【課題】水吸着性および比誘電率が低く、エッチング耐性および薬液耐性に優れ、かつ、機械的強度に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される少なくとも１種のシランモノマーと、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーと、（Ｃ）加水分解性基含有カルボシランとを、塩基性触媒の存在下で共縮合することによって得られたポリマーと、有機溶剤と、を含有する。
【化１】


・・・・・（１） （もっと読む）

その加水分解性サイトの加水分解に際して、すべてが加水分解可能なアルコキシ基である加水分解性サイトを同数にて有するシランの加水分解によって生成される揮発性有機化合物と比較して、減少した量の揮発性有機化合物を生成するエポキシシランを加水分解させることを包含する、低ＶＯＣエポキシシランオリゴマーの製造方法であって、前記エポキシシランの加水分解が１．５当量未満の水を用いて行われ、加水分解反応の間に前記水が連続的に供給される、方法。 （もっと読む）

【課題】繰り返し使用しても優れた耐磨耗性を維持し得る帯電部材、ならびに、該帯電部材を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。
【解決手段】オキシアルキレン基を有するポリシロキサンと、１ｎｍ以上５００ｎｍ以下の平均粒子径を有する無機微粒子とを含有する材料からなる表面層を有する帯電部材。 （もっと読む）

【課題】高温高湿または低温低湿環境において長期間の繰り返し使用によっても安定的な帯電特性を有し、かつ耐リーク性に優れた帯電部材を提供する。
【解決手段】支持体と、該支持体上に形成された導電性弾性層と、該導電性弾性層上に形成された表面層とを有する帯電部材において、該表面層が、オキシアルキレン基を有するポリシロキサンと、π共役系金属錯体とを含有する帯電部材である。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも次の成分：（ｉ）グリシジルオキシプロピルアルコキシシラン、（ｉｉ）＞１質量％の固体含有量を有する水性シリカゾル、（ｉｉｉ）加水分解触媒としての有機酸、及び（ｉｖ）架橋剤としてのｎ−プロピルジルコナート、ブチルチタナート又はチタンアセチルアセトナートを反応させることに基づき、０．７５の成分（ｉｉ）の固体質量対成分（ｉ）の質量比から出発する、あらゆる比率で水で希釈可能なゾルゲル組成物、その製造方法、その使用、特に腐食保護被覆、相応する腐食保護被覆又はプライマー被覆としてのゲル組成物としての使用、及びこのような被覆を備えた物品を提供する。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性、耐紫外線性、光学的透明性、強靭性及び接着性を有する被膜を形成できる光関連デバイス封止用組成物、その硬化物並びに該組成物による封止方法を提供する。
【解決手段】（イ）平均組成式：Ｒ¹_a(ＯＸ)_bＳｉＯ_(4-a-b)/2
（Ｒ¹はアルキル基、アルケニル基又はアリール基、Ｘは式：−ＳｉＲ²Ｒ³Ｒ⁴（Ｒ²〜Ｒ⁴は１価炭化水素基）で表される基と、アルキル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基又はアシル基との組み合わせ、ａは1.00〜1.5の数、ｂは０＜ｂ＜２の数、但し、1.00＜ａ＋ｂ＜２）
で表される重量平均分子量５×10⁴以上のシリル化オルガノポリシロキサン、及び
（ロ）縮合触媒
を含む光関連デバイス封止用樹脂組成物、該組成物を硬化させてなる透明な硬化物、並びに該組成物を半導体素子に塗布することと、該半導体素子に塗布された組成物を硬化させることとを有する半導体素子の封止方法。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性、耐熱性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】Ｍ^m+Ｘ_nＹ¹_m-nで表わされる化合物を加水分解・重縮合して得られる重縮合物を乾燥して、固体Ｓｉ−ＮＭＲにおいて、全ケイ素に対する、Ｄⁿ化合物のケイ素のモル比が３０％以上であり、３量体及び４量体のＤ²環状物の合計モル比が０．１％以上１５％以下であり、ケイ素含有率が２０重量％以上である半導体発光デバイス用部材を作製する。
（ただし、Ｍはケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタンを表わし、Ｘは加水分解性基を表わし、Ｙ¹は１価の有機基を表わし、ｍはＭの価数を表わす１以上の整数を表わし、ｎはＸ基の数を表わす１以上の整数を表わす。但し、ｍ≧ｎ。） （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、面状が良好なシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた膜を形成できる組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ケイ素含有化合物の加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれか、有機溶媒、ＳＰ値１２以上の溶媒を含有する膜形成用組成物であって、ＳＰ値１２以上の溶媒の量が該膜形成用組成物中０．１質量％以上２０質量％未満の範囲であることを特徴とする膜形成用組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】シリケート化合物を配合する塗料において、その耐汚染性を改善することが可能な実用的な手法を提供する。
【解決手段】塗料用樹脂の固形分１００重量部に対し、シリケート化合物をＳｉＯ_２換算で０．１〜５０重量部の比率で含む塗料組成物において、前記シリケート化合物として、テトラアルコキシシラン縮合物（ａ）が、一分子中に水酸基を３個以上有し、分子量が５００未満である多価アルコール（ｂ）によって変性された変性シリケート化合物を使用する。前記変性シリケート化合物としては、前記テトラアルコキシシラン縮合物（ａ）１モルに対し、前記多価アルコール（ｂ）０．０１〜１モルの比率で変性されたものが好適である。 （もっと読む）

【課題】
耐熱性及び耐光性が改良された発光装置を提供する。
【解決手段】
発光素子と、前記発光素子が載置された少なくとも一部が金属からなるパッケージとを有し、
前記発光素子は前記パッケージの金属部分に共晶接合されており、
前記発光素子は、
（イ）下記平均組成式（１）：
Ｒ^１_ａ(ＯＸ)_ｂＳｉＯ_{(４−ａ−ｂ)／２} （１）
（式中、Ｒ^１は、独立に、炭素原子数１〜６のアルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、Ｘは、独立に、水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基またはアシル基であり、ａは1.05〜1.5の数であり、ｂは０＜ｂ＜２を満たす数であり、但し、1.05＜ａ＋ｂ＜２である）
で表される、ポリスチレン換算の重量平均分子量が５×10^３以上であるオルガノポリシロキサン、および
（ロ）縮合触媒
を含有する樹脂組成物の硬化物からなる樹脂層で被覆されている発光装置。 （もっと読む）

【課題】新規なエポキシシランオリゴマーの製造方法の提供。
【解決手段】当該方法は、２つ又は３つのアルコキシ基を有する反応グリシドキシシラン及び／又は脂環式エポキシシランと、任意にグリシドキシ及び脂環式エポキシシラン以外の共重合性シランを、触媒の存在下で１．５当量未満の水と反応させる方法であって、前記水が反応工程の間連続的に供給されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率の絶縁材料を形成できる化合物、該化合物を含有する絶縁材料形成用組成物、該組成物より得られる絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)で表される化合物、その加水分解物および／または縮合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｒ₁〜Ｒ₈は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。ただし、Ｒ₁〜Ｒ₈で表される基のうち少なくとも１つは、置換基として下記一般式（２）で表わされる基を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。
【化２】


一般式（Ｓ２）中、Ｘは加水分解性基を表し、Ｒ₉はアルキル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表す。ｍは１〜３の整数を表わす。 （もっと読む）

本発明は、電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンを提供する。即ち本発明は、式（１）で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサンである。

（もっと読む）

【課題】 誘電率が低く、機械的強度が高い絶縁材料を提供できる化合物、及び該化合物を用いた絶縁材料形成用組成物、当該組成物より得られる絶縁膜などの絶縁材料を提供する。
【解決手段】 アダマンタン構造に連結基を介してケイ素を含有する基が置換した特定の化合物を加水分解及び／または縮合して得られるケイ素酸素架橋化合物、及び該化合物を用いた絶縁材料形成用組成物、当該組成物より得られる絶縁材料。 （もっと読む）

【課題】シリコーンのもつ優れた耐熱性、耐候性に加えて高い透明性と衝撃吸収性を付与し、広範囲な用途に使用可能な材料を提供する。
【解決手段】（ａ）アルコキシ基含有３官能シリコーンオリゴマーの少なくとも１種、（ｂ）シラノール基含有２官能シリコーンオリゴマーの少なくとも１種、（ｃ）Ｍ（ＯＲ^４）p（Ｒ^５ＣＯＣＨＣＯＲ^６）〔式中、Ｍはジルコニウム、チタニウム、アルミニウムを示し、Ｒ^４およびＲ^５は同一または異なって、炭素数１〜６の１価炭化水素基を示し、Ｒ^６はＲ^４およびＲ^５と同様の炭素数１〜６の１価炭化水素基の他、炭素数１〜１６のアルコキシ基を示し、ｐおよびｑは０〜４の整数で（ｐ＋ｑ）＝（Ｍの原子価）である。〕で表される有機金属化合物、および（ｄ）水を主成分とするポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンの提供。
【解決手段】式（１）で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサン。
（もっと読む）

本発明は、フィラーを含む一成分重縮合ポリオルガノシロキサン組成物に関する。本発明は、湿気の不存在下で貯蔵安定的であり、水の存在下で架橋してエラストマーになる一成分ポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）組成物に関し、少なくとも１種の架橋可能な直鎖ポリオルガノシロキサンＰＯＳ、フィラーおよび架橋触媒を含み、ＰＯＳがアルコキシ、オキシム、アシルおよび／又はエノキシ、好ましくはアルコキシ末端を有し、組成物には、基本的には末端にヒドロキシル化ＰＯＳがなく、触媒がバナジウム組成物およびチタン組成物を含む。 （もっと読む）

【課題】保存安定性、接着性及び物理的性質が向上したエマルションを提供する。
【解決手段】新規なヒンダードアルコキシシロキサン化合物及びヒンダードアルコキシシロキサン化合物を含有する組成物あり、この組成物は、ヒンダードアルコキシ基を有する懸垂又は末端シランで変性されたシリコーン流体、又はシラノール流体及び架橋性化合物、又はそれらの混合物を含む自己架橋性樹脂から構成された重合体／架橋剤系を含有する。まずこれらの成分を乳化し、次に適当な触媒の別のエマルションと混合することによりラテックスシーラントとする。架橋は、そのエマルションを乾燥することにより起きる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置用の有機シリカ系膜と，その形成方法を提供する。
【解決手段】形成方法は、絶縁膜形成用組成物を基板に塗布する工程、前記塗膜を加熱する工程、前記塗膜に熱と紫外線を照射して硬化処理を行う工程とを含む。前記絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）〜（４）で表される化合物の加水分解縮合物で、炭素原子を１１．８〜１６．７モル％含有する有機シリカゾル、有機溶媒とを含む。 Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３ ・・・・・（１） Ｓｉ（ＯＲ^３）_４ ・・・・・（２） （Ｒ^４）_２Ｓｉ（ＯＲ^５）_２ ・・・・・（３） Ｒ^６_ｂ（Ｒ^７Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^１０）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^８）_３−ｃＲ^９_ｃ・・・（４） 〔式中、Ｒ^１〜Ｒ^９は、それぞれアルキル基またはアリール基を示し、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜２の数を示し、Ｒ^１０は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｍ−で表される基（ここで、ｍは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られる樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有してなり、上記化合物が、テトラアルコキシシラン及びトリアルコキシシランを含むものである。 （もっと読む）