【課題】光透過性が良好で、低吸湿性であり、高温使用時の変色がない光半導体素子封止用樹脂、および良好な輝度保持率を有する、該樹脂を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置を提供すること。
【解決手段】ケイ素化合物とアルミニウム化合物を反応させて得られるポリアルミノシロキサンを含む光半導体素子封止用樹脂、および該光半導体素子封止用樹脂を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置。 （もっと読む）

【課題】ポリジメチルシロキサンの調製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、８〜２５重量％の含水量を有するスルホン酸含有カチオン交換樹脂によるポリジメチルシロキサンの制御された再編成のための方法、ならびにこのように調製されたポリジメチルシロキサンおよびその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】共有結合した末端ハロゲンを含まず、触媒として使用された遷移金属を好ましくは可能な限り容易かつ完全に除去することができるポリシロキサンブロックコポリマーを提供すること。
【解決手段】本発明は、式Ａ［ＬＢ（Ｓ）Ｑ］_ｍ（式中、Ａは、ポリシロキサンブロックであり、Ｌは、２価の有機結合基であり、Ｂは、ラジカル重合性モノマーから構成されるポリマーブロックであり、Ｓは、硫黄原子であり、Ｑは、１価の有機基であり、ｍは、１〜５０の整数である）のポリシロキサンブロックコポリマー、その製造方法、および化粧またはパーソナルケアにおけるその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、生産性が良く熱可塑性樹脂との相溶性に優れる中空シリコーン系微粒子を含有することにより、透明性に優れた熱可塑性樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】 内部に空洞を有し、外殻部がシリコーン系化合物（Ａ）からなる中空シリコーン系微粒子を含有することを特徴とする、熱可塑性樹脂フィルム。熱可塑性樹脂１００重量部に対して、前記中空シリコーン系微粒子を０．０１〜２０重量部含有することが好ましい。シリコーン系化合物（Ａ）は、ＳｉＯ_４／２単位、ＲＳｉＯ_３／２単位およびＲ_２ＳｉＯ_２／２単位からなる群より選ばれる１単位以上からなり、Ｒ_２ＳｉＯ_２／２単位の割合が２０モル％以下、ＲＳｉＯ_３／２単位の割合が５０モル％以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、生産性が良い中空シリコーン系微粒子と加水分解可能な珪素化合物および硬化触媒を含有することにより、低温での硬化で、反射率が低く透明性と膜強度の高い被膜付基材を提供する。
【解決手段】 中空シリコーン系微粒子（Ａ）、加水分解可能な珪素化合物（Ｂ）および、シラノール基の縮合を促進する硬化触媒（Ｃ）を含有し、室温または室温から基材が損なわれない温度（熱可塑性樹脂では変形温度、熱硬化性樹脂では分解温度以下）で反応硬化させて得られることを特徴とする、被膜が単独または他の被膜とともに基材表面上に形成された中空シリコーン系被膜付基材。 （もっと読む）

【課題】高温処理を行なう必要なく、低誘電率で且つ高い機械的強度を有する被膜を形成することができる低誘電率被膜形成用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】低誘電率粒子とマトリクス形成材料とを含有する低誘電率被膜形成用樹脂組成物に関する。低誘電率粒子が、テトラアルコキシシラン、アミノ基を有するアルコキシシラン、４級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤、２つ以上の水酸基を有する多価アルコール、及び水を含有する混合液中で、テトラアルコキシシランとアミノ基を有するアルコキシシランをアルカリ存在下で共加水分解反応させることにより、メソ孔を表面に有する球状のシリカナノ粒子を生成させた後、酸溶液中で４級アンモニウム塩カチオン性界面活性剤を抽出することによって調製されたメソポーラスシリカ微粒子であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬化物の機械的強度、透明性、耐熱性及び半導体素子を封入するハウジング材等に対する密着性に優れる光半導体用熱硬化性組成物、これを用いた光半導体素子用封止剤、光半導体素子用ダイボンド材、並びに、該光半導体用熱硬化性組成物、該光半導体用封止剤、光半導体素子用ダイボンド材及び／又は光半導体素子用アンダーフィル材を用いてなる光半導体素子を提供する。
【解決手段】分子内に環状エーテル含有基を１個以上有するシリコーン樹脂、前記環状エーテル含有基と反応可能な熱硬化剤、及び、有機ケイ素系化合物で表面処理された酸化ケイ素微粒子を含有する光半導体用熱硬化性組成物。 （もっと読む）

本発明は、新規シリカゾル材料ならびに改善された特性を有する生物吸収性および生物分解性シリカゲル材料を製造するための該材料の使用に関する。繊維、不織布、粉末、モノリスおよび／または被覆などの材料を、例えば、医療技術および／またはヒト医学において、特に傷処置のために使用する。 （もっと読む）

【課題】 耐候性および耐汚染性に優れるだけではなく、高い透明性と硬度を有する硬化膜や硬化物を得させる複合微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる複合微粒子の製造方法は、有機鎖とポリシロキサン基から構成され、前記ポリシロキサン基中に少なくとも１個のＳｉ−ＯＲ^１基（Ｒ^１は水素原子、および、置換されていてもよいアルキル基、アシル基から選ばれる少なくとも１種の基であり、Ｒ^１が１分子中に複数ある場合、複数のＲ^１は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。）を有する含珪素ポリマー（Ｐ）を、単独で、または加水分解可能な金属化合物（Ｇ）とともに、加水分解・縮合する工程と、加水分解・縮合物にエチレン性不飽和基を有するカップリング剤を反応させる工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 本願発明の目的は、鎖状及び／又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と炭素−炭素二重結合とエポキシ基を有する化合物とをヒドロシリル化反応させた後、ゲル化させずに反応液中の未反応化合物及び溶剤を減圧下で留去させる方法を提供する。
【解決手段】
（Ａ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する鎖状及び／又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、（Ｂ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合とエポキシ基を１分子中に少なくとも各１個含有する有機化合物とを、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させてエポキシ基含有オルガノシロキサン化合物を製造する方法において、前記化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）の反応終了後、前記反応液に（Ｄ）リン含有化合物を添加し、減圧下で未反応化合物及び溶剤を除去することを特徴とする、エポキシ基含有オルガノシロキサン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物、および当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。
【解決手段】ポリシロキサンは、−（Ｓｉ（Ｒ）Ｏ_２）−〔Ｒは、−Ｒ^１ＮＨＳＯ_２Ｒ^２基であり、Ｒ¹ およびＲ² は置換されていてもよい直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基（但し、Ｒ² はフッ素原子をもたない。）を示す。〕で表される構造単位を有し、好ましくはさらに−（Ｓｉ（Ｒ^３ＣＯＯＲ^４）Ｏ_２）−〔Ｒ^３は環状２価炭化水素基、Ｒ^４は１価の酸解離性基を示す〕で表される構造単位を有する。 （もっと読む）

本発明は、Ｓｉ−結合ヒドロキシ基を一方の分子鎖末端でのみ有するジオルガノポリシロキサンの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 乾燥後の毛髪に優れた使用感を付与し、根元から毛先まで均一な柔軟性を付与することができる、特に化学処理により損傷の進んだ髪に適する毛髪化粧料を提供する。
【解決手段】 次の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）；
（Ａ）一般式（１）
【化１】


で表されるエーテル型陽イオン性界面活性剤
（Ｂ）脂肪族アルコール
（Ｃ）窒素原子を下記一般式（２）
【化２】


で表わされるポリ−（Ｎ−アシルアルキルイミン）単位と共に含有するアルキレン基に結合した１個以上のケイ素原子を有し、シリコーンセグメントの重量含有率が４０％以上であるオルガノポリシロキサン
を含有する毛髪化粧料組成物。 （もっと読む）

【課題】 分散が安定で粒子径の揃って球形度の良好な有機無機ハイブリッド粒子の水性分散体の製造方法を提供する。
【解決手段】 まず少なくとも一部が塩基性化合物で中和されたアニオン性基を有する樹脂の樹脂水溶液中に、多価金属アルコキシド、または多価金属アルコキシドの加水分解縮合生成物を溶解または懸濁させた混合物を製造し、前記混合物中の多価金属アルコキシド、または多価金軸アルコキシドの加水分解縮合生成物を加水分解、縮合させる。その後、前記混合物中の前記樹脂の溶解度を低下させることにより前記混合物を乳化、または粒子化させるとともに、前記混合物内の多価金属アルコキシドの加水分解縮合生成物をゲル化させる。 （もっと読む）

【課題】 電気化学素子への応用に好適な、熱安定性、機械的安定性、耐溶媒性が良好で、低湿度においてもプロトン伝導性の優れた経済的に安価なハイブリッドシリカポリマーとその製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）：
(HO_３S-CH_２-CH_２-CH_２-SiO_3/2)_ｎ（HS-CH_２-CH_２-CH_２-SiO_3/2)_ｍ（SiO_２)_1-n-m ‥（１）
（式中、ｎ＝０．３０〜０．６３、ｍ＝０．０３〜０．４０、ｎ＋ｍ＝０．３３〜０．７０である。）
で表される無機−有機ハイブリッドスルホン酸含有メソポーラスシリカポリマーであるメソポーラスなシリカポリマー。このポリマーをプロトン伝導性材料として、燃料電池、キャパシター、電解セルなどの電気化学素子に応用する。 （もっと読む）

本発明は、シリコーン樹脂、具体的にはポリメチルビニルシロキサン樹脂の分野に関する。さらに具体的には、本発明は、少なくとも２種の異なるタイプのシロキシ単位Ｒ₃ＳｉＯ_1/2（Ｍ単位）及びＳｉＯ_4/2（Ｑ或いはＱ^OH単位）を含むポリメチルビニルシロキサン樹脂の製造方法において、次の工程：（ａ）単位Ｑを含むシロキサン樹脂をシロキサン樹脂先駆物質、好ましくは珪酸アルカリ金属の酸加水分解によって製造し、（ｂ）工程（ａ）で得られたシロキサン樹脂を非極性溶媒の存在下にハロシランで官能化させ、ここで、該官能化は、揮発性オリゴシロキサンを含む副産物（シロックス）を生じさせ、（ｃ）工程（ｂ）で生じたシロックスを非極性溶媒の溶液の状態で回収し、及び（ｄ）工程（ｂ）で官能化された樹脂を強塩基で転位させてシラノールを除去することを含み、しかも、工程（ｂ）中に生じ且つ工程（ｃ）で回収されたシロックスの少なくとも一部分を再循環させることを特徴とする、ポリメチルビニルシロキサン樹脂の製造方法に関するものである。 （もっと読む）

加水分解反応器、ＨＣｌ精製器、洗浄手段、及び分離器を有するループシステムにおいて、クロロシランが加水分解されて加水分解物にされる。方法のステップは、（ｉ）外部供給源から加水分解反応器へクロロシランを供給すること、（ｉｉ）外部供給源から洗浄手段へ水を供給すること、（ｉｉｉ）少なくとも１０重量パーセントのＨＣｌである高濃度塩酸を、洗浄手段と加水分解反応器との間で、外部供給源から加水分解反応器へ供給すること、（ｉｖ）無水塩化水素をＨＣｌ精製器から除去すること、（ｖ）加水分解物を洗浄手段から除去すること、及び（ｖｉ）０．１重量パーセントから１０重量パーセント未満のＨＣｌである低濃度塩酸をループシステムから除去することを含む。
（もっと読む）

【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ′は炭素数１〜３のアルキル基、ｍは０、１または２を意味する）で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する１価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、５０〜２００℃で乾燥し、ついで３００〜１０００℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【課題】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなる有機無機ハイブリッド構造を有するシリカ系メソ構造体であるにも拘らず、十分な柔軟性を有しており、柔軟性が高く強度に優れた自立膜を形成することができ、しかも機能性の高い種々の有機基を骨格内に導入することが可能なシリカ系メソ構造体を提供すること。
【解決手段】 有機基を含むケイ素酸化物の骨格からなり、１ｎｍ以上のｄ値に相当する回折角度に１本以上のピークを有するＸ線回折パターンを示すシリカ系メソ構造体であって、Ｔサイト骨格成分の存在割合（Ｔモル％）と、Ｄサイト骨格成分の存在割合（Ｄモル％）と、Ｓサイト骨格成分の存在割合（Ｓモル％）とが、Ｔ≠０の場合は下記数式（Ｆ１）、Ｔ＝０の場合は下記数式（Ｆ２）：
｛（Ｄ＋Ｓ）／（Ｔ＋Ｄ＋Ｓ）｝≧０．１ （Ｆ１）
｛Ｓ／（Ｄ＋Ｓ）｝≦０．９］ （Ｆ２）
で表される条件を満たしていることを特徴とするシリカ系メソ構造体。 （もっと読む）