コポリマー、そのコポリマーを含むポリマー粒子、ポリマー粒子の製造方法、コポリマーバインダー、コポリマーバインダーの製造方法、近赤外線感応性コーティング組成物、ネガ型で機能するリソグラフィックオフセット印刷プレート、ネガ型で機能するリソグラフィックオフセット印刷プレートの製造方法、及びそのプレートに画像形成し、その画像形成されたプレートを用いて印刷する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】４級アンモニウム塩のブリードアウトを抑制でき、かつ、帯電防止機能を得ることができる紫外線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ハードコート層は、紫外線硬化型樹脂組成物を硬化して得られる。紫外線硬化型樹脂組成物は、４級アンモニウム塩基および（メタ）アクリロイル基を有するモノマーおよび／またはオリゴマー（Ａ）と、ヒドロキシ基および（メタ）アクリロイル基を有し、ヒドロキシ基当量が５００ｇ／ｍｏｌ以下であるモノマーおよび／またはオリゴマー（Ｂ）と、光重合開始剤とを含有する。 （もっと読む）

（ａ）核に結合した複数の側鎖を含む１種以上のマルチアーム型マクロモノマーであって、各側鎖が同一の又は異なる可逆的付加開裂連鎖移動（「ＲＡＦＴ」）剤のチオカルボニルチオ断片を含む、１種以上のマルチアーム型マクロモノマー、及び（ｂ）１種以上のバイオメディカルデバイス形成性モノマーを含む混合物の重合生成物から形成されるコンタクトレンズなどのバイオメディカルデバイスが開示される。 （もっと読む）

１種以上のエチレン系不飽和親水性モノマー又は１種以上のエチレン系不飽和疎水性モノマーのリビングラジカル重合から得られる親水性単位又は疎水性単位を含む１種以上のエチレン系不飽和含有非両親媒性マクロモノマーを含む混合物の重合生成物から形成されるコンタクトレンズなどのバイオメディカルデバイスが開示される。 （もっと読む）

【課題】 電気機器絶縁用樹脂組成物を用いた電気機器の電気絶縁浸漬処理を行う場合、除滴工程の時間が短く、硬化工程で乾燥機の汚染が少なく、コイルの固着性がより高く、耐湿熱性に優れた電気機器絶縁用樹脂組成物及びそれを用いて処理した電気機器を提供する。
【解決手段】 （Ａ）ポリエポキシドとα、β-不飽和塩基酸とを反応させ、更に不飽和二塩基酸を反応させて得られる不飽和エポキシエステル樹脂 １〜３０質量部、（Ｂ）ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレ−ト ５〜５０質量部、（Ｃ）トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート ０〜３０質量部、（Ｄ）３官能以上のアクリル基を持つアクリレートまたは３官能以上のメタクリル基を持つメタクリレート ５〜３０質量部、（Ｅ）メタクリル酸２−ヒドロキシエチル ３０〜９０質量部を含有してなる電気機器絶縁用樹脂組成物。この組成物を浸漬処理方法を用いて電気絶縁処理してなる電気機器。 （もっと読む）

【課題】高い耐擦傷性と良好な撥水性を兼ね備えたナノ凹凸構造体を形成できる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、及びそれを用いたナノ凹凸構造体とその製造方法、及びナノ凹凸構造体を備えた撥水性物品の提供。
【解決手段】硬化したときの表面自由エネルギーが３７ｍＪ／ｍ^２以上である多官能モノマー（Ａ）を６０〜９７質量部、硬化したときの表面自由エネルギーが３０ｍＪ／ｍ^２以下であるモノマー（Ｂ）を３〜２９質量部含む重合反応性モノマー成分と、重合反応性モノマー成分１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の活性エネルギー線重合開始剤（Ｄ）とを含有し、（Ａ）は分子内に３個以上のラジカル重合性官能基を有し、かつ分子量をラジカル重合性官能基の数で除した値が１１０〜２００であり、（Ｂ）は分子内に１個以上のラジカル重合性官能基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】スリット塗布法を採用した場合であっても、塗膜に微小な凹凸からなるムラを発生させることなく、高速塗布が可能であり組成物溶液の省液化を可能にする感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤及び（Ｄ）下記式（１）で示される溶剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。


（式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、炭素数４又は５の直鎖状又は分岐状のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】従来の粘着剤が、粘着力と耐熱性のバランスが充分ではなく、粘接着剤が、重合体が非感光性である場合は耐熱性が不充分であり、感光性である場合は耐熱性と密着性を両立させることが困難であるという問題点が解決された、光学フィルム用活性エネルギー線硬化型組成物の提供。
【解決手段】不飽和二重結合に置換基を有することもあるマレイミド基及び当該マレイミド基以外のエチレン性不飽和基を有する分子量１，０００以下の化合物（Ａ）、ウレタン結合及びエチレン性不飽和基を有する重量平均分子量３，０００以上の化合物（Ｂ）、（Ａ）及び（Ｂ）成分以外のエチレン性不飽和基を有する化合物（Ｃ）を含む活性エネルギー線硬化型組成物であって、活性エネルギー線照射で半硬化させ粘接着性硬化膜を形成させ、光学フィルム又はシートの製造に使用する。 （もっと読む）

【課題】防汚性と密着性に優れ、かつ薄膜化された場合も高硬度を有する被膜を形成できるラジカル重合性組成物を提供する。
【解決手段】ポリアルキレンオキサイド鎖を側鎖に有するポリシロキサン（ａ）由来の構造を有するウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）、前記ポリアルキレンオキサイド鎖を側鎖に有するポリシロキサン（ａ）由来の構造を有さないウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ）、及びシリカ粒子（Ｃ）を含有してなり、前記ウレタン（メタ）アクリレート（Ａ）は、ポリアルキレンオキサイド鎖を側鎖に有するポリシロキサン（ａ）の活性水素原子含有基と、水酸基及び２個以上の重合性不飽和二重結合を有する重合性単量体（ｄ）の水酸基とが、イソシアネート基含有化合物（ｂ）を介して結合したものであるラジカル重合性組成物、前記ラジカル重合性組成物からなる被覆材、並びに、基材表面に、前記被覆材を硬化させて得られる被膜を有する複合体。 （もっと読む）

【課題】取扱が容易で自己修復力が高く、さらに加工性や反り性に優れた塗膜を与える光硬化性組成物の提供。
【解決手段】（ａ）一般式（Ｉ）


（式中、Ａはジエン系ポリマー残基を示し、Ｒ_１は脂肪族、脂環族または芳香族系のジイソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた残基であり、Ｒ_２は、それぞれ独立して、炭素数６〜５０の芳香族基、炭素数２〜２０の脂肪族基、炭素数６〜５０の脂環族基を示し、Ｒ_３は水素原子またはメチル基を示し、ｎは１〜１０の自然数を示す。）を有する（メタ）アクリロイル基を有する反応性ポリマー１００質量部に対し、（ｂ）光重合開始剤０．１〜１０質量部を含むことを特徴とする自己修復性を有する光硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】被覆層の製造効率が良好で、十分な強度を有するとともに中心導体に対する密着性が良好な電線被覆用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）、（Ｂ）ならびに（Ｄ）；
（Ａ）脂肪族系ポリオール由来の構造部分を２個以上有するウレタン（メタ）アクリレート、
（Ｂ）環状構造及び１個のエチレン性不飽和基を有する化合物、
（Ｄ）下記式（４ａ）で表される化合物
【化１】


（式（４ａ）中、Ｒ⁸はエチレン性不飽和基を有する１価の有機基であり、Ｒ⁹は水素原子又はエチレン性不飽和基を有していてもよい１価の有機基である）
を含有する電線被覆用放射線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】被覆層の製造効率が良好で、十分な強度を有するとともに中心導体に対する密着性が良好な電線被覆用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）、（Ｂ）ならびに（Ｄ）；
（Ａ）脂肪族系ポリオール由来の構造を有するウレタン（メタ）アクリレート、環式ポリオール由来の構造を有するウレタン（メタ）アクリレートおよびポリオール由来の構造を有しないウレタン（メタ）アクリレートの混合物、
（Ｂ）環状構造及び１個のエチレン性不飽和基を有する化合物、
（Ｄ）下記式（４ａ）で表される化合物
【化１】


（式（４ａ）中、Ｒ⁸はエチレン性不飽和基を有する１価の有機基であり、Ｒ⁹は水素原子又はエチレン性不飽和基を有していてもよい１価の有機基である）
を含有する電線被覆用放射線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 環境負荷の少ない、電子部品、フラットパネルディスプレイの防湿絶縁に適した光硬化性防湿絶縁塗料に利用される光硬化性樹脂組成物、及び絶縁処理された信頼性の高い電子部品等を提供する。
【解決手段】 （Ａ）（ａ１）ポリオレフィンポリオール化合物、（ａ２）ヒドロキシル基を有するエチレン性不飽和化合物及び（ａ３）１分子中にイソシアネート基を２個以上有する化合物、を反応させて得られるエチレン性不飽和二重結合を有するウレタン化合物と、（Ｂ）多環系脂肪族基を含む光重合性単量体と、（Ｃ）ビニルエーテル基を有する光重合性単量体と、（Ｄ）光重合開始剤とを含有してなる光硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】被覆層の製造効率が良好で、十分な強度を有するとともに中心導体に対する密着性が良好な電線被覆用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）、（Ｂ）ならびに（Ｄ）；
（Ａ）脂肪族系ポリオール由来の構造部分を２個以上有するウレタン（メタ）アクリレート、
（Ｂ）環状構造及び１個のエチレン性不飽和基を有する化合物、
（Ｄ）下記式（４ａ）で表される化合物
【化１】


（式（４ａ）中、Ｒ⁸はエチレン性不飽和基を有する１価の有機基であり、Ｒ⁹は水素原子又はエチレン性不飽和基を有していてもよい１価の有機基である）
を含有する電線被覆用放射線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】厚膜の硬化膜を得る場合でもパターン寸法安定性等に優れた良好なパターンを得ることができ、尚且つ、遮光性成分としてカーボン等の導電性材料を用いた場合でも体積抵抗の低下のない感光性樹脂組成物、及びこれを用いて形成した硬化膜と隔壁を提供する。
【解決手段】（イ）光硬化性樹脂及び／又は光硬化性単量体、及び（ロ）アクリル樹脂粒子を必須成分とする感光性樹脂組成物であって、（ロ）成分のアクリル樹脂粒子の一次粒子径の平均値が５０〜２００ｎｍであり、前記組成物中のアクリル樹脂粒子（ロ）と光硬化性樹脂及び／又は光硬化性単量体（イ）との重量比（（ロ）／（イ））が０．１〜２．０の範囲であることを特徴とする感光性樹脂組成物であり、また、これを用いて硬化膜と隔壁を形成する。 （もっと読む）

【課題】高い吸水性を有し、吸水時に、優れた力学的性質を有する柔軟性に富んだ有機無機複合体を提供する。
【解決手段】ラジカル重合性モノマー（Ａ）の重合体と、水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）とからなる有機無機複合体であって、
前記重合体が、下記構造式（１）で表されるモノマー（Ａ１）を含有するラジカル重合性モノマー（Ａ）を重合して得られる重合体であり、
前記水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）の有機無機複合体中の質量割合｛（水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）の質量）÷（水膨潤性粘土鉱物（Ｂ）の質量＋ラジカル重合性モノマー（Ａ）の重合体の質量）×１００％｝が、１〜２０質量％であることを特徴とする有機無機複合体。
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基、Ｒ^２はメチル基又はエチル基、ｎは２〜１００の整数である。） （もっと読む）

【課題】相溶性に優れるシルセスキオキサンの提供。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記有機基の少なくとも１つが下記（Ｉ）で表される有機基であるシルセスキオキサン。


［式中、ＸはＯ又はＮＨを、Ｒ^１、Ｒ^２は炭素数１〜４の２価の炭化水素基を、Ｒ^３は（メタ）アクリロイルオキシ基を有する有機基を、Ｒ^４は水素原子又はメチル基を、Ｒ^５は炭素数１〜３０の有機基を、ｍは０〜２の整数を示す。］ （もっと読む）

【課題】プラスチック表面の耐指紋性、耐擦傷性、硬度を付与する紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層を有する転写材を提供すること。
【解決手段】分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物（Ａ）及びポリエーテル骨格部分の数平均分子量が６００〜５０００であるポリエーテル骨格を有し１〜２個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）を含有する紫外線硬化型樹脂組成物の層又は該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層を有することを特徴とする転写材。 （もっと読む）

【課題】環境に優しいと共に、ＵＶ硬化性に優れ、また耐熱性、密着性及び柔軟性に優れる硬化物を形成できる光硬化性樹脂及びそれを含有する光硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される光硬化性樹脂（Ａ）、及び該光硬化性樹脂に酸無水物（ｄ）を反応させてなるカルボキシル基含有光硬化性樹脂（Ａ’）、並びに該光硬化性樹脂（Ａ）及び／又はカルボキシル基含有光硬化性樹脂（Ａ’）、及び光重合開始剤（Ｂ）を必須成分として含有する光硬化性樹脂組成物。
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【課題】 作業性が良好で、臭気が少なく、また、熱劣化後の電気絶縁性が良好で、高固着の保持性が良好な電気絶縁用樹脂組成物、これを用いた電気機器絶縁物の製造方法を提供する。
【解決手段】 分子鎖中にイミドジカルボン酸と、α，β−不飽和二塩基酸と１個以上の水酸基を持つアルコールを必須成分として得られる不飽和ポリエステルイミド（Ａ）と、２０℃の蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以下である不飽和基を有する反応性希釈剤（Ｂ）、分子中に1個の水酸基を有する主鎖が脂肪族の単官能（メタ）アクリレ−ト及び／または分子中に1個の水酸基を有する主鎖が脂肪族で分子末端にアリル基を有する化合物（Ｃ）、および２または３個のメチルオキシ基を含有するシランカップリング剤（Ｄ）を必須材料としてなる電気絶縁用樹脂組成物。 （もっと読む）