環状の飽和炭化水素基を有する（メタ）アクリレート単位を有し、且つ特定の酸不安定性基を側鎖に有する（メタ）アクリレート単位の少なくとも１種を有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、樹脂成分（Ａ１）の全構成単位の合計に対し構成単位（ａ１１）の割合が３５モル％を超える。 （もっと読む）

【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン、下記一般式（Ｉ）で表される化合物、及びアルコキシスチレンを共重合して得られ、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^５〜２．５×１０^６である共重合体。
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【課題】充填材の分散性をより改善することができ、低発熱性、耐摩耗性に優れたゴム組成物及び該組成物を用いてなる、上記特性を有する空気入りタイヤを提供すること。
【解決手段】配合工程において充填材表面と反応する変性部位（Ａ）を分子構造中に含む変性ポリマー（Ｂ）５〜９０質量部と他のポリマー成分（Ｃ）９５から１０質量部からなるゴム成分において、他のポリマー成分（Ｃ）がポリマーの生産工程で添加された有機酸の残渣（Ｄ）を含み、そのゴム成分１００質量部に対して、補強性充填材（Ｅ）１０〜１５０質量部、前記（Ｄ）と配合時に添加される有機酸（Ｆ）との総和が３．５質量部以下であることを特徴とするゴム組成物である。 （もっと読む）

【課題】高感度及び高解像度であり、さらに、高透明性、高接着性、高バリア性を有する感光性樹脂組成物及びこの感光性樹脂組成物を用いて形成される透明絶縁膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂、（Ｂ）重合性多官能化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）溶剤を含むネガ型感光性樹脂組成物であって、（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂が、（ａ１）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸及び／又はエチレン性不飽和結合を有するカルボン酸無水物モノマーと、（ａ２）エチレン性不飽和結合を有し、かつ、オキセタン環を有するオキセタンモノマーと、（ａ３）エチレン性不飽和結合を有する不飽和モノマー（前記（ａ１）及び（ａ２）のモノマーを除く）と、の共重合体からなる樹脂である感光性樹脂組成物及びこの樹脂組成物を用いて形成された透明絶縁膜。 （もっと読む）

【課題】 釜内の減圧を効率良く行い、短時間でポリマ溶液内から有機溶剤を除去する方法を提供する。
【解決手段】 反応釜中のポリマ溶液を真空設備によって減圧状態にして有機溶剤を除去する方法において、加熱部を備えた反応釜１、蒸発させた有機溶剤を凝縮させるコンデンサ４、有機溶剤を回収するレシーバタンク５、レシーバタンク内の液を抜出すポンプ６、釜内を減圧する真空設備８、及び常圧のタンク７を備え、レシーバタンクに溜まった有機溶剤をレシーバタンク内の液を抜出すポンプ（送液ポンプ）により減圧状態の系内から系外の常圧タンクに移送するポリマ溶液からの有機溶剤除去方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、塩基性化合物成分（Ｃ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）が、式（ｂ１）で表される化合物を含有し、塩基性化合物成分（Ｃ）が、式（ｃ１）〜（ｃ３）で表される化合物の１つ以上を含むレジスト組成物。
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【課題】分子量が小さなポリマーやオリゴマーの混入が極めて低いフォトレジスト用樹脂を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明のフォトレジスト用樹脂の製造方法は、少なくとも単量体を含有する溶液を滴下重合する工程を有するフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、Ｔ₁（℃）に保持した反応容器に前記溶液を滴下し、前記溶液中に含有する全単量体の１５重量％以上、１００重量％以下が滴下終了した時点で、反応容器の温度を下記Ｔ₂（℃）まで降温する工程を有することを特徴とする。
Ｔ₂（℃）：（Ｔ₁−５０）（℃）以上、（Ｔ₁−５）（℃）以下 （もっと読む）