【課題】十分な反射防止性を有しながら耐擦傷性・防汚性の向上した反射防止フィルムを提供すること、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板や画像表示装置を提供すること。
【解決手段】特定の構造を有する水酸基含有分岐ポリグリセロール変性シリコーンと、含フッ素共重合体とを含有する塗布液組成物を硬化させることによって形成された低屈折率層を含む反射防止フィルム、そのような反射防止フィルムが、偏光板における偏光膜の２枚の保護フィルムのうちの一方に用いられている偏光板、及びそのような反射防止フィルム又は偏光板がディスプレイの最表面に用いられている画像表示装置。 （もっと読む）

（ａ）アルデヒドベースのレドックス開始剤を供給する工程；及び（ｂ）前記レドックス開始剤と、複数の水素化物末端キャップ成分を有するシロキサンとを反応させて、複数の末端アルデヒド成分を有するシロキサンポリマーを生成させる工程；を含むシロキサンポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 低誘電率、高機械的強度を有し、疎水性の改良された多孔質膜及びその作製方法、この多孔質膜の前駆体組成物及びその調製方法、並びにこの多孔質膜を利用した半導体装置の提供。
【解決手段】 式：Ｓｉ(ＯＲ^１)_４及びＲ_ａ(Ｓｉ)(ＯＲ^２)_４−ａ(式中、Ｒ^１は１価の有機基を表し、Ｒは水素原子、フッ素原子又は１価の有機基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表し、ａは１〜３の整数であり、Ｒ、Ｒ^１及びＲ^２は同一であっても異なっていてもよい)で示される化合物から選ばれた化合物と、熱分解性有機化合物と、触媒作用をなす元素と、尿素等とを含む。この前駆体組成物から得られた多孔質膜に対して紫外線照射した後、疎水性化合物を気相反応させる。得られた多孔質膜を用いて半導体装置を得る。 （もっと読む）

【課題】発光素子封止材等、透明性、耐熱性、耐光性、耐熱変色性が求められる用途に用いることが可能なエポキシ変性シリコーン及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】オルガノハイドロジェンシリコーンのＳｉＨ単位に対し、エポキシ基を有するビニル化合物をヒドロシリル化反応により付加して得られるエポキシ変性シリコーンであって、炭素−炭素二重結合を有する化合物の残留量がエポキシ変性シリコーンに対し２質量％以下であるエポキシ変性シリコーン。 （もっと読む）

本発明は、ａモル％のジメチルシロキサン、−Ｋ−ＲＩＭで置換されたｂモル％のシロキサン、−Ｋ−ＲＩＭ−Ｚで置換されたｃモル％のシロキサン及び−Ｌ−Ｚで置換されたｄモル％のシロキサンを有するポリジメチルシロキサン主鎖を有するマクロモノマーに関し、そこでは、末端シロキサン基が、Ｒで３置換され、ＲＩＭは、屈折率調整基であり；Ｚはラジカル重合性基であり；Ｋはスペーサー基であり；Ｌは選択的であり、そしてスペーサー基であり；各Ｒは、ＲＩＭ、低級アルキル基、水素又はＺから独立して選択され；そしてａは０〜９５モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であり；ｂは５〜９９モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であり；ｃは０〜２モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であり；そしてｄは０〜２モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であるが；ただし、ｃ及びｄは同時に０モル％ではない。 （もっと読む）

本発明は、同一の又は異なる（有機）ケイ素化合物Ｐが有する少なくとも１個の≡ＳｉＯＨ単位と少なくとも１個の≡ＳｉＯＲ単位（ここで、Ｒは水素又は随意に１個以上のヘテロ原子を有するＣ₁〜Ｃ₂₀炭化水素基である）とを有効量の少なくとも１種の触媒Ｃの存在下で縮合させる方法であって、前記触媒Ｃがカルベンであることを特徴とする、前記方法に関する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐紫外線性および耐湿熱性に優れた硬化体を与える、金属酸化物微粒子が高度に分散したポリシロキサン組成物およびその製造方法の提供。
【解決手段】下記式（１）
Ｒ¹_nＳｉ（ＯＲ²）_4-n （１）（式中、Ｒ¹は、炭素数１〜８の１価の有機基を示し、Ｒ²は、それぞれ独立に、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜６のアシル基を示し、ｎは０〜１の整数である。）で表される少なくとも１種のオルガノシラン化合物と、重量平均分子量が３００〜２０００の範囲にあるヒドロキシ末端ジメチルシロキサンオリゴマーとを脱アルコール反応させた後、さらに加水分解・縮合させて得られる、重量平均分子量が３，０００〜１００，０００の範囲にあることを特徴とする多官能ポリシロキサンと、金属酸化物微粒子とを、有機溶媒中、塩基性化合物、酸性化合物または金属キレート化合物の存在下で混合して、前記金属酸化物微粒子を有機溶媒中に分散させる。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、耐熱性、耐紫外線性および耐湿熱性に優れたポリシロキサン系硬化体、ならびに該硬化体が得られる、金属酸化物微粒子が高度に分散したポリシロキサン組成物およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】上記ポリシロキサン組成物は、有機溶媒中、塩基性化合物、酸性化合物または金属キレート化合物の存在下で、(Ａ）金属酸化物微粒子、および（Ｂ１）下記平均組成式（１）Ｒ¹_aＳｉＯ_b（ＯＲ²）_c （１）で表され、ポリスチレン換算の重量平均分子量が３，０００以上１００，０００以下のアルコキシ末端の多官能ポリシロキサン（ｂ１）と、重量平均分子量が２，０００以上１００，０００以下のヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサン（ｂ２）とを、重量比（ｂ１／ｂ２）が３０／７０〜９５／５で脱アルコール反応させて得られる多官能ポリシロキサンを混合して、前記金属酸化物微粒子（Ａ）を有機溶媒中に分散させて得られる。 （もっと読む）

その加水分解性サイトの加水分解に際して、すべてが加水分解可能なアルコキシ基である加水分解性サイトを同数にて有するシランの加水分解によって生成される揮発性有機化合物と比較して、減少した量の揮発性有機化合物を生成するエポキシシランを加水分解させることを包含する、低ＶＯＣエポキシシランオリゴマーの製造方法であって、前記エポキシシランの加水分解が１．５当量未満の水を用いて行われ、加水分解反応の間に前記水が連続的に供給される、方法。 （もっと読む）

【課題】発光素子封止剤等、特に透明性が求められる用途に用いることが可能な優れた色調を有すると共に、保存安定性が改善された変性シリコーンを、工業的に効率よく、安定的に、再現性よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】
ヒドロシリル化触媒および溶媒の存在下において、オルガノハイドロジェンシリコーン中のＳｉＨ単位とビニル化合物とをヒドロシリル化反応させる変性シリコーンの製造方法において、前記ヒドロシリル化反応を完結させる前に、分子内に１個以上のビニル基を有するケイ素化合物を添加する変性シリコーンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体発光素子または半導体受光素子を封止材で封止した半導体光装置において、封止材が劣化し難くまた吸水率が低い半導体光装置を提供する。
【解決手段】次のかご型シルセスキオキサン化合物、又はこの化合物が部分付加反応した部分重合物を含有するケイ素化合物で、半導体発光素子又は半導体受光素子を封止する。
（ＡＲ^１Ｒ^２ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｎ（ＢＲ^３Ｒ^４ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｓ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｍ−ｎ−ｓ}
（Ｒ^５Ｒ^６ＨＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｑ（ＥＲ^７Ｒ^８ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｒ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｐ−ｑ−ｒ}
（Ａは炭素−炭素不飽和結合を有する鎖状炭化水素基、Ｂ及びＥは飽和アルキル基あるいは水酸基、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^６，Ｒ^７，Ｒ^８はメチル基又はフェニル基等、ｍ及びｑは６，８，１０，１２から選ばれた数、ｎは２〜ｍの整数、ｑは２〜ｐの整数、ｒは０〜ｐ−ｑの整数、ｓは０〜ｍ−ｎ） （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される含フッ素ケイ素化合物。


(Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｙは二価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。)
【効果】本発明は、膨潤によるパターン崩壊を極力抑制して微細パターン形成を可能とする適度な酸性を有し、かつ、有機膜へのパターン転写の際のエッチング条件に対し優れたエッチング耐性を実現するために必要十分な数のフッ素置換によりこの適度な酸性を実現するケイ素化合物とシリコーン樹脂を提供し、このため、特にＡｒＦ露光における二層レジストの原料として好適である。 （もっと読む）

【課題】従来の乾燥ゲルは、温度変化による膨張収縮の度合いが小さいため、乾燥ゲルを他の物体に取り付けて用いる場合、他の物体と乾燥ゲルとの温度変化による伸縮の度合いが大きく異なり、強度の弱い乾燥ゲルに割れが生じたり、剥離したりする課題がある。
【解決手段】本発明の乾燥ゲルは、それを構成する材料の工夫により柔軟性をもたせる。柔軟性は、乾燥ゲルの材料であるオルガノシラン化合物９を、加水分解性有機基１２と、非加水分解性有機基１０が同一のケイ素１１に直接結合したものを含有するようにすることで得られる。 （もっと読む）

【課題】塗膜表面への汚染物質の付着を抑制することができ、十分な遮熱機能を発揮することができる塗料組成物を提供する。
【解決手段】塗料用樹脂の固形分１００重量部に対し、赤外線透過性粉体及び／または赤外線反射性粉体を１〜２００重量部、シリケート化合物をＳｉＯ_２換算で０．１〜２０重量部含有し、前記シリケート化合物として、テトラアルコキシシラン縮合物（ａ）が、一分子中に水酸基を３個以上有し分子量が５００未満である多価アルコール（ｂ）によって変性された変性シリケート化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】低誘電率で均一な塗膜性に優れる絶縁膜を形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物及び／またはその加水分解物及び／またはそれらの縮合物と有機溶剤を含む膜形成用組成物であって、該化合物及び／またはその加水分解物及び／またはそれらの縮合物が粒径２ｎｍから１５ｎｍの粒子状物である。


（Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は水素原子または任意の置換基を表す。Ｘ₁は炭素原子またはケイ素原子を表す。Ｌ₁は２価の連結基を表す。Ｒ₁、Ｒ₂のうち少なくとも１つは加水分解性基を表す。ｍは０または１を表し、ｍが０の場合ｎは３〜５の整数を表し、ｍが１の場合ｎは２〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】温度変化、湿度変化など環境変動に対する安定性の向上を図ることが可能で、光透過率の高い光学素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る光学素子としての対物レンズ７は、体積換算平均粒子径が２〜１００ｎｍである無機微粒子と有機材料からなる有機無機複合材料を成型したものであり、前記無機微粒子が、一般式Ｓｉ−Ｒ（Ｒは非極性置換基を表す。）で表される有機官能基を、少なくとも粒子中心部に有する。 （もっと読む）

【課題】 硫黄やアミン等の硬化阻害を受け難く、白金触媒を不要とした安価な加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）水酸基及び／又は加水分解性基が結合した珪素原子を１分子中に少なくとも２個有するジオルガノポリシロキサンと、（Ｂ）金属錯体とを含む加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物である。 （もっと読む）

【課題】ポリシロキサン化合物とその製造方法、高分子電解質膜、膜電極接合体および燃料電池を提供する。
【解決手段】本発明は、ポリシロキサン化合物とその製造方法、高分子電解質膜、膜電極接合体および燃料電池に係り、さらに具体的には、スルホン酸基含有有機高分子シロキサン化合物及びこれを含む高分子電解質膜、膜電極接合体および燃料電池に関する。スルホン酸基含有有機高分子シロキサン化合物により、液体との接触によるスウェリングを抑制して寸法安定性に優れるだけでなく、メタノールクロスオーバーを顕著に低下させる、もしくは、メタノールクロスオーバーの犠牲なしにイオン伝導度を高く維持することが可能な、優秀な性能の高分子電解質膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板のエッチング処理された内周端面上に形成される被膜の厚みを大きくする。
【解決手段】中央に円孔を有する円板状ガラス板の内周端面をエッチング処理し、その内周端面に有機ポリシラザン化合物を含有する液を塗布し、焼成する工程を有し、その化合物が構造単位−Ｓi（Ｒ^１）（Ｒ^２）−（ＮＨ）−および構造単位−Ｓi（Ｒ^３）（Ｒ^４）−Ｏ−を有し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はいずれも、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基およびアルコキシ基からなる群から選ばれる基または水素であり、Ｒ^１およびＲ^２のいずれか１以上とＲ^３およびＲ^４のいずれか１以上とは前記群から選ばれる基である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】金属反応剤の使用量を少なくすることができ、除去を必要とする副生成物の発生を抑えることができ、かつ、比誘電率が小さく、機械的強度や密着性に優れ、均一な膜質を有する膜を形成することができるポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、およびシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】ポリマーの製造方法は、（Ａ）ポリカルボシランの存在下、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記（Ａ）ポリカルボシランはポリマー（Ｉ）またはポリマー（ＩＩ）である。 （もっと読む）