【課題】長期にわたって透明性及び耐熱性に優れる硬化物を得ることができる成形材料及び該成形材料を用いてなる封止材、並びに光素子封止体の提供。
【解決手段】ラダー型構造のポリシルセスキオキサン化合物を主成分とする成形材料及び該成形材料を用いてなる封止材、並びに該封止材の硬化物により光素子が封止されてなる光素子封止体。 （もっと読む）

【解決手段】ビニル基を有する化合物およびケイ素−水素結合を有するケイ素化合物を含有することを特徴とする、微細パターンを形成するための転写材料用組成物。
【効果】本発明の転写材料用組成物を用いれば、半導体製造プロセス、垂直磁気記録方式のパターンドメディア製造プロセス等において１０μｍ以下の金型形状が正確に転写された、残膜の少ない微細パターンを形成することができる。また本発明の微細パターンの形成方法は、前記転写材料用組成物を用いて、１０μｍ以下の金型形状を薄膜に正確に転写することができ、残膜の少ない微細パターンを形成することができる。 （もっと読む）

本発明によれば、真空下、低ＭＷフェニルアルキルシロキサンの量に基づいて５０ｐｐｍ以上の量で水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ルビジウム、水酸化アンモニウム、水酸化テトラアルキルアンモニウム、テトラアルキルアンモニウムアルコキシドおよびホスホニウムヒドロキシドの群から選ばれる１種以上のアルカリを含むアルカリ水溶液の存在下で低ＭＷフェニルアルキルシロキサンを重合することにより、低ＭＷフェニルアルキルシロキサンから実質的に純粋な高ＭＷフェニルアルキルシロキサンを製造する方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】 優れた電子写真特性としての高感度を維持しつつ、スジ、ポチ、ゴースト等の画像欠陥のない良好な画像を長期にわたって得ることのできるプロセスカートリッジ、画像形成装置及び帯電部材を提供する。
【解決手段】 導電性弾性層及び該導電性弾性層上に形成された表面層を有する帯電部材の表面層が、オキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有し、その表面硬度Hが
10≦H≦180N/mm²あり、同一条件で測定した導電部材の表面硬度と感光体の表面硬度の比が1/80≦該帯電部材の表面硬度/該感光体の表面硬度≦9/10とする。 （もっと読む）

【課題】電子写真感光体に用いた場合に、優れた電気特性および耐傷性を付与できるポリカーボネート樹脂、該ポリカーボネート樹脂を含む塗工液、および、該ポリカーボネート樹脂を用いた電子写真感光体を提供すること。
【解決手段】ポリカーボネート樹脂は、下記式（１）に示すモノマー単位を有し、少なくとも一端が下記式（２）で示す末端基により封止された構造である。




（式中、Ａｒは、２価の芳香族基を示し、Ｚは、炭素数２〜６の脂肪族炭化水素基、ｎは４０〜７００の整数である。） （もっと読む）

【課題】 有機樹脂への分散性が優れ、硬化性有機樹脂組成物に配合することにより、該組成物の成型時の流動性を向上させ、低弾性率の硬化物を形成することができる架橋シリコーン粒子、およびこのような架橋シリコーン粒子を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 架橋シリコーン粒子を形成するケイ素原子に、一般式：Ｒ¹ＮＨ−Ｒ²−（式中、Ｒ¹はアリール基またはアラルキル基であり、Ｒ²は二価有機基である。）で表される２級アミノ基を結合する架橋シリコーン粒子。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）下記組成式（１）で示されるケト基含有オルガノポリシロキサンと、
（Ｂ）１分子中にケト基と反応する有機基を２個以上含有する化合物
を含有してなる架橋性オルガノポリシロキサン組成物。
［Ｒ₂ＳｉＯ］_a［ＲＳｉＯ_3/2］_b［Ｒ（Ｑ）ＳｉＯ］_c［ＱＳｉＯ_3/2］_d （１）
（式中、Ｒはケト基を含まない炭素数１〜２０の１価有機基、Ｑはケト基を含む炭素数２〜２０の１価有機基であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄは、０≦ａ＜１、０≦ｂ＜１、０≦ｃ≦０．３、０≦ｄ≦０．３で、０＜ｃ＋ｄ≦０．３、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１であるが、（ｂ＋ｄ）／（ａ＋ｃ）は１以上である。）
【効果】本発明によれば、室温で硬化し、経時での塗膜の硬脆化が起こらず、耐候性、貯蔵安定性等に優れる水性塗料組成物が得られる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性，化学的不活性等の様々な優れた特性を有することに加えて、ハンドリング性，接着性，成形性，加工性に優れたシリコーンゴム、並びに、該シリコーンゴムの原料であるポリ（シルアリーレンシロキサン）誘導体及びその共重合体を提供する。
【解決手段】下記の化学式（Ｉ）で表されるような構造を有するポリ（シルアリーレンシロキサン）誘導体は、従来のシリコーンゴムと同様の優れた特性を有することに加えて、アルコール性水酸基の導入により改質され、ハンドリング性，接着性等が優れている。ただし、化学式（Ｉ）中のＡｒは芳香族炭化水素基であり、アルコール性水酸基を有する置換基を備えている。また、Ｒ₁ ，Ｒ₂ ，Ｒ₃ ，Ｒ₄ は脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基である。さらに、ｎは正の整数である。
【化１】
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半導体素子の微細ギャップ充填用化合物、及び前記化合物を含む組成物が提供される。前記組成物は、一般的なスピンコーティング技術で、基板にある直径が７０ｎｍ以下、アスペクト比（高さ／直径の比）が１以上の孔を空気の細孔などの欠陥がなく完全に埋めることが可能である。さらに、前記組成物は、焼成による硬化後に、フッ酸溶液で処理することにより、制御可能な速度で孔から残余物を全く残さないで完全に除去されうる。さらに前記組成物は保管中に非常に安定である。 （もっと読む）

【課題】他の樹脂との相溶性に優れ、硬化性にも優れた硬化性シリコーン化合物を提供する。
【解決手段】一般式（1）：[RSiO_3/2]_n[R¹(CH₃)₂SiO_1/2]_m で表される硬化性シリコーン化合物〔R及びR¹は水素原子、炭素数6〜10のアリール含有基、炭素数1〜10の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数4〜10のシクロアルキル基、炭素数2〜3のアルケニル基又は下記式（2）〜（4）


（lは1〜3の整数、R²は水素原子又メチル基）から選ばれ、少なくとも一般式（１）で表される１分子中には炭素数2〜3のアルケニル基、及び式（2）〜（4）からなる群から選ばれたいずれかの硬化性官能基を2以上有し、Rの少なくとも1つが硬化性官能基である。nは6〜20の整数、mは1〜6の整数、n/mは1〜10の範囲である。Mw=500〜5000であり、Mw/Mn＝1.0〜1.5の範囲。〕である。 （もっと読む）

本発明は、無機酸化物ポリマーから成る固体状セルラーモノリスの形の材料に関する。前記モノリスは、４μｍ〜５０μｍの平均寸法ｄ_Aを有するマクロ孔、２０〜３０Åの平均寸法ｄ_Eを有するメソ孔及び５〜１０Åの平均寸法ｄ_Iを有するミクロ孔を有し、これらの孔は互いにつながっている。前記の無機酸化物のポリマーは、式−(ＣＨ₂)_n−Ｒ¹の有機基Ｒを有し、ここで、０≦ｎ≦５であり、且つＲ¹はチオール基、ピロリル基、アミノ基（これは、置換されていてよいアルキル、アルキルアミノ若しくはアリール置換基を随意に１個以上有していてよい）、アルキル基又はフェニル基（これは、アルキルタイプの置換基を随意に有していてよい）から選択される。開示される材料は、金属触媒用及び液体又は気体状媒体の汚染除去用の基材として用いることができる。 （もっと読む）

【課題】下地段差の被覆性が良好で、かつ耐湿熱性に優れる硬化膜を与えるシロキサン樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）（ａ−１）ラジカル重合性有機基を有するシラン化合物と、（ａ−２）ラジカル重合性有機基を有さないシラン化合物とを加水分解および縮合させて得られる、ラジカル重合性有機基を有し、Ｈ−Ｓｉ結合を有さないポリシロキサンであって、該ポリシロキサン中（ａ−１）ラジカル重合性有機基を有するシラン化合物の共重合比が１モル％〜１５モル％であるポリシロキサン、（Ｂ）ラジカル重合開始剤および（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするシロキサン樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性などに優れたフルオレン骨格を有するケイ素含有ポリマーを効率よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】特定のフルオレン骨格を有する下式（１）の化合物と、ハロゲン原子を有する下式（２）のシラン化合物とを反応させ、フルオレン骨格を有するケイ素含有ポリマーを提供する。
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式：（Ｍ^１）_ａ（Ｄ^１）_ｂ（Ｄ^２）_ｃを含有するシリコーン組成物が開示され、式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^１＝Ｒ^４Ｒ^５ＳｉＯ_２／２であり；そしてＤ^２＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；ここで、Ｒ^１は独立して各々、アミノ基以外の反応性の末端基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^６は一価のポリ（オキシアルキル）炭化水素ラジカルを含有し；そして、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、およびＲ^７は独立して一価の炭化水素ラジカルであり；ここで、ａ、ｂおよびｃは化学量論的な下付文字であり、ゼロもしくは正であり、以下の制限に従う：ａは２と等しいかもしくはそれより大きく；ｃは１と等しいかもしくはそれより大きく；そしてｂ＝０の時、ａ＋ｃは３と等しいかもしくはそれより大きい。 （もっと読む）

【課題】新規なポリシラン化合物及びその合成方法の提供、並びに上記化合物を用いた、硬化（重合）速度が高く、保存安定性に優れる紫外線硬化型のインク組成物の提供。上記インクを用いたインクジェット記録方法、上記インクが収容されてなる容器及び記録装置の提供。
【解決手段】下記式１で表される構造を有する紫外線硬化型インク組成物。
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【課題】屈折率等の光学特性の温度変化安定性や耐熱性に優れた光導波路を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される硬化性樹脂を硬化させてクラッド層又はコア層の少なくとも一方を形成した光導波路であり、一般式（１）の硬化性樹脂は、式（2）で計算されるKpが0.68〜0.8の密な構造部位（A）とKpが0.68未満の疎な構造部位（B）とを有し、構造部位（A）/（B）の重量比は0.01〜5.00であり、少なくとも一つの不飽和結合を有して平均分子量が800〜60000である。-｛(A)-(B)_m｝_n- (1)（ｍおよびｎは１以上の整数）Kp＝An・Vw・p/Mw (2)（An＝アボガドロ数、Vw＝ファンデアワールス体積、p＝密度、Mw＝分子量、Vw＝ΣVa、Va＝4π/R³−Σ1/3πhi²（3Ra−hi）、hi＝Ra−（Ra²＋di²−Ri²）/2di、Ra＝原子半径、Ri＝結合原子半径、及びdi＝原子間距離） （もっと読む）

【課題】転写電流を強くすることなく長期に亘って高い転写効率を維持することができ、良好な画像が得られる電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することである。
【解決手段】支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該電子写真感光体の表面部は、少なくとも、フッ素原子を有するアルキル基とフッ素原子を有するアルキレン基が酸素により結合した構造、又はフッ素原子を有するアルキレン基とフッ素原子を有するアルキレン基が酸素により結合した構造を有する一価の有機基を含有する明細書中の式（１１）で示される繰り返し構造単位α及び明細書中の式（１２）で示される繰り返し構造単位βを有するジオルガノポリシロキサンを含有することを特徴とする電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置。 （もっと読む）

【課題】熱光学係数、耐溶剤性、耐熱性に優れ、更には、分子量の制御された安定した品質の光学素子材料を提供する。
【解決手段】式（１−０）で示されるかご型シルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体を用いて光学素子を作製する。


式（１−０）において、Ｒは独立して、炭素数１〜４０のアルキル、任意の水素がハロゲンまたは炭素数１〜２０のアルキルで置き換えられてもよい炭素数６〜４０のアリール、またはアリールにおける任意の水素がハロゲンまたは炭素数１〜２０のアルキルで置き換えられてもよい炭素数７〜４０のアリールアルキルである。 （もっと読む）

【課題】高集積化、多層化に好適な低比誘電率絶縁膜のに用いるシリカ系膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】シリカ系膜は、（Ａ）成分；Ｓｉ（ＯＲ^１）_４および一般式Ｒ^２_ａ（Ｒ^３Ｏ）_３−ａＳｉ−（Ｒ^６）_ｃ−Ｓｉ（ＯＲ^４）_３−ｂＲ^５_ｂで表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を、原料比で全シラン化合物の５０モル％以上含む混合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物、ならびに有機溶媒と、を含む絶縁膜形成用組成物を紫外線または電子線により硬化して得られる。（式中、Ｒ^２〜Ｒ^５は同一または異なり、それぞれ１価の有機基を示し、ａおよびｂは同一または異なり、０〜１の数を示し、Ｒ^６は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である。）を表し、ｃは０または１を示す。） （もっと読む）

【課題】感光性を有し、優れた透明性および耐熱性を備えた液晶表示素子用平坦化絶縁膜を形成できる組成物および液晶表示素子用平坦化絶縁膜の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ１−１）［式中、Ｒ^１は単結合または直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ^１０１はアルキル基を表し、ｎ１は０〜４の整数を表す］で表される構成単位（ａ１）を含有する樹脂（Ａ）、および感光剤（Ｂ）を含有する液晶表示素子用平坦化絶縁膜形成用組成物。該液晶表示素子用平坦化絶縁膜形成用組成物を用いて支持体上に樹脂膜を形成し、露光し、現像してパターンを形成し、該パターンを焼成する液晶表示素子用平坦化絶縁膜の製造方法。
［化１］
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