【課題】繊維などの蛍光（あるいは蛍光増白）に応用できる蛍光発色基を有する構造が導入されたポリオルガノシロキサンを提供する。
【解決手段】反応性の置換基を有するポリオルガノシロキサンに、蛍光（あるいは蛍光増白）に応用できる構造を有する化合物を２価以上の反応性を持つ反応性置換基で連結させる。 （もっと読む）

【課題】膨張した架橋シリコーンポリマー網状組成物の提供。詳細には、シリコーンポリマー網状組成物と直鎖状有機シロキサンとのユニークな組合せを含んでなり、望ましい粘性及び固形含量を有する、膨張した架橋シリコーンポリマー網状組成物。
【解決手段】ａ）反応生成物：Ｍ_ａＭ^Ｈ_ｂＭ^ｖｉ_ｃＭ^Ｅ_ｄＤ_ｅＤ^Ｈ_ｆＤ^ｖｉ_ｇＤ^Ｅ_ｈＴ_ｉＴ^Ｈ_ｊＴ^ｖｉ_ＫＴ^Ｅ_ＬＱ_ｍと、ｂ）膨張量のアルキルトリシロキサンとを含んでなる第１シリコーン組成物。前記反応生成物は、前記アルキルトリシロキサンによって膨張する第１シリコーン組成物を形成し、前記第１シリコーン組成物が、前記反応生成物及びアルキルトリシロキサン以外の直鎖状シリコーン液を含んでなる第２シリコーン組成物に存在する固形含量より低い固形含量を有し、それにより、第２シリコーン組成物と第１シリコーン組成物が同等の粘度を有する。 （もっと読む）

【課題】 低誘電率で機械的強度の高い絶縁膜を形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも２つ以上のアセチレン基を持つ下記一般式（３）で表される化合物（Ａ）と、少なくとも２つ以上のヒドロシリル基をもつポリシロキサン（Ｂ）とをヒドロシリル化反応させて得られることを特徴とするポリマー。
【化１】


一般式（３）中、
Ｒ^４は、炭素原子１０個以上で形成されるカゴ型構造を含有する基を表す。
Ｒ^５は各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはシリル基を表す。
ｒは２〜２０の整数を表す。 （もっと読む）

本発明は、式Ｘ_m−Ｍ−（ＯＲ）_n-mを有する少なくとも１つの化合物の溶液を調製し、ドーパントの溶液に添加し、該化合物を加水分解してゾルを形成し、場合により、酸化物を添加し、ゾルをゲル化し、前記液体を再循環し、かつ液体のpH値を調節して、アクアゲル中のドーパントを固定させ、ゲルを乾燥させ、かつ密度を高めてガラスを得ることから成るゾル−ゲル法に関する。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物、および当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。
【解決手段】ポリシロキサンは、−（Ｓｉ（Ｒ）Ｏ_２）−〔Ｒは、−Ｒ^１ＮＨＳＯ_２Ｒ^２基であり、Ｒ¹ およびＲ² は置換されていてもよい直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基（但し、Ｒ² はフッ素原子をもたない。）を示す。〕で表される構造単位を有し、好ましくはさらに−（Ｓｉ（Ｒ^３ＣＯＯＲ^４）Ｏ_２）−〔Ｒ^３は環状２価炭化水素基、Ｒ^４は１価の酸解離性基を示す〕で表される構造単位を有する。 （もっと読む）

アルデヒド官能性オルガノポリシロキサンを調製する方法およびそれから調製された製品を開示している。この方法は、非共役不飽和基を有するアルデヒドとポリオルガノハイドロジェンシロキサンとの間のヒドロシリル化反応を含む。 （もっと読む）

本発明は、Ｓｉ−結合ヒドロキシ基を一方の分子鎖末端でのみ有するジオルガノポリシロキサンの製造方法に関する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式(1)


(Yは官能基を有してもよい脂肪族有機基、又は官能基を有してもよい芳香族構造を含む有機基、X¹，X²，X³はH、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はアリーロキシ基を示す。)
で示される側鎖に嵩高い置換基を有する3官能性シランを含むシラン原料を酸又は塩基を触媒とする第1段の加水分解後、第2段として上記シラン原料に強塩基触媒の存在下、縮合による生成する水を反応系外に除去する操作を伴う脱水縮合反応を行う側鎖に嵩高い置換基を有する縮合度100％であるシルセスキオキサン型化合物高含量のシルセスキオキサン系化合物混合物の製造方法。
【効果】本発明によれば、嵩高い置換基を有する縮合度が実質的に100％であるシルセスキオキサン型化合物の存在比の高いシルセスキオキサン系化合物混合物を容易かつ確実に得ることができ、この混合物は、ポジ型レジスト組成物に好適な材料である。 （もっと読む）

【課題】生成物中に残留しない触媒を用いて、生成物の後加工または使用の場合に望ましくない効果をまねくことのない、櫛状にトリオルガノシロキシ基で官能化された線状オルガノポリシロキサンの選択的な合成を可能にする方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）のトリオルガノシロキシ基を有するオルガノポリシロキサンを製造する方法の場合に（ａ）第１の工程で一般式（ＩＩ）のＳｉＨ基を有するオルガノポリシロキサン（Ａ）を周期律表の第ＶＩＩＩ副族の金属およびその化合物の群から選択された触媒（Ｂ）の存在下および場合によっては助触媒（Ｋ）の存在下で水と反応させ、一般式（ＩＩＩ）のＳｉ−ＯＨを有する中間生成物に変え、（ｂ）第２の工程でこうして得られたＳｉＯＨ基を有する中間生成物をＳｉＯＨ基に対して反応性の基を有するシラン（Ｄ）と反応させる。 （もっと読む）

【解決手段】 （Ａ）下記式
Ｈ−［Ｏ−Ｓｉ（Ｒ）₂］_n−ＯＨ
（Ｒは一価炭化水素基、１０≦ｎ≦２００）
で示され、ケイ素原子数１０以下の環状低分子シロキサン含有量が３質量％以下である末端ヒドロキシジオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）官能基含有オルガノアルコキシシラン、
（Ｃ）界面活性剤、
（Ｄ）水
を乳化分散させて平均粒径が２５０〜３５０ｎｍの初期エマルジョンを得、該エマルジョンを温度２０℃以下に冷却後、酸性触媒の存在下、２０時間以内で乳化重合を行い、次いで中和するジオルガノポリシロキサン中のオクタメチルシクロテトラシロキサン含有量が０．５〜２．０質量％である官能基含有ジオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。
【効果】 本発明によれば、オクタメチルシクロテトラシロキサン含有量を低減させた樹脂改質用として有用な反応性に優れた官能基含有ジオルガノポリシロキサンエマルジョンを製造できる。 （もっと読む）

【課題】微細な溝も完全に埋め込み、かつ下地段差を平坦化するのに十分な厚塗りができ、下地パターン全体の均一な平坦性を達成でき、さらに水を含まず誘電率の低い、膜特性に優れた絶縁膜を形成することのできる、シロキサン類を用いる、絶縁膜形成用塗布液および半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造に用いられる絶縁膜形成用塗布液であって、少なくとも一種類の有機置換基と結合したＳｉ原子を含むシロキサン類を含み、かつ、前記シロキサン類の²⁹Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルのシグナルの積分値から求められる所定の式で示される含有比率Ｘが、所定の式を満足する、１５０℃以上３００℃以下の自己流動化温度を有することを特徴とする絶縁膜形成用塗布液、及びこれを用いる半導体装置用絶縁膜の形成方法を提供することにより前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 安定性が良好なオルガノポリシロキサンエマルジョン、及び平衡化反応時間の短いオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）環状オルガノポリシロキサン、
（Ｂ）両末端ヒドロキシル基封鎖ジオルガノポリシロキサン、
（Ｃ）両末端トリアルキルシロキシ基封鎖ジオルガノポリシロキサン
を含有し、（Ａ），（Ｂ）成分の割合が質量比で（Ａ）／（Ｂ）＝１０／９０〜８０／２０、（Ｃ）成分の配合量が（Ａ），（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して０．０５〜５質量部、２５℃の粘度が５０ｍｍ²／ｓ以下であるポリシロキサン混合物を乳化重合してなるオルガノポリシロキサンエマルジョン、及び上記ポリシロキサン混合物を（Ｄ）界面活性剤を添加した（Ｅ）水中に乳化分散させ、このエマルジョン中で上記ポリシロキサン混合物を酸性又はアルカリ性触媒の存在下で重合するオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性や耐熱性を有し、界面で剥離を生じたり内部にクラックを発生させず、優れた形状精度を有するエッチングマスクを安価に形成する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）：（Ｒ^１）_ｐ（Ｒ^２）_ｑＳｉ（Ｘ）_{４−ｐ−ｑ}（式中、Ｒ^１はフッ素原子を含有する炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基、Ｒ^２は炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基（ただし、フッ素原子を含有するものを除く。）、Ｘは加水分解性基、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は１の整数である。）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解物及び該加水分解物の縮合物からなる群より選ばれる少なくとも一種以上、および（Ｂ）光酸発生剤を含有し、かつ、全Ｓｉ上の結合基に占めるシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）基の含有率が１０〜５０％であるエッチングマスク組成物によって、基板１上にエッチングマスク５を形成する。 （もっと読む）

【課題】ダメージ毛髪に対して、洗浄およびすすぎの際のきしみ感をなくし、さらに環境への影響が少ない毛髪洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の毛髪洗浄剤組成物は、（Ａ）シリコーンエマルジョン０．０１〜２０重量％と、（Ｂ）洗浄性界面活性剤５〜５０重量％と、（Ｃ）コンディショニング剤０．１〜２０重量％、および（Ｄ）水をそれぞれ含有する。（Ａ）シリコーンエマルジョンは、（ａ）シラノール基末端ポリジオルガノシロキサンと、（ｂ）一般式：Ｒ^２Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎＳＯ_３Ｍ（式中、Ｒ^２は炭素原子数８〜２０の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、Ｍはアンモニウムまたは有機アミン類を表す。ｎは０〜５の数を表す。）で示されるアニオン性界面活性剤、および（ｃ）水から乳化重合により得られるポリオルガノシロキサンエマルジョンである。 （もっと読む）

【課題】 蒸留に比べて手間とコストがかからないカラムクロマトグラフィにより原料を精製することが可能となり、そのため有機シリカ複合材料の製造に要する手間とコストを低減することができ、しかも従来は製造が困難であった比較的高分子量の有機基を含む有機シリカ複合材料であっても効率良く製造することが可能となる、有機シリカ複合材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】 溶媒中で有機シラン化合物を加水分解及び重縮合反応せしめて有機シリカ複合材料を得る方法であって、前記有機シラン化合物が、下記一般式（１）：
【化１】


［式中、Ｒ¹はケイ素原子に結合した炭素原子を１以上有する有機基、Ｒ^２〜Ｒ^６はそれぞれ水素原子、低級アルキル基等、Ｘ^１は水素原子、水酸基、低級アルコキシ基、低級アルキル基等、ｍは１以上の整数、ｎは１〜３の整数をそれぞれ示す。］
で表されるアリルシラン化合物であることを特徴とする、有機シリカ複合材料の製造方法。 （もっと読む）

粉体表面を、オルガノポリシロキサンと金属酸化物とが分子レベルで複合化している金属酸化物・オルガノポリシロキサンハイブリッドで被覆してなる表面被覆粉体である。金属酸化物・オルガノポリシロキサンハイブリッドゾルで粉体を被覆して、粉体表面に上記のハイブリッドの薄膜を形成させる。上記の金属酸化物・オルガノポリシロキサンハイブリッドの金属酸化物は、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び二酸化ケイ素から選ばれた一種又は二種以上の金属酸化物が好ましい。上記の金属酸化物・オルガノポリシロキサンハイブリッドは、金属酸化物とオルガノポリシロキサンとの割合を調整することによって撥水性をコントロールできるので、この割合を調整して粉体の撥水性を容易にコントロールできる。また、表面被覆粉体を配合した化粧料は、自然な外観及び塗布時の感触が優れている。 （もっと読む）