説明

Fターム[4J246CA13]の内容

珪素重合体 (47,449) | Si上の一価の基 (11,590) | Siの次位にO原子のある基←Si−O金属 (1,319) | OR基;Si−OR (824)

Fターム[4J246CA13]の下位に属するFターム

Fターム[4J246CA13]に分類される特許

161 - 180 / 242


本発明は式1:[(O3/2)SiCH2CH2SX]a[Si(O4/2)]b[Si(O3/2V)]cの新規化合物に関する。式中、XはCH2A、[CH2CH2NR1]pR2、CHCOX1CH2COX2、(CH2)eCOY[CO(CH2)eSCH2CH2Si(O3/2)]m[CO(CH2)eSH]nから選択され、Aは式CHNR1R2COX3のアミノ酸の残基又はアミノ酸の誘導体若しくは塩であり;R1及びR2は水素、C1-20アルキル、C1-20アルキルアリール、C1-12アシルから独立に選択され、Rは水素、金属イオン、C1-5アルキルから選択され、pは1〜100であり、かつeは1又は2であり;X1及びX2はOR及びNR1R2から独立に選択され;X3はOR、NR1R2又は既知アミノ酸及びタンパク質若しくはその誘導体から選択され;かつYは、置換されたz個以下のヒドロキシル基を有するポリオールの残基であり、m+n+1はz以下であり;該シリケート酸素原子の自由原子価は、式1の他の基のケイ素原子、水素、線形若しくは分岐C1-12-アルキル基又は末端基R33M1O1/2、架橋リンカー又はポリマー鎖R3qM1(OR4)gOk/2若しくはAl(OR4)3-hOh/2若しくはR3Al(OR4)2-rOr/2(ここで、M1はSi又はTiであり;R4は線形若しくは分岐C1-40、アリール又はC1-40アルキルアリール基であり;R3は線形若しくは分岐C1-40アルキル基又はアリール若しくはC1-40アルキルアリール基であり;g+k+q=4であるように、kは1〜3の整数であり、qは1〜2の整数であり、かつgは0〜2の整数であり;hは1〜3の整数であり;かつrは1〜2の整数である)又は他の既知オキソ金属架橋系(該金属はジルコニウム、ホウ素、マグネシウム、鉄、ニッケル又はランタニドである)によって飽和しており、かつ整数a、b及びcは、i)比a:bが0.00001〜100,000であり、かつ式AaBbCc中、AとBが両方とも常に存在し、及びii)Cが存在する場合、cのa+bに対する比が0.00001〜100,000で変化するような数である。シリケート酸素原子の自由原子価は、式1の他の基のケイ素原子、水素、線形若しくは分岐アルキル基、又はケイ素、アルミニウム、チタンを含有する末端基、架橋リンカー若しくはポリマー鎖又は他の既知オキソ金属架橋系によって飽和している。整数a、b及びcは、i)比a:bが0.00001〜100,000であり、かつ式AaBbCc中、AとBが両方とも常に存在し、及びii)Cが存在する場合、cのa+bに対する比が0.00001〜100,000で変化するような数である。末端基及び/又は架橋リンカー及び/又はポリマー鎖のa+b+cに対する比は0〜999:1である。本化合物は、不要な有機及び無機化合物の除去のため、固相抽出のため、固相合成のため、酸及び金属媒介不均一触媒のため、金属イオン抽出のため及び生体分子の固定化のためのスカベンジャーとして有用である。 (もっと読む)


室温硬化性ポリマーを作製する方法。反応物質は、シロキサン末端ポリマー及びシラノールを含む。反応物質を混合し、重合を、空気中で室温で進行させる。このポリマーにより、1種又は複数の治療化合物が得られる。このように、制御薬物放出(局所又は全身送達のため)がなされることが望ましい医療機器を、治療化合物を含有する本発明のポリマーでコーティングすることができる。好ましい実施形態では、ポリ(MPC:LAM:HPMA:TSMA)ポリマー(但しw、x、y及びzは、このポリマーを調製するための供給材料に使用されるモノマーのモル比を表し;MPCは、2−メタクリオイルオキシエチルホスホリルコリン単位を表し;LMAは、メタクリル酸ラウリル単位を表し、HMPAは、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル単位を表し、TSMAは、メタクリル酸3−トリメトキシシリルプロピル単位を表す。)を、ポリジメチルシロキサンと反応させる。別の好ましい実施形態では、デキサメタゾンなどの治療化合物をポリマーに組み込む。 (もっと読む)


ナノ粒子先駆物質構造、ナノ粒子構造、及び、複合材料はポリマー中にナノ粒子構造を含み、複合材料を形成する。ナノ粒子構造は、複合材料のポリマーの部分と非共有結合を形成することができる化学結合部分を有する。 (もっと読む)


【解決手段】被加工基板上に下層膜、その上にケイ素含有膜、更にその上にフォトレジスト膜を形成した後、多段階のエッチングを行う多層レジスト法の中間膜に使用するケイ素含有膜形成用組成物において、下記一般式(1)
(6-m)Si2m (1)
(Rは一価炭化水素基、Xはアルコキシ基、アルカノイルオキシ基又はハロゲン原子、mは6≧m≧3。)
で示されるケイ素−ケイ素結合を有するシラン化合物を含有する、加水分解性シランの単独又は混合物を加水分解縮合して得たケイ素含有ポリマーを含有するエッチングマスク用ケイ素含有膜形成用組成物。
【効果】本発明の組成物は、その上に形成したフォトレジストの良好なパターンを形成でき、有機材料との間で高いエッチング選択性が得られる。 (もっと読む)


コンポジットフィルムは、第1フィルム及び当該第1フィルムに近接した第2フィルムを包含する。第1フィルムは、光透過材料を包含する。一実施形態では、第2フィルムは、ポリジオルガノシロキサンポリアミドブロックコポリマーを包含する。別の実施形態では、第2フィルムは、ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドブロックコポリマーを包含する。
(もっと読む)


【課題】化学増幅型レジストとして、ポリシロキサンに基づく良好な特性とレジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、現像欠陥を著しく低減し得る感放射線性樹脂組成物、及び当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。
【解決手段】下記の一般式(I)、及びSiRHで表されるシラン化合物を、水の存在下、重縮合することにより得られるポリシロキサン、並びに当該ポリシロキサン、及び感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物。
(もっと読む)


一般式(I)[その際にR3は、水素原子を表すか又は炭素原子1〜18個を有する炭化水素基を表す]のジケテン(1)を、一般式−R1−NR22 (II)で示されるSiに結合した基Aを1分子あたり少なくとも1つ有する有機ケイ素化合物(2)[ここで、R1は、酸素、硫黄及び窒素の群から選択されるヘテロ原子を有していてよい、炭素原子2〜10個を有する二価の有機基を表し、R2は、水素原子を表すか又は窒素原子を有していてよい、炭素原子1〜100個を有する有機基を表し、但し、式(II)の基Aは少なくとも1つの第一級アミノ基及び第二級アミノ基、好ましくは少なくとも1つの第一級アミノ基を有する]と、第一級又は第二級のアミノ基とβ−ケトカルボニル化合物との反応を遅延する又は防止する有機化合物(3)の存在で反応させることによるβ−ケトカルボニル官能性有機ケイ素化合物の新規製造方法が記載される。 (もっと読む)


【課題】優れた耐熱性、耐紫外線性、光学的透明性、強靭性及び接着性を有する被膜を形成できる光関連デバイス封止用組成物、その硬化物並びに該組成物による封止方法を提供する。
【解決手段】(イ)平均組成式:R1a(OX)bSiO(4-a-b)/2
(R1はアルキル基、アルケニル基又はアリール基、Xは式:−SiR234(R2〜R4は1価炭化水素基)で表される基と、アルキル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基又はアシル基との組み合わせ、aは1.00〜1.5の数、bは0<b<2の数、但し、1.00<a+b<2)
で表される重量平均分子量5×104以上のシリル化オルガノポリシロキサン、及び
(ロ)縮合触媒
を含む光関連デバイス封止用樹脂組成物、該組成物を硬化させてなる透明な硬化物、並びに該組成物を半導体素子に塗布することと、該半導体素子に塗布された組成物を硬化させることとを有する半導体素子の封止方法。 (もっと読む)


【課題】 ハロゲン、リン、窒素等の原子を実質的に含有せず、極めて高い難燃化効果を発現する難燃剤、及びこれを用いて難燃化された難燃性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 SiX単量体および/またはその部分加水分解縮合物(Xはハロゲン、水酸基、アルコキシ基、シロキシ基から選ばれる置換基を示す。)とRSiX単量体(式中、RはSiに結合可能な有機基、水素基から選ばれる置換基を示し、複数のRは同一であっても異なっていても良い。Xはハロゲン、水酸基、アルコキシ基、シロキシ基から選ばれる置換基を示す。)を必須原料として重合して得られるオルガノポリシロキサン化合物であって、予めRSiX単量体がSiX単量体および/またはその部分加水分解縮合物中のケイ素原子1モルに対して1/100モル以上存在する条件で重合して得られるオルガノポリシロキサン化合物を含有することを特徴とする難燃剤、該難燃剤を含有する難燃性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】安定であり、ゲル化が起こり難く、厚膜としてもクラックが生じ難い高分子量オルガノポリシロキサンの製造方法、その製造方法により製造された高分子量オルガノポリシロキサンを含有する組成物、並びにその組成物の硬化物で封止した光半導体装置を提供する。
【解決手段】加水分解性基を有するシラン化合物を第一次加水分解縮合に供してオルガノポリシロキサンを得ることと、該オルガノポリシロキサンを更に第二次加水分解縮合に供することとを含む、ポリスチレン換算の重量平均分子量が5×104以上である高分子量オルガノポリシロキサンの製造方法、該製造方法で製造された高分子量オルガノポリシロキサンと縮合触媒とを含有する光関連デバイス封止用樹脂組成物、並びに半導体素子と該半導体素子を封止する前記組成物の硬化物とを有する光半導体装置。 (もっと読む)


【課題】高温高湿環境下での屈折率の変動を低減することが光学樹脂材料を得る。
【解決手段】分子中に少なくとも1つの水酸基を有する金属アルコキシドの加水分解・重縮合生成物と、揮発性の低分子成分と、有機重合体を含む光学樹脂材料であって、揮発性の低分子成分が、金属アルコキシドの加水分解・重縮合生成物の水酸基と、結合可能な極性基(例えば、カルボン酸基、カルボニル基、及び水酸基など)を有することを特徴としている。 (もっと読む)


共重合体を含むシリコン組成物を提供する。共重合体は、一般式:H−[SiHCHxn[Si(R)HCHyn[SiH(R)CHzn−Hで示され、式中、Rは、メチル、フェニル、メトキシ、エトキシまたはブトキシ、Rは、アリル、プロパギルまたはエチニル、そしてx,yおよびzが0でないときx+y+z=1である。前述の共重合体を使用した炭化ケイ素系材料と、それによって生成された生成物の生成方法も提供する。 (もっと読む)


【課題】安全であって、より高収率なポリシランの製造方法を提供すること。
【解決手段】一般式(1)で示される少なくとも1種のハロシランを、金属ナトリウムの存在下で反応させてポリシランを合成する工程、及び低級アルコールを添加する工程を含むポリシランの製造方法において、ポリシランの合成に用いるハロシランに含まれるハロゲン原子の総モル数に対して0.95〜1.2倍のモル数の金属ナトリウムを用い、低級アルコールを金属ナトリウムに対して0.05〜0.3当量用いることを特徴とするポリシランの製造方法である。本製造方法において、一般式(1)で示されるハロシランに加えて、一般式(2)で示されるハロシラン及び/又は一般式(3)で示されるハロシランを反応させてポリシランを合成してもよい。 (もっと読む)


【課題】液状であるオルガノポリシロキサンとその製造方法およびその使用を提供する。
【解決手段】本発明は、一般式
abSiO(4-a-b)/2 (I)[式中、R、X、a、及びbは、請求項1記載の意味を表し、但し、a+bの合計が≦3であり、オルガノポリシロキサンの単位の少なくとも50%においてaは1である]の単位からなるオルガノポリシロキサンであり、前記オルガノポリシロキサンは20℃で900〜1100hPaの圧力で液状であるオルガノポリシロキサンに関する。 (もっと読む)


本発明は、OH末端オルガノヒドロポリシロキサン(P)を調製するためのプロセスを提供するものであり、このプロセスの第1ステップにおいて、オルガノヒドロジクロロシラン(A)およびジオルガノジクロロシラン(A)を加水分解性塩素1モル当たり最大0.5モルの水と反応させて部分水解物(T)および塩化水素ガスを得て、第2ステップにおいては依然存在するSiCl基を除去するため部分水解物(T)を水で処理して塩酸を発生させ、オルガノヒドロポリシロキサン(P)を含む水解物(H)を得る。 (もっと読む)


【課題】光の拡散反射性が向上したシリカ複合重合体粒子を提供することを課題とする。
【解決手段】重合性ビニル系モノマー由来の重合体成分と、シリカ成分とを含むシリカ複合重合体粒子であって、前記シリカ成分が、前記重合性ビニル系モノマーに対し不活性なポリアルコキシシロキサンオリゴマーと、特定のシラノール基形成性シラン化合物とに由来し、前記シリカ複合重合体粒子を焼成して前記重合体成分を除去した場合、50〜300m2/gの比表面積を有し、かつ表面に多数のヒダを有するシリカ粒子が得られるように、前記シリカ成分が、前記シリカ複合重合体粒子中に偏在していることを特徴とするシリカ複合重合体粒子により上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】低屈折率且つ高硬度なシリケート成分を含むコーティング層が形成され、下層となる層との密着力に優れ、良好な耐擦傷性を有する反射防止積層体を提供する。
【解決手段】光透過性を有する基材フィルムの一面側に他の層を介して内部にナノポーラス構造を有する低屈折率組成物をコーティングしてなる低屈折率層が形成された反射防止積層体であって、前記ナノポーラス構造を有する低屈折率組成物が、少なくとも、(A)1分子中に3個以上の電離放射線で硬化する官能基を有するモノマーと、(B)シリケート化合物とを含有するバインダー成分、および、(C)塗工液に調製するための液状媒体中に分散させることが可能で且つ平均粒子径5nm〜300nmの微粒子を含み、該他の層が、水酸基または加水分解可能な基がケイ素に直接接合しているオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物を含むことを特徴とする反射防止積層体。 (もっと読む)


【課題】 レーザー発光量が十分に高く且つ十分に長寿命の色素レーザーを提供すること。
【解決手段】 下記一般式(1):
【化1】


[式中、Xは蛍光又は燐光を示す有機分子を示し、Rは低級アルコキシ基、ヒドロキシル基、アリル基、エステル基及びハロゲン原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、Rは低級アルキル基及び水素原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、nは1〜3の整数を示し、mは1〜4の整数を示す。]
で表される有機ケイ素化合物の重合体からなる発光材料を含有する色素レーザー素子と、励起用光源と、共振機とを備えることを特徴とする色素レーザー。 (もっと読む)


【課題】
ArF露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】
(A)オキセタニル基を含有するシルセスキオキサン単位、(B)炭化水素基を含有するシルセスキオキサン単位を含むことを特徴とするシリコーン共重合体を提供する。 (もっと読む)


【課題】被覆時、加熱等して硬化時にクラックがはいらず、真空紫外光領域〜近赤外光領域で光透過率が優れたシリカ系ガラスとなるハイドロジェンポリシロキサン等を提供する。
【解決手段】環状ジハイドロジェンポリシロキサン、特定のシロキサン単位式等を有するハイドロジェンポリシロキサン、加水分解縮合によるそれらの製造方法、これらポリシロキサンを型内で硬化させることによる170nm以上の真空紫外光領域〜紫外光領域で光透過率90〜100%であり可視光領域〜1700nm以下の近赤外光領域で光透過率98〜100%であるシリカ系ガラス成形体の製造方法、該シリカ系ガラス成形体、該シリカ系ガラスからなる光学素子、これらポリシロキサンを光学部材に被覆し硬化させることによる該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子の製造方法、該シリカ系ガラス膜層を有する光学素子。 (もっと読む)


161 - 180 / 242