【課題】ハロゲン系腐食性ガス、プラズマ等に対する耐食性、かつ、耐熱衝撃性に優れており、半導体・液晶製造装置等、特に、プラズマ処理装置において導電性が求められる部材に好適に使用することができる耐プラズマ性を有する導電性セラミックス焼成体を提供する。
【解決手段】イットリアに、タングステンまたは／およびモリブデンがイットリアに対して５０重量％以上３００重量％以下分散し、開気孔率が０．２％以下、２５℃での体積抵抗率が１０^-6Ω・ｃｍ以上１０^-1Ω・ｃｍ以下であり、少なくとも１個の通気孔を有するように構成されたセラミックス焼成体を用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属ナノ粒子を用いた紫外線遮断材料を開示する。
【解決手段】紫外線遮断材料は、表面プラズモン吸収波長を用いて紫外線波長を吸収遮断するナノサイズの金属粒子および誘電体を含んでおり、金属ナノ粒子の表面プラズモン吸収波長または誘電体によって転移されたプラズモン吸収波長で紫外線波長または特定の波長を吸収遮断させることで、携帯電話などの画像表示装置への適用時に優れた視認性を発揮する。 （もっと読む）

【課題】スピッティングを生じないようにした非金属を含む複数の物質から成るスパッタターゲット及びそのようなスパッタターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタターゲットは、コバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ニッケル（Ｎｉ）又は鉄（Ｆｅ）から成る第１の物質と、炭素（Ｃ）、炭素（Ｃ）含有物質、炭化物、窒素（Ｎ）含有物質、窒化物、珪素（Ｓｉ）含有物質又は珪化物、酸素（Ｏ）含有物質、酸化物、ホウ素（Ｂ）、ホウ素（Ｂ）含有物質又はホウ化物から成る第２の物質とを少なくとも含む複数の物質から成り、第２の物質は５０ミクロン以下の平均サイズを有する相を構成し、第１の物質を１５原子パーセント以上含有する。前記スパッタターゲットを、物質混合工程、混合物の容器詰め工程及びＨＩＰ圧密化工程を経て製造する。 （もっと読む）

本発明は、圧延／焼結方法による、高密度の、耐熱性金属生成物の製造方法に関する。本発明は、スパッタリングターゲットの製造方法、及びこのように製造されたスパッタリングターゲットにも関する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ターゲット材の大面積化も容易にでき、その材質も板厚方向、幅方向、長手方向に均一であって、さらには、圧延後の焼鈍も不要となるタ−ゲット用金属部材の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 高融点金属粉末を金属製容器に嵩密度ρ_sで充填する工程、該容器の内部を真空状態にした後密閉する工程、該容器を600℃以上1200℃以下の温度で圧延率Rsまで圧延する工程、からなる方法であって、該高融点金属の密度がρ₀である場合、圧延率RsをR_s={1-α×(ρ_s/ρ₀)}×100(%)で規定し、αを0.50以上0.90以下にすることを特徴とする金属部材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】接点間の耐溶着特性を向上し得る真空バルブを提供することにある。
【解決手段】相対的に接離可能な固定側接点１０ａ及び可動側接点１０ｂと、固定側接点１０ａ及び可動側接点１０ｂを真空状態に保持する真空容器３とを備えた真空バルブ１であって、固定側接点１０ａ及び可動側接点１０ｂの接点間にアークを発生させながら突入電流を与え、固定側接点１０ａ及び可動側接点１０ｂの接点間の耐溶着性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】ステージ等の移動体の高速移動に伴う振動を高精度に制御するために用いられる質量体において、大型で、かつ、複雑な形状を付与することが可能な振動制御用質量体を提供する。
【解決手段】振動制御用質量体７０、２００は、マスクまたは基板を保持して移動する移動体を備えた露光装置において移動体の移動に伴う振動を制御するために移動体に取り付けられる振動制御用質量体であって、複数の部材を備え、複数の部材の各々がタングステン合金からなり、このタングステン合金は主成分としてタングステンを８０質量％以上９９質量％以下含み、複数の部材は、本体部７１と、本体部７１を露光装置のリニアガイド５０２にネジで連結するための連結部材７２とを含み、連結部材７２の厚みＬが５ｍｍ以上５０ｍｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、主に磁気記録媒体における下地膜など電子部品用の薄膜を形成するために用いられるＷＶ系ターゲット材の製造方法を提供する。
【解決手段】 原子％で、Ｖ：５〜５０％、残部Ｗからなり、原料粉末として平均粒径１５０μｍ以下のＶ粉末と平均粒径１０〜５０μｍのＷ粉末を使用し、１２５０〜１４００℃で固化成形したことを特徴とするＷＶ系ターゲット材の製造方法。また、上記原料粉末としてのＶ粉末の平均粒径を２０〜１５０μｍとすることを特徴とするＷＶ系ターゲット材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、主に磁気記録媒体における下地膜など電子部品用の薄膜を形成するために用いられるＭｏＶＢ系ターゲット材の製造方法を提供する。
【解決手段】 原子％で、Ｖ：５〜５０％、Ｂ：０．５〜５％、残部Ｍｏからなり、原料粉末として、平均粒径が２０μｍ以下のＢ粉末を使用し、固化成形をしたことを特徴とするＭｏＶＢ系ターゲット材の製造方法。また、上記成形温度１２００〜１４００℃で固化成形したＭｏＶＢ系ターゲット材の製造方法。さらに、上記Ｂ粉末の平均粒径を０．５〜２０μｍとしたＭｏＶＢ系ターゲット材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体に用いられるＣｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金の軟磁性膜を成膜するためのＣｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金ターゲット材に関して、良好なスパッタリング特性を有する低透磁率のＣｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金ターゲット材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が（Ｃｏ_Ｘ−Ｆｅ_{１００−Ｘ}）_{１００−（Ｙ＋Ｚ）}−Ｚｒ_Ｙ−Ｍ_Ｚ、２０≦Ｘ≦７０、２≦Ｙ≦１５、２≦Ｚ≦１０で表され、前記組成式のＭ元素が（Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ）から選ばれる１種または２種以上の元素であるスパッタリングターゲット材であって、ミクロ組織におけるＨＣＰ−Ｃｏからなる相とＦｅを主体とする合金相とが微細に分散しているＣｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金スパッタリングターゲット材である。 （もっと読む）

【課題】 低温度域での塑性加工性に優れたＭｏスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 希土類元素から選ばれる１種類以上の元素を１〜１００質量ｐｐｍ含有し、残部はＭｏ及び不可避的不純物でなるＭｏスパッタリングターゲット材であり、前述の希土類元素はＬａ、Ｃｅの何れか１種または２種を選択するのが好ましい。更に希土類元素の効果を確実に得るには、Ｎ、Ｏ等のガス成分は極力少ない方が好ましく、Ｎは５０ｐｐｍ以下、Ｏは５００ｐｐｍ以下であり且つＮとＯの総量が５００ｐｐｍ以下の範囲が望ましい。 （もっと読む）

【課題】放電加工時に発生し易い放電カス（スラッジ）が発生しにくく、耐久性に優れた電極を提供することを目的とする。
【解決手段】放電加工作業時に放電加工液34を噴出する開口孔部15と、内部空洞部10とを有する殻形状である。光造形法にて製造され、表面は機械切削面である。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物の含有量が少なく、かつ優れた特性（寸法精度）を有する金属焼結体を製造可能な脱脂体および成形体を、安全、容易かつ安価に製造するのに用いられる成形体形成用組成物、およびかかる成形体形成用組成物を用いて製造され、優れた特性を有する脱脂体および焼結体を提供すること。
【解決手段】本発明の成形体形成用組成物（組成物）１０は、主として金属材料で構成された粉末１と、オゾンにより分解可能な第１の樹脂３と、この第１の樹脂３に遅れて分解する第２の樹脂４と、分散剤（添加剤）５とを含有する結合材２とを含むものであって、この組成物１０を成形してなる成形体を、オゾン含有雰囲気に曝すことにより、第１の樹脂３を分解・除去した後、前記オゾン含有雰囲気よりオゾン濃度の低い低オゾン含有雰囲気に曝し、その後、加熱することにより第２の樹脂４を分解・除去して、脱脂体を得るのに用いられることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】内燃機関における触媒、とくに、小型の内燃機関における触媒に使用することができる触媒担体、かかる触媒担体に使用可能な多孔質構造体とその製造方法を提供する。
【解決手段】中空な収容空間１１ｈを有する金属製の外殻部材１１と、外殻部材１１の収容空間１１ｈ内に配設された多孔質構造を有する金属製の内部構造体２１と、内部構造体２１の外周面と外殻部材１１の収容空間１１ｈ内面との間に配置された金属粉末ｍを含有する基礎材料によって形成された収縮性を有する結合材料２２とからなる基礎構造体２０を形成し、基礎構造体２０を加熱して、結合材料２２から基礎材料を除去して金属構造体を形成し、金属構造体を、真空又は不活性ガス雰囲気中で加熱して、金属粉末ｍ同士、金属粉末ｍと内部構造体２１、金属粉末ｍと外殻部材１１を接合させる。 （もっと読む）

【課題】立方体又はそれ以外の多面体形状を有する金属微粒子を工業的規模で製造できる方法を提供する。
【解決手段】多面体金属微粒子を製造する方法であって、（１）水溶性高分子及び金属塩を含む混合溶液を塗布、乾燥させて薄膜を形成する第１工程、（２）前記薄膜を熱処理することにより金属塩を還元して、多面体金属微粒子が前記高分子中に分散してなる複合フィルムを得る第２工程を含むことを特徴とする多面体金属微粒子の製造方法に係る。 （もっと読む）

【課題】 ＣｏＷ系ターゲット材の相対密度が１００％で、かつ加工性に優れたＣｏＷ系ターゲット材の作製を可能にしたハードディスクドライブ用のＣｏＷ系ターゲット材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ＣｏＷ系ターゲット材において、原料となるＣｏ粉末の平均粒径を５０〜５００μｍ、Ｗ粉末の平均粒径を１０〜２００μｍとしたことを特徴とするＣｏＷ系ターゲット材。また、上記ＣｏＷ系ターゲット材において、Ｗの含有量を３０〜８０ａｔ％としたことを特徴とするＣｏＷ系ターゲット材およびその製造方法。 （もっと読む）

本発明は、Ｍｏ及びＷを含有する複合体粉末の製造方法に関し、その際にＭｏ又はＷ金属粉末を含む粉末状の出発物質Ａを：出発物質ＡとしてＭｏ又はＭｏ−Ｗ合金が存在する場合に、Ｗの酸化物化合物を含む粉末状の出発物質Ｂと；又は出発物質ＡとしてＷが存在する場合に、Ｍｏの酸化物化合物を含む粉末状の出発物質Ｂと、混合し、前記混合物中でＭｏ対Ｗの質量比（Ｖ）を１：９９〜９９：１の大きさに調節し、かつ粉末混合物を、少なくとも一段階の還元過程にかけ、その過程で、出発物質Ａ中に含まれる金属又は金属合金の粒子は少なくとも部分的に、好ましくは完全に、使用される出発物質Ｂの金属の層と共に重複成長される。 （もっと読む）

本発明は、複合体粉末の製造方法に関するものであり、その際に、少なくともタングステン及び／又はモリブデン及び／又はこれらの金属の合金及び／又は化合物を含む粉末状の出発物質Ａを、少なくともＣｏ及び／又はＦｅ及び／又はＮｉ及び／又はこれらの金属の合金及び／又は化合物を含む粉末状の出発物質Ｂと混合し、その際に混合物中で、タングステン及び／又はモリブデン対Ｃｏ及び／又はＮｉ及び／又はＦｅの元素比を、９９：１（Ａ：Ｂ）〜５０：５０（Ａ：Ｂ）質量％の大きさに調節し、かつ粉末混合物を還元過程にかけ、その過程で使用されるＣｏ、Ｆｅ及び／又はＮｉが層Ｗ及び／又はＭｏと共に重複成長される。こうして取得される複合体粉末は、その後の加工工程において部分的に浸炭、窒化又は浸炭窒化されることができる。
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本発明は構造化表面を有する半製品において、少なくとも１つの高融点金属を有し、酸化し、且つ次に還元した表面を含む半製品、およびそれらの製造方法、および高キャパシタンス素子の製造へのそれらの使用も含む。 （もっと読む）

【課題】出力因子が高く、かつ熱伝導度が小さいＦｅ₂ＶＡｌ基ホイスラー化合物及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】次の（１）式で表される組成を有するホイスラー化合物からなる熱電材料及びその製造方法。
（Ｆｅ_1-zＭ１_z)_2-y(Ｖ_1-uＭ２_u)(Ａｌ_1-xＭ３_x) ・・・（１）
但し、Ｍ１は、３ｄ、４ｄ、５ｄ遷移金属元素（Ｆｅを除く）からなる群から選ばれるいずれか１以上の元素。Ｍ２は、３ｄ、４ｄ、５ｄ遷移金属元素（Ｖを除く）からなる群から選ばれるいずれか１以上の元素。Ｍ３は、IIIｂ族元素（Ａｌを除く）及びIVｂ族元素からなる群から選ばれるいずれか１以上の元素。０≦ｘ≦１．０、０＜ｙ≦０．８、０≦ｚ≦０．５、０≦ｕ≦０．５、０≦ｘ＋ｚ＋ｕ。 （もっと読む）