希釈ポリシロキサン含有ポリマーの製造方法であって、ｉ）オルガノポリシロキサン及び／又は有機系の希釈材料、適当な触媒、並びに任意に末端封鎖剤の存在下で、縮合性基を含むシロキサン含有モノマー及び／又はオリゴマーの重縮合によってポリシロキサン含有ポリマーを調製する工程と、ｉｉ）必要であれば、重合プロセスを失活させる工程とを含み、希釈材料が、得られる希釈オルガノポリシロキサン中に実質的に保持される、希釈ポリシロキサン含有ポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 感光性樹脂組成物用の溶剤との相溶性に優れ、表面張力低下能、表面平滑能が高く、かつ、安全性の高い感光性樹脂組成物用レベリング剤を含有した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）で表されるオルガノポリシロキサン残基である構成単位Aと、下記式（２）で表される（ポリ）グリセリン誘導体残基である構成単位Bが、A-B-Aで結合されてなる（ポリ）グリセリン変性シリコーンを0.01〜20重量％含有する。
［但し、式（１）中、R¹は、互いに独立に、ハロゲンで置換されていてもよい炭素数1〜10の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基であり、xは0〜100の整数であり、αは1又は2である。また、式（２）中、R²は、互いに独立に、炭素数2〜11のアルキレン基であり、sは1〜11の整数である。］


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【課題】液相プロセスを用いて、均一な膜厚の膜を形成することができる高次シラン組成物、かかる高次シラン組成物を用いる膜付基板の製造方法、膜付基板を備える電気光学装置および電子デバイスを提供すること。
に関するものである。
【解決手段】高次シラン組成物は、高次シラン化合物と、液体状のシラン化合物と、該シラン化合物より沸点（常圧）の高い溶媒とを含有する。溶媒の沸点は、シラン化合物の沸点（常圧）をＡ［℃］とし、溶媒の沸点（常圧）をＢ［℃］としたとき、Ｂ−Ａが１０以上なる関係を満足するのが好ましい。このような高次シラン組成物は、例えば光重合性を有するシラン化合物と、溶媒を混合し、シラン化合物の一部が重合して高次シラン化合物に変化し、他の一部が未反応物として残存するような線量で紫外線を照射することによって調製することができる。 （もっと読む）

パーソナルケア組成物に有用なシロキサン共重合体であって、ジメチルシロキサン単位（Ａ）と、少なくとも１つのメチル（ポリオキシアルキレン）−アルキルシロキサン単位（Ｂ）と、少なくとも１つの低級アルキルアミノアルキルシロキサン又は低級アルキルアミドアルキルシロキサン単位（Ｃ）と、アルキル基が無置換で且つ５〜３０個の炭素原子を有する、少なくとも１つのメチルアルキルシロキサン単位（Ｄ）を含むシロキサン共重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】 低アミン当量で繊維に対応する柔軟性付与特性が高い、高分子量のアミノ基含有シリコーンを、簡便且つ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表わされるα，ω‐ジヒドロキシポリジアルキルシロキサンと、下記一般式（２）で表わされるアミノ基含有オルガノシランとを縮合反応させ、次いで、得られた縮合反応物に塩基性触媒又は塩基性触媒水溶液を添加した後、加熱処理して重縮合させる事を特徴とする、アミノ基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。


Ｒ^１_ａ（Ｒ^２Ｏ）_３−ａＳｉ−Ｒ^３−（ＮＲ^２ＣＨ_２ＣＨ_２）_ｂＮＲ^４_２ （２）
一般式（１）におけるＲ^１は、置換又は非置換の炭素数１〜６のアルキル基、又はフェニル基であり、ｎは１０〜１，０００の整数を表す。
一般式（２）におけるＲ^１は一般式（１）のＲ^１と同じであり、Ｒ^２及びＲ^４は、水素原子もしくは炭素数１〜４の１価炭化水素基、Ｒ^３は炭素数１〜６の２価炭化水素基、ａは０又は１の整数、ｂは０〜２の整数を表す。 （もっと読む）

撥油性、撥水性、および汚れ抵抗性を基材に付与するのに有用な組成物であって、ポリフルオロアルキルスルホニルハライドを式ＩＩ、ＩＩＩ、またはＩＶの化合物
式ＩＩ：
（Ｅ−（Ｏ）_ｑ）_３Ｓｉ−Ｏ−（Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｏ）_ｍ−［Ｓｉ（Ｒ^３−ＮＨＲ^４）（Ｒ^２）Ｏ］_ｎ−Ｓｉ−（（Ｏ）_ｑ−Ｅ）_３
式ＩＩＩ：
ＨＲ^４Ｎ−Ｒ^３−Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｏ］_ｍ−［Ｓｉ（Ｒ^３−ＮＨＲ^４）（Ｒ^２）Ｏ］_ｎ−Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｒ^３−ＮＨＲ^４
式ＩＶ：
ＨＲ^４Ｎ−Ｒ^３−Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｏ−［Ｓｉ（Ｒ^２）_２−Ｏ］_ｍ−Ｓｉ−（（Ｏ）_ｑ−Ｅ）_３
（式中、
それぞれのＲ^２は、独立に、Ｃ_１〜Ｃ_８のアルキルであり、
それぞれのＲ^３は、独立に、炭素と、酸素と、任意選択的に窒素、酸素、および硫黄のうちの少なくとも１つとを含む２価の基であり、
それぞれのＲ^４は、独立に、ＨまたはＣ_１〜Ｃ_８のアルキルであり、
それぞれのＥは、独立に、Ｃ_１〜Ｃ_８の分枝状または線状アルキルであり、
それぞれのｑは、独立に、０または１であり、
ｎ／（ｍ＋ｎ）が０、または最高約０．７の値を有する正の分数であり、かつポリマー粘度が、２０℃の温度において０．１ｓ^−１のせん断速度下で１００００ｍＰａ．ｓ以下であるように、ｍは正の整数であり、ｎは独立に、０または正の整数である）と接触させることによって製造されたポリマーを含む組成物。 （もっと読む）

組成物が：
（Ａ）アミド置換シリコーン；および
（Ｂ）熱伝導充填剤
を包含する。本組成物は、熱界面材料として、電子装置からの熱を逃すのに使用されてもよい。
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【課題】 柔軟性、透明性、耐薬品性及び基材への接着性に優れた硬化物とすることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の硬化性組成物は、オキセタニル基を有するポリシルセスキオキサンと、エポキシ当量が３００以下のエポキシシリコーンと、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有し且つ一部又は全てが水素添加されたジエン系重合体と、カチオン重合触媒とを含有する。また、カチオン重合触媒はアルミニウム化合物であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 柔軟性、透明性、耐薬品性及び基材への接着性に優れた硬化物とすることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の硬化性組成物は、オキセタニル基を有するポリシルセスキオキサンと、エポキシ当量が３００以下のエポキシシリコーンと、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有し且つ一部又は全てが水素添加されたジエン系重合体と、酸無水物と、硬化触媒とを含有する。また、硬化触媒は、三級アミン、三級アミン塩、四級オニウム塩、三級ホスフィン、ホスホニウムイリド及びクラウンエーテル錯体から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 特定の構造単位を含むポリオルガノシロキサンを含有し、柔軟性、透明性及び基材への接着性に優れた硬化物とすることができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物は、ポリオルガノシロキサンと、エポキシ化合物と、カチオン重合触媒とを含有する硬化性組成物であって、上記ポリオルガノシロキサンは、下記式（１）で表される単位、下記式（２）で表される単位、及び、共役ジエン系重合体ブロックを含む単位を含む重合体である。


〔但し、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数２〜６のアルキレン基である。〕
［Ｒ^３−Ｓｉ−Ｏ_３／２］ （２）〔但し、Ｒ^３は有機基である。〕 （もっと読む）

新規分岐シロキサン、当該新規分岐シロキサンを含有するシリコーン剥離コーティング組成物、及び当該新規分岐シロキサンを含有するシリコーン剥離改質剤組成物は、以下の：（ｉ）下記式：
【化１】


（式中、Ｒ^ａは、炭素数１〜６を有するアルキル基、炭素数２〜６を有するアルケニル基又は炭素数２〜６を有するアルキニル基であり、Ｒ^ｂは、炭素数１〜６を有するアルキル基、炭素数２〜６を有するアルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基又はメタクリレート基であり、ｎは１〜２００であるが、但し、分岐シロキサンにおけるＲ^ａ基の少なくとも３．２〜３．９は、アルケニル又はアルキニル基である）を有する組成物を含む分岐シロキサン。
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【課題】 安定性が良好なオルガノポリシロキサンエマルジョン、及び平衡化反応時間の短いオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）環状オルガノポリシロキサン、
（Ｂ）両末端ヒドロキシル基封鎖ジオルガノポリシロキサン、
（Ｃ）両末端トリアルキルシロキシ基封鎖ジオルガノポリシロキサン
を含有し、（Ａ），（Ｂ）成分の割合が質量比で（Ａ）／（Ｂ）＝１０／９０〜８０／２０、（Ｃ）成分の配合量が（Ａ），（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して０．０５〜５質量部、２５℃の粘度が５０ｍｍ²／ｓ以下であるポリシロキサン混合物を乳化重合してなるオルガノポリシロキサンエマルジョン、及び上記ポリシロキサン混合物を（Ｄ）界面活性剤を添加した（Ｅ）水中に乳化分散させ、このエマルジョン中で上記ポリシロキサン混合物を酸性又はアルカリ性触媒の存在下で重合するオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】紫外光においても劣化の少ない光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で示されるアルコキシケイ素化合物同士、または一般式（１）と一般式（２）で示されるアルコキシケイ素化合物を、共加水分解縮合させることにより得られるエポキシ樹脂、ＸＳｉ（Ｒ₁）_n（ＯＲ₂）_3-n （１）（式中、Ｘはエポキシ基を有する有機基、Ｒ₁はＣ１〜１０のアルキル基、アリール基又はＣ２〜５のアルケニル基を示し、Ｒ₂はＣ１〜４のアルキル基を示す。nは０〜２の整数。）Ｘ_k（Ｒ₃）_mＳｉ（ＯＲ₄）_4-(k+m) （２）（式中、Ｒ₃はＣ１〜１０のアルキル基、アリール基又は不飽和脂肪族残基を表す。k、mは０〜３の整数、且つk+mは０〜３。Ｒ₄はＣ１〜４のアルキル基を表す。）（Ｂ）硬化剤、（Ｃ）硬化促進剤を含有することを特徴とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ダメージ毛髪に対して、洗浄およびすすぎの際のきしみ感をなくし、さらに環境への影響が少ない毛髪洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の毛髪洗浄剤組成物は、（Ａ）シリコーンエマルジョン０．０１〜２０重量％と、（Ｂ）洗浄性界面活性剤５〜５０重量％と、（Ｃ）コンディショニング剤０．１〜２０重量％、および（Ｄ）水をそれぞれ含有する。（Ａ）シリコーンエマルジョンは、（ａ）シラノール基末端ポリジオルガノシロキサンと、（ｂ）一般式：Ｒ^２Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎＳＯ_３Ｍ（式中、Ｒ^２は炭素原子数８〜２０の飽和または不飽和の炭化水素基を表し、Ｍはアンモニウムまたは有機アミン類を表す。ｎは０〜５の数を表す。）で示されるアニオン性界面活性剤、および（ｃ）水から乳化重合により得られるポリオルガノシロキサンエマルジョンである。 （もっと読む）

【解決手段】 非水溶媒と電解質塩と下記式（１）で示されるポリシロキサンとを必須成分とすることを特徴とする非水電解液。
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基であり、Ｒ²はメチル基、エチル基、プロピル基又はアセチル基のいずれかである。ｍは３〜６の整数、ｎは１〜６の整数である。）
【効果】 本発明のエーテル基を有する環状ポリシロキサンを含む非水電解液を使用した電池は、優れた温度特性及び高出力特性を有する。 （もっと読む）

【課題】室温下ではべたつきがなく、適度な融点を持ち、融解することにより良好な流動性を示し、これを配合してなる製品において、室温下では移行がなく、当該製品を加熱することにより十分に滲み出て、良好な離型効果を発揮させることのできるワックス状のオルガノポリシロキサンを提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化学構造を持ち、融点が５５℃〜１１５℃、１２０℃における粘度が５０ｍＰａ・Ｓ以下、および５０℃における針入度が１５以下である。
【化１】
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【課題】
光学デバイス・光学部品用材料、電子デバイス・電子部品用絶縁材料、コーティング材料等に有用な硬化性シリコーン樹脂組成物であって、耐熱性、耐光性および耐クラック性に優れた硬化物を与える組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）(a)ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に３個以上有するシロキサン系化合物と、(b)付加反応性炭素−炭素二重結合を１分子中に２個有する多環式炭化水素との付加反応生成物であって、かつケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個以上有するシロキサン−多環式炭化水素系化合物、
（Ｂ）１分子中にアクリロイル基および／またはメタクリロイル基を合計２個以上有する有機化合物、
（Ｃ）ヒドロシリル化反応触媒、ならびに
（Ｄ）ヒンダードアミン化合物、
を含有する硬化性シリコーン樹脂組成物。 （もっと読む）

ヒドロシリル化反応条件下でヒドリドシリコーンを（好ましくは）長鎖オレフィンと不完全に反応させて、部分置換ヒドリドシリコーンを生成させ、これをさらにヒドロシリル化反応条件下でビニル含有ＭＱ樹脂と反応させて、残存するヒドリド種を部分的に消費し、これを次に残りのヒドリド種を消費するヒドロシリル化反応条件下で長鎖ジオレフィンと反応させて、可撓性支持体の塗工に際してミスト防止剤として有用な組成物を生成する。 （もっと読む）

ヒドロシリル化反応条件下でヒドリドシリコーンを（好ましくは）長鎖オレフィンと不完全に反応させて、部分置換ヒドリドシリコーンを生成させ、これをさらにヒドロシリル化反応条件下でビニル含有ＭＱ樹脂と反応させて、残存するヒドリド種を部分的に消費し、これを次に残りのヒドリド種を消費するヒドロシリル化反応条件下で長鎖ジオレフィンと反応させて、可撓性支持体の塗工に際してミスト防止剤として有用な組成物を生成する。 （もっと読む）

アミノ官能性シロキサンポリマーの粘度を安定化する方法であって、前記アミノ官能性シロキサンポリマー又は前記アミノ官能性シロキサンポリマーが生成する試薬にジアルコキシジアルキルシランを添加することを含む方法。 （もっと読む）