【課題】カルバゾイル基を有する化合物を含む成形体であって、十分な靭性を有する透明性に優れた成形体、および、このような成形体を形成し得る硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される構造と２個以上のラジカル重合性二重結合とを１分子中に有する化合物を含む、硬化性組成物。


（式中、Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。ＯＡは、直鎖または分岐のオキシエチレン、オキシプロピレン、およびオキシブチレンからなる群より選択される少なくとも１種のオキシアルキレン鎖を表す。ｎは、１〜１００の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】異種重合性単量体から得られるビニル系重合体を含有した硬化性樹脂組成物において、得られる硬化物が、高透明性、高屈折率および高硬度を有し、硬化収縮の小さい光学材料用硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）：


［式中、Ｒ¹は炭素数２〜８のアルキレン基、Ｒ²は水素原子またはメチル基、ｍは正の数である］
で示される繰返し構造単位を有するビニル系重合体と、平均粒子径が１ｎｍ〜１００ｎｍの酸化ジルコニウム粒子とを含有することを特徴とする光学材料用硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い難燃性を有しており、光感度に優れ、その硬化膜は、現像性、硬化性、密着性、ＰＣＴ耐性、柔軟性等も十分に満足する反応性化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ₁、Ｒ₂は炭素数１〜１０の直鎖または分岐状の炭化水素基を表わし、且つＲ₁、Ｒ₂の何れか1種以上のアルキレン基中に水酸基を少なくとも１以上含有する。Ｒ₁、Ｒ₂は、互いに同一であっても、異なっていてもよい。）で表されるアルコール化合物（ａ）と分子中にエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物（ｂ）を反応させて得られる反応性化合物（Ａ）。 （もっと読む）

【課題】難燃性に優れ、かつ、組成物中の他成分との相溶性に優れ、現像性及び感光性に優れる新規な難燃性感光性樹脂、及び現像性、感光性に優れる既樹脂を含む組成物、及び、難燃性、耐熱性、耐薬品性、機械特性、電気絶縁性、基材密着性等に優れる既樹脂を含む組成物の硬化物を提供する。
【解決手段】特定構造の化合物（Ａ）中の燐原子に結合している活性水素と、 化合物（Ａ）中の燐原子に結合している活性水素と反応して水酸基を生成する官能基（ｂ）を有する化合物（Ｂ）中の官能基（ｂ）とを反応させてなる化合物中の水酸基と、 更に１分子中に不飽和二重結合基及びイソシアネート基を有する化合物（Ｃ）中のイソシアネート基と、 を反応させてなる難燃性感光性樹脂。 （もっと読む）

【課題】耐熱性などに優れたフルオレン骨格を有する新規なウレタン（メタ）アクリレートを提供する。
【解決手段】特定のフルオレン骨格を有する化合物［例えば、９，９−ビス（モノ又はジＣ_１−４アルキル−ヒドロキシ（ポリ）Ｃ_２−４アルコキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（モノ又はジＣ_６−８アリール−ヒドロキシ（ポリ）Ｃ_２−４アルコキシ−フェニル）フルオレン、９，９−ビス（ヒドロキシ（ポリ）Ｃ_２−４アルコキシナフチル）フルオレンなど］と、ポリイソシアネート化合物と、イソシアネート基に対する反応性基を有する（メタ）アクリル系化合物（例えば、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートなど）とを反応成分としてウレタン（メタ）アクリレートを得る。 （もっと読む）

光ファイバのための新規な放射線硬化性二次被覆が記述され特許請求されているが、ここで、前記組成物が二次被覆オリゴマーブレンド物を含み、そのブレンド物を、第一の希釈剤モノマー；第二の希釈剤モノマー；場合によっては、第三の希釈剤モノマー；抗酸化剤；第一の光重合開始剤；第二の光重合開始剤；および場合によってはスリップ添加剤もしくはスリップ添加剤のブレンド物と混合し；前記二次被覆オリゴマーブレンド物が、α）オメガオリゴマー；およびβ）ウプシロンオリゴマー；を含み、前記オメガオリゴマーが、α１）ヒドロキシル含有（メタ）アクリレート；α２）イソシアネート；α３）ポリエーテルポリオール；およびα４）トリプロピレングリコール；との、α５）重合防止剤；およびα６）触媒；の存在下による反応により合成されて、オメガオリゴマーが生成し；前記触媒が、ジブチルスズジラウレート金属カルボキシレート、非限定的に挙げれば、オルガノビスマス触媒たとえば、ビスマスネオデカノエート；亜鉛ネオデカノエート；ジルコニウムネオデカノエート；亜鉛２−エチルヘキサノエート；スルホン酸、非限定的に挙げれば、たとえばドデシルベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸；アミノまたは有機塩基触媒、非限定的に挙げれば、１，２−ジメチルイミダゾールおよびジアザビシクロオクタン；トリフェニルホスフィン；ジルコニウムおよびチタンのアルコキシド、非限定的に挙げれば、ジルコニウムブトキシドおよびチタンブトキシド；ならびにイオン性液状ホスホニウム塩；およびテトラデシル（トリヘキシル）ホスホニウムクロリドからなる群から選択され、そしてここで、前記ウプシロンオリゴマーがエポキシジアクリレートである。 （もっと読む）

【課題】塗膜としたときに低屈折率性、透明性、防汚性、撥水撥油性、表面滑り性及び耐擦傷性等の特性を有し、かつ汎用有機溶剤への可溶性や貯蔵安定性に優れる含フッ素ランダム共重合体あるいは二重結合含有含フッ素ランダム共重合体、あるいはこれらを含む組成物を提供すること。
【解決手段】特定のフルオロオレフィン（A）１０〜７５モル％、特定のフルオロアルキルパーフルオロビニルエーテル（B）４〜７０モル％、特定の水酸基含有不飽和単量体（C）１０〜７０モル％、特定のポリシロキサン化合物（D）０．００１〜１０モル％を含んでなり、かつ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が5,000〜300,000であり、重量平均分子量／数平均分子量で表される分子量分布が1.0〜5.0の範囲であることを特徴とする含フッ素ランダム共重合体。 （もっと読む）

【課題】 微細なパターンを高い精度で効率よく安定して形成することができるナノインプリント用樹脂組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】 本発明のナノインプリント用樹脂組成物は側鎖にラジカル反応性基と酸基とを有する樹脂を含むことを特徴としている。前記側鎖にラジカル反応性基と酸基とを有する樹脂としては、例えば、酸基含有(メタ)アクリル樹脂（Ａ）と、ラジカル重合性基及びエポキシ基を有する化合物（Ｂ）との反応生成物を用いることができる。本発明の微細構造物は、（１）上記本発明のナノインプリント用光硬化性樹脂組成物をを塗布して被膜を形成する工程、（２）前記被膜にナノスタンパを用いてパターンを転写する工程、及び（３）パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程を含む方法により製造できる。 （もっと読む）

【課題】ポリマークラッド光ファイバのクラッド材として好適な特性を備え、特に、低い屈折率と安定した透明性、良好な塗布性、コア層との密着性、強度・柔軟性に優れた放射線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】組成物全量を１００質量％として、
（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体を２０〜６５質量％、
（Ｂ）下記式で表される化合物を２０〜６０質量％、
ＣＨ₂＝ＣＲ⁸ＣＯＯ（ＣＨ₂）_x（ＣＦ₂）_yＸ
［式中、Ｒ⁸は水素原子またはメチル基を示し、Ｘは水素原子またはフッ素原子を示し、ｘは１〜２を示し、ｙは２〜８を示す］
ならびに
（Ｃ）（Ａ）成分および（Ｂ）成分以外であって、芳香族構造および極性基を有さず、エチレン性不飽和基を２以上有する化合物を１０〜３５質量％
含有する放射線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光学材料等に好適な、含硫黄多分岐化合物及び不飽和基含有多分岐化合物を提供する。
【解決手段】（ａ）分子中にｘ個（ｘは２以上）のオキセタン環を有する化合物と、（ｂ）分子中にｙ個（ｙは２以上、但しｘが２のときｙは３以上）のチオール基を有する化合物との反応により得られる含硫黄多分岐化合物。前記含硫黄多分岐化合物に、さらに（メタ）アクリル酸無水物を反応させて得られる不飽和基含有多分岐化合物。 （もっと読む）

【課題】ポリマークラッド光ファイバのクラッド材として好適な特性を備え、特に、低い屈折率と安定した透明性、良好な塗布性、コア層との密着性、強度・柔軟性に優れた放射線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】組成物全量を１００質量％として、
（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体を２０〜６５質量％、
（Ｂ）下記式で表される化合物を２０〜６０質量％、
ＣＨ₂＝ＣＲ⁸ＣＯＯ（ＣＨ₂）_x（ＣＦ₂）_yＸ
［式中、Ｒ⁸は水素原子またはメチル基を示し、Ｘは水素原子またはフッ素原子を示し、ｘは１〜２を示し、ｙは２〜８を示す］
ならびに
（Ｃ）（Ａ）成分および（Ｂ）成分以外であって、芳香族構造および極性基を有さず、エチレン性不飽和基を２以上有する化合物を１０〜３５質量％
含有する放射線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリマークラッド光ファイバのクラッド材として好適な特性、特に、低い屈折率と安定した透明性、良好な塗布性、コア層との密着性、強度・柔軟性に優れた放射線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】組成物全量を１００質量％として、
（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体を２０〜６５質量％、
（Ｂ）炭素数が１１〜１８である２−パーフルオロアルキルエチル（メタ）アクリレートを２０〜６０質量％、ならびに
（Ｃ）（Ａ）成分および（Ｂ）成分以外であって、芳香族構造および極性基を有さず、エチレン性不飽和基を２以上有する化合物を１０〜３５質量％
含有する放射線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリマークラッド光ファイバのクラッド材として好適な特性、特に、低い屈折率と安定した透明性、良好な塗布性、コア層との密着性、強度・柔軟性に優れた放射線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】組成物全量を１００質量％として、
（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体を２０〜６５質量％、
（Ｂ）炭素数が１１〜１８である２−パーフルオロアルキルエチル（メタ）アクリレートを２０〜６０質量％、ならびに
（Ｃ）（Ａ）成分および（Ｂ）成分以外であって、芳香族構造および極性基を有さず、エチレン性不飽和基を２以上有する化合物を１０〜３５質量％
含有する放射線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 硬化物の可撓性や耐熱性が良好なものとなり、特にフレキシブルプリント配線板用途における基板フィルムとの密着性が良好で、かつ、優れた可撓性及びはんだ耐熱性をフレキシブルプリント配線板に付与し得る硬化性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】 メチレン基、アルキリデン基、及び芳香族炭化水素構造含有メチレン基から選択される２価の炭化水素基を介してアルコキシ基含有縮合多環式芳香族炭化水素基を他の構造部位と結合した化学構造（Ｉ）を部分構造として分子構造内に有するカルボキシル基含有光重合性樹脂と光重合開始剤とエポキシ樹脂とを必須成分とする。 （もっと読む）

【課題】硬度、耐熱性などに優れたフルオレン骨格を有する新規なウレタン（メタ）アクリレートを提供する。
【解決手段】３以上のヒドロキシル基を有する特定のフルオレン骨格を有する化合物｛例えば、９，９−ビス［３，４−ジ（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［３，４，５−トリ（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンなど｝と、ポリイソシアネート化合物（例えば、ジイソシアネート、ポリマージオール化合物とジイソシアネートとが反応した両末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーなど）と、イソシアネート基に対する反応性基を有する（メタ）アクリル系化合物（例えば、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートなど）とを反応成分としてウレタン（メタ）アクリレートを得る。 （もっと読む）

【課題】オリゴマー単独で高いハードコート性を有し、かつ十分な低カール性を有する感光性材料を提供する。
【解決手段】酸無水物基を有する化合物（Ａ）中の酸無水物基と、酸無水物基に反応しうる１つの官能基と３つ以上の不飽和二重結合とを有する化合物（Ｂ）、および、酸無水物基に反応しうる２つ以上の官能基を有する化合物（Ｃ）中の酸無水物基に反応しうる官能基と、を反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｄ）中のカルボキシル基と、さらに、カルボキシル基に反応しうる官能基を有する化合物（Ｅ）中のカルボキシル基に反応しうる官能基と、を反応させてなり、重量平均分子量が４，０００以上である化合物（Ｆ）を含む感光性材料。 （もっと読む）

光ファイバのための一次被覆として使用するための放射線硬化性被覆、前記被覆を用いて被覆された光ファイバ、ならびに被覆された光ファイバを調製するための方法である。本発明は、オリゴマー；第一の希釈剤モノマー；第二の希釈剤モノマー；第三の希釈剤モノマー；第一の光安定剤；第一の光重合開始剤；第二の光重合開始剤；抗酸化剤；第二の光安定剤；および接着促進剤を含む放射線硬化性一次被覆組成物を提供するが、ここで、前記オリゴマーが、ヒドロキシル含有アクリレート；イソシアネート；ポリエーテルポリオール；重合防止剤；触媒；および希釈剤の反応生成物であり、ここで、前記オリゴマーが、少なくとも約４０００ｇ／ｍｏｌから約１５，０００ｇ／ｍｏｌ以下までの数平均分子量を有し、そして前記触媒が、ナフテン酸銅；ナフテン酸コバルト；ナフテン酸亜鉛；トリエチルアミン；トリエチレンジアミン；２−メチルトリエチレンアミン；ジブチルスズジラウレート；金属カルボキシレート、非限定的に挙げれば、オルガノビスマス触媒たとえば、ビスマスネオデカノエート；亜鉛ネオデカノエート；ジルコニウムネオデカノエート；亜鉛２−エチルヘキサノエート；スルホン酸、非限定的に挙げれば、たとえばドデシルベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸；アミノまたは有機塩基触媒、非限定的に挙げれば、１，２−ジメチルイミダゾールおよびジアザビシクロオクタン；トリフェニルホスフィン；ジルコニウムおよびチタンのアルコキシド、非限定的に挙げれば、ジルコニウムブトキシドおよびチタンブトキシド；ならびにイオン性液状ホスホニウム塩；およびテトラデシル（トリヘキシル）ホスホニウムクロリドからなる群から選択され、そしてここで、前記放射線硬化性一次被覆組成物の硬化膜が、約−２５℃〜約−５５℃のピークｔａｎＤＴｇと、約０．８５ＭＰａ〜約１．１０ＭＰａの弾性率とを有する。 （もっと読む）

光ファイバのための一次被覆として使用するための放射線硬化性被覆、前記被覆を用いて被覆された光ファイバ、ならびに被覆された光ファイバを調製するための方法である。その放射線硬化性被覆には、少なくとも１種の（メタ）アクリレート官能性オリゴマーおよび光重合開始剤を含み、ここで、そのウレタン−（メタ）アクリレートオリゴマーＣＡ／ＣＲが、（メタ）アクリレート基、少なくとも１本のポリオール主鎖およびウレタン基を含み、ここで、そのウレタン基の約１５％以上が、２，４−および２，６−トルエンジイソシアネートの一方または両方から誘導され、ここで、そのウレタン基の少なくとも１５％が、環状または分岐状の脂肪族イソシアネートから誘導され、そしてここで、前記（メタ）アクリレート官能性オリゴマーが、少なくとも約４０００ｇ／ｍｏｌから約１５，０００ｇ／ｍｏｌ以下までの数平均分子量を有し、そしてここで、その放射線硬化性一次被覆組成物の硬化膜が、約１．２ＭＰａ以下の弾性率を有する。 （もっと読む）

本発明は、スーパーコーティングを用いて被覆された光ファイバを提供するが、ここで、そのスーパーコーティングが、少なくとも２層を含み、ここで、その第一の層が、光ファイバの外側表面と接触状態にある一次被覆であり、その第二の層が、その一次被覆の外側表面と接触状態にある、二次被覆であり、ここで、その光ファイバの上の硬化された一次被覆が、最初の硬化後と、８５℃、相対湿度８５％で１ヶ月間エージングさせた後には以下の性質：Ａ）％ＲＡＵ：約８４％〜約９９％；Ｂ）インサイチュ弾性率：約０．１５ＭＰａ〜約０．６０ＭＰａの間；およびＣ）チューブＴｇ：約−２５℃〜約−５５℃を有し、ここで、その光ファイバの上の硬化された二次被覆が、最初の硬化後と、８５℃、相対湿度８５％で１ヶ月間エージングさせた後には以下の性質：Ａ）％ＲＡＵ：約８０％〜約９８％；Ｂ）インサイチュ弾性率：約０．６０ＧＰａ〜約１．９０ＧＰａの間；およびＣ）チューブＴｇ：約５０℃〜約８０℃を有する。 （もっと読む）

【課題】フルオロスピロケタール構造を有する新規な重合体を提供する。
【解決手段】下記単位（Ａ）を含む重合体、下記単位（Ｂ）を含む重合体、および下記単位（Ａ）を含む重合体を硬化させて得た硬化物（ただし、Ｑ^Ｆは単結合またはペルフルオロ２価飽和有機基であり、Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子または１価有機基である。）。
【化２６】
（もっと読む）