【課題】シリコーンゲルの耐フラックス性を向上させる方法及び該方法に用いる耐フラックス性シリコーンゲル組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）ジオルガノビニルシロキシ末端封鎖オルガノポリシロキサン、（Ｂ）非官能性オルガノポリシロキサン、（Ｃ）１分子中に平均３個以上のケイ素原子結合の水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及び（Ｄ）ヒドロシリル化反応触媒を含有してなり、半田フラックスが存在する箇所に適用し硬化させるのに用いられる硬化性シリコーンゲル組成物。該組成物を使用するシリコーンゲルの耐半田性向上方法、及び耐半田性に優れるシリコーンゲルの形成方法。 （もっと読む）

【課題】透明であり、耐光性に優れ、しかも厚膜成形が可能な封止材用組成物及び光学デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明の封止材用組成物は、シルセスキオキサン構造を有し、反応性基がシラノール基のみであるシルセスキオキサン化合物を含有するものであって、前記シルセスキオキサン構造が、エチルシルセスキオキサン構造を含むことを特徴とする。また、本発明の光学デバイスは、基体上に搭載された光学素子と、前記光学素子上に被覆され、前記封止材用組成物を硬化させてなる封止材と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明であり、耐光性に優れた封止材用組成物及び光学デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明の封止材用組成物は、シルセスキオキサン構造を有し、反応性基がシラノール基のみであるシルセスキオキサン化合物を含有するものであって、前記シルセスキオキサン構造が、フェニルシルセスキオキサン構造を含むことを特徴とする。また、本発明の光学デバイスは、基体上に搭載された光学素子と、前記光学素子上に被覆され、前記封止材用組成物を硬化させてなる封止材と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体発光素子または半導体受光素子を封止材で封止した半導体光装置において、封止材が劣化し難くまた吸水率が低い半導体光装置を提供する。
【解決手段】次のかご型シルセスキオキサン化合物、又はこの化合物が部分付加反応した部分重合物を含有するケイ素化合物で、半導体発光素子又は半導体受光素子を封止する。
（ＡＲ^１Ｒ^２ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｎ（ＢＲ^３Ｒ^４ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｓ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｍ−ｎ−ｓ}
（Ｒ^５Ｒ^６ＨＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｑ（ＥＲ^７Ｒ^８ＳｉＯＳｉＯ_１．５）_ｒ（ＨＯＳｉＯ_１．５）_{ｐ−ｑ−ｒ}
（Ａは炭素−炭素不飽和結合を有する鎖状炭化水素基、Ｂ及びＥは飽和アルキル基あるいは水酸基、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^６，Ｒ^７，Ｒ^８はメチル基又はフェニル基等、ｍ及びｑは６，８，１０，１２から選ばれた数、ｎは２〜ｍの整数、ｑは２〜ｐの整数、ｒは０〜ｐ−ｑの整数、ｓは０〜ｍ−ｎ） （もっと読む）

【課題】シロキサン系ポリマーの製造において、縮重合過程における反応を制御しながら効率的に進行させることにより、構造が制御されたシロキサン系ポリマーをより効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】トリアルコキシシラン、又はトリアルコキシシランとジアルコキシシランの混合物に、触媒存在下、温度を制御してマイクロ波を照射することにより、ポリシルセスキオキサン、又はシルセスキオキサンとシロキサンの共重合ポリマーを製造する。さらに、ポリシルセスキオキサン、又はシルセスキオキサンとシロキサンの共重合ポリマーに、温度を制御してマイクロ波を照射することにより、これらのポリマーを高分子量化する。 （もっと読む）

【課題】種々の基材に均一分散が可能で、例えば、基材の機械的強度、耐熱性、難燃性、光拡散性等の特性を向上させうるシリコーン系微粒子、それを用いた複合微粒子、並びにそれらの製造法を提供する。
【解決手段】ＲＳｉＯ_3/2単位（式中、Ｒは、炭素数１乃至４のアルキル基、炭素数６乃至２４の芳香族基、ビニル基、γ−（メタ）アクリロキシプロピル基又はＳＨ基をもつ有機基の少なくとも１種を示す）およびＳｉＯ_4/2単位からなる構造を有し、ＲＳｉＯ_3/2単位の割合が２０モル％以上であり、かつ、水系で乳化剤を用いて体積平均粒子径が０．０１〜５μｍの粒子状に合成されたシリコーン系微粒子、該微粒子にビニル系単量体をグラフト重合した複合微粒子、並びにそれらの製造方法。 （もっと読む）

ジメチコーンコポリオールポリマーをジメチコーンコポリオールマクロマーから合成する。マクロマー繰り返し単位を含有するポリマーは、柔軟性、潤滑性、固定性、耐湿性、撥水性、光沢、表面改質および界面活性剤特性をもたらすような、パーソナルケア、布地処方物および産業処方物を含む種々の用途に有用である。本発明のジメチコーンコポリオールマクロマーは、無水イタコン酸が異性化し、異性化生成物とヒドロキシ含有ジメチコーンコポリオールとがエステル化することによって得られる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板のエッチング処理された内周端面上に形成される被膜の厚みを大きくする。
【解決手段】中央に円孔を有する円板状ガラス板の内周端面をエッチング処理し、その内周端面に有機ポリシラザン化合物を含有する液を塗布し、焼成する工程を有し、その化合物が構造単位−Ｓi（Ｒ^１）（Ｒ^２）−（ＮＨ）−および構造単位−Ｓi（Ｒ^３）（Ｒ^４）−Ｏ−を有し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はいずれも、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基およびアルコキシ基からなる群から選ばれる基または水素であり、Ｒ^１およびＲ^２のいずれか１以上とＲ^３およびＲ^４のいずれか１以上とは前記群から選ばれる基である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

ＳＰＤライトバルブの光変調エレメントとして使用するのに好適なフィルムである。前記フィルムは架橋されたポリマーマトリックス含み、前記架橋されたポリマーマトリックス中に分布したライトバルブ懸濁液の液滴を有する。前記ライトバルブ懸濁液は液体懸濁媒体中に懸濁した粒子を含み、前記ポリマーマトリックスは次のユニットのそれぞれを一つ以上含む少なくとも一つのシロキサンコポリマーを含み：（ａ）シリコン含有非架橋性モノマー、シリコン含有非架橋性のオリゴマーおよび前記モノマーおよび前記オリゴマー両方の組合せから構成されるグループから選択される少なくとも一つのユニット、（ｂ）少なくとも一つのシリコン含有架橋性モノマーユニット、および（ｃ）基材に接着可能な１以上のアンヒンダード極性基を含む非架橋ペンダント部分を含む少なくとも一つのシリコン含有モノマーであって、前記極性基は全体として前記マトリックスポリマーが架橋されることを妨げないユニット。前記フィルムは、上述した（ｃ）に引用されるユニットを含まないフィルムよりも基材に対する接着力が大きいことを示す。追加実施形態には、本発明によるフィルムの製造方法ばかりではなく光変調エレメントとしてフィルムを組み込んだ懸濁粒子デバイスも含む。 （もっと読む）

ヘテロアリールの単位およびＳｉ、Ｓｎ、ＧｅまたはＰｂの単位を含む前駆体ポリマ、これらの前駆体ポリマを製造する方法、導電性ポリマを調製するためにこれらの前駆体ポリマを利用する用途が本明細書中に開示されている。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子等に形成されているパターン形状を隠すために好適な着色層を形成するための着色シリカ系被膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】 着色シリカ系被膜形成用組成物は、シロキサンポリマーと、着色剤と、溶媒とを含む。このシロキサンポリマーとしては、ラダー型シロキサンポリマーが好適に用いられる。 （もっと読む）

【課題】有機修飾シロキサンの調製方法の提供。
【解決手段】シロキサンを末端不飽和エステルでヒドロシリル化することにより、有機エステルで修飾されたシロキサンを調製する方法、触媒として、加水分解酵素群からの、リパーゼ、エステラーゼ、またはプロテアーゼ、好ましくはリパーゼ、より好ましくはカンジダ アンタークチカ（Ｃａｎｄｉｄａ ａｎｔａｒｃｔｉｃａ）由来のリパーゼＢである酵素が使用され、末端不飽和エステルを調製する方法。 （もっと読む）

本発明は、特に光導波路に使用可能なケイ酸縮合生成物であって、（Ａ）一般式（１）：Ｒ^１_２Ｓｉ（ＯＲ^２）_２〔式中、Ｒ^１は、少なくとも１個の芳香族基を有する炭素原子数が６〜２０個の基を表し、Ｒ^２は、Ｈ（Ｈは重水素Ｄであってよい）を表す。〕で示されるシランジオール化合物と、（Ｂ）一般式（２）：Ｒ^３Ｓｉ（ＯＲ^４）_３〔式中、Ｒ^３は、少なくとも１個のＣ＝Ｃ二重結合を有する有機基を表し、Ｒ^４は、Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１（ｎ＝１または２の数である）を表す。〕で示される変性シラン化合物を、（Ａ）：（Ｂ）のモル比として１．１〜１．４：１の範囲内で縮合させることにより得られる縮合生成物及びその製造方法、並びに該生成物を使用してなる光導波路デバイスに関する。 （もっと読む）

【課題】高い熱安定性を有し、有機溶剤に可溶で且つ製膜性に優れたシルセスキオキサン含有重合体の提供。
【解決手段】式（１−１）で示されるシルセスキオキサン誘導体と、式（ａ−１）〜式（ａ−５）で示される化合物とをヒドロシリル化反応させた重合体。
（もっと読む）

【課題】 新規な含フッ素オルガノポリシロキサン、およびその製造方法を提供することにあり、また、本発明の他の目的は、このような含フッ素オルガノポリシロキサンを含有し、均質で透明性を有し、表面潤滑性に優れた皮膜を形成する有機ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】 一般式：
【化１】


｛式中、Ｒ¹はフッ素原子含有有機基もしくはフッ素原子を有さない一価炭化水素基、但し、少なくとも１個のＲ¹はフッ素原子含有有機基、Ｚは、前記Ｒ¹、一般式(Ｉ)：−[Ｒ²−(ＳiＲ¹₂)_a]_b−Ｑ（式中、Ｒ¹は前記と同じ、Ｒ²はアルキレン基、Ｑはポリスチレン系残基、ａは０または１であり、ｂは０または１である）で表される基、水酸基、水素原子、およびアルコキシ基からなる群より選択される基、但し、Ｚの少なくとも一つは前記一般式(Ｉ)で表される基、ｍは１以上の整数である｝で表される含フッ素オルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

【課題】硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを提供すること。
【解決手段】上記課題は、不飽和エラストマーと反応できる、化学的に保護された硫黄基を含む、硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを含んでなる組成物により解決する。特定の条件下で、硫黄基は、不飽和エラストマーと反応してもよい。前記硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンが更にフィラー表面とカップリングできる官能基を含むことが好ましい。本発明は、硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを製造・使用する方法に関する実施形態を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】ケイ素含有ポリマーおよびそのポリマーから形成される光導波路の提供。
【解決手段】式Ｓｉ（ＯＲ^１）_３の第一反応物質および式Ｒ^２Ｏ（Ｒ^３_２Ｓｉ−Ｏ）_ＸＯＲ^４の第二反応物を含むケイ素含有反応物質の縮合生成物を含むポリマーが提供される。また、光導波路の形成において使用するのに好適な当該ポリマーを含む組成物、並びに当該ポリマーから形成される光導波路も提供される。これらのポリマー、組成物および光導波路は、電気的および光学的機能性を有するプリント配線基板の形成における特定の用途を有している。 （もっと読む）

【課題】 新規な含フッ素オルガノポリシロキサン、その製造方法、およびそれを含有し、均質で透明性を有し、表面潤滑性に優れた皮膜を形成する有機ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】 一般式：
【化１】


｛式中、Ｒ¹は置換もしくは非置換の一価炭化水素基（但し、式：−ＣＦ₃で表される基を少なくとも２個含有するフッ素置換一価炭化水素基を除く）、Ｘは、式：−ＣＦ₃で表される基を少なくとも２個含有するフッ素原子含有有機基、Ｙは、一般式：−Ｒ²−(ＳiＲ¹₂)_a−Ｑ（式中、Ｒ¹は前記と同じ、Ｒ²はアルキレン基、Ｑはポリスチレン系残基、ａは０または１）で表される基、Ｚは、Ｒ¹、Ｘ、Ｙ、水酸基、水素原子、およびアルコキシ基からなる群より選択される基、ｌは０以上の整数、ｍは０以上の整数、ｎは１以上の整数、但し、ｍが０である場合、Ｚの少なくとも一つはＸである。｝で表される含フッ素オルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

ポリジオルガノシロキサンポリオキサミド、線状、ブロックコポリマー類及び当該コポリマー類の製造方法を提供する。前記コポリマー類の製造方法は、ジアミンをオキサリルアミノ基を有するポリジオルガノシロキサン前駆体と反応させることを伴う。前記ポリジオルガノシロキサンポリオキサミドブロックコポリマー類は、（ＡＢ）_ｎ型である。 （もっと読む）

【課題】優れたプロトン伝導性、メタノールクロスオーバー防止性を有するプロトン伝導性膜を製造することができ、かつ、プロトン伝導性膜の生産性を大幅に向上させることが可能なプロトン伝導性膜の製造方法、プロトン伝導性膜及び燃料電池を提供する。
【解決手段】スルホン酸基と金属−酸素結合からなる架橋構造とを有するプロトン伝導性膜を製造する方法であって、金属−酸素結合を有する構造単位（ａ）と金属−酸素結合を有する構造単位と共有結合で結合したメルカプト基及び／又はスルフィド基を有する構造単位（ｂ）とからなる架橋性化合物を含有する液状体を調製する工程、前記架橋性化合物を含有する膜状体を作製する工程、及び、水蒸気雰囲気下で前記膜状体に紫外線照射又はプラズマ処理を行うことにより、前記メルカプト基及び／又はスルフィド基をスルホン酸基とすると同時に、前記膜状体を硬化させる工程を有するプロトン伝導性膜の製造方法。 （もっと読む）